「WSt」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

While a stage WST is driven, X scales 39X_1 and 39X_2 provided on the stage WST are scanned using X heads 66_5 and 66_0 having measuring directions along an X axis to compare and measure an X position of the stage WST.例文帳に追加

ステージＷＳＴを駆動しつつ、Ｘ軸方向を計測方向とするＸヘッド６６_5，６６_0を用いてステージＷＳＴ上に設けられたＸスケール３９Ｘ_1，３９Ｘ_2を走査して、ステージＷＳＴのＸ位置を比較計測する。 - 特許庁

The WST stores a segment in the message identified to include the control program segment.例文帳に追加

ＷＳＴは制御プログラムセグメントを含むと識別されたメッセージ中のセグメントを記憶する。 - 特許庁

To extract WST(word system teletext) data inserted into a vertical synchronization period of PAL.例文帳に追加

ＰＡＬの垂直同期期間に挿入されているＷＳＴデータを抽出する。 - 特許庁

During the operation of an aligner, the position of a wafer stage WST is measured by encoder heads 64-68 and Z heads 74, 76, and the wafer stage WST is driven and controlled according to the result.例文帳に追加

露光装置の稼働中、エンコーダヘッド６４〜６８及びＺヘッド７４，７６を用いてウエハステージＷＳＴの位置を計測し、その結果に従ってウエハステージＷＳＴを駆動制御する。 - 特許庁

Therefore, the stage WST is affected less due to oscillations caused by a counter force produced in the stators when the stage WST is driven, so that the stage can be improved in positional controllability.例文帳に追加

従って、ステージＷＳＴの駆動時に固定子に生ずる反力に起因する振動の影響を軽減することができ、ステージの位置制御性を向上することができる。 - 特許庁

To provide a system to program a wireless subscriber terminal WST providing complete flexibility in the case of programming the WST from a remote program database or re-programming it.例文帳に追加

遠隔のプログラムデータベースからＷＳＴをプログラミング又は再プログミングする際に完全な柔軟性を与えるＷＳＴをプログラミングするためのシステムを提供することを目的とする。 - 特許庁

Namely, an arrangement interval Wdt of a partition 42, and a width Wst of the red organic light-emitting element 10R or the green organic light-emitting element 10G satisfy the relationship of Wdt>Wst.例文帳に追加

すなわち、隔壁４２の配置間隔Ｗｄｔ、赤色有機発光素子１０Ｒまたは緑色有機発光素子１０Ｇの幅Ｗｓｔは、Ｗｄｔ＞Ｗｓｔを満たす。 - 特許庁

A control program controlling the operation of the WST is updated by using a series of messages that are simultaneously sent to one WST or over via a broadcast control channel from a base station.例文帳に追加

ＷＳＴの動作を制御する制御プログラムは、基地局からブロードキャスト制御チャネルを介して１つ以上のＷＳＴへ同時に送信される一連のメッセージを用いて更新される。 - 特許庁

At step 119, the wafer W is loaded to the wafer stage WST where search alignment is performed and residual rotary amount of the wafer W for the wafer stage WST is calculated.例文帳に追加

次のステップ１１９では、ウエハＷをウエハステージＷＳＴにロードし、ウエハステージＷＳＴでは、サーチアライメントを行って、ウエハステージＷＳＴに対するウエハＷの残留回転量を算出する。 - 特許庁

To provide an optical disk recording device capable of further improving write-in accuracy by newly creating a unique write strategy (WST) on the basis of a renewed fundamental WST.例文帳に追加

更新されたベースとなるライトストラテジ（ＷＳＴ）に基づいて固有ＷＳＴを新たに作成することにより、書き込み精度をより向上させることのできる光ディスク記録装置を提供する。 - 特許庁

The plurality of sensor heads for measuring the position of a stage WST moving in a predetermined plane, for example, Y heads 64 and 65 for measuring a Y position of the stage WST and Z heads 74 and 76 for measuring a surface position of an upper surface of the table WTB are disposed opposite the upper surface of the stage WST.例文帳に追加

所定平面内を移動するステージＷＳＴの位置を計測するために、ステージＷＳＴ上面に対向して複数のセンサヘッド、例えばステージＷＳＴのＹ位置を計測するＹヘッド６４，６５、テーブルＷＴＢ上面の面位置を計測するＺヘッド７４，７６、が配置されている。 - 特許庁

A reference wafer WF having a known position relation and a mark M_ijk is placed on a wafer stage WST.例文帳に追加

既知の位置関係にあるマークＭ_ijkが付与された基準ウエハＷＦをウエハステージＷＳＴに載置する。 - 特許庁

Based upon the measured distortions, the measured value of the encoder measuring the position of the stage WST is corrected.例文帳に追加

計測された歪みに基づいて、ステージＷＳＴの位置を計測するエンコーダの計測値を補正する。 - 特許庁

A stage WST is driven by a linear motor 36X, in the direction of an X axis, along a guide member 42.例文帳に追加

リニアモータ３６Ｘにより、ステージＷＳＴがガイド部材４２に沿ってＸ軸方向に駆動される。 - 特許庁

An X position of a stage WST is measured using encoder heads (X heads) 66_7 and 66_0 having a measurement direction along an X axis, and an X scale 39X_1 provided on the stage WST opposite them.例文帳に追加

Ｘ軸方向を計測方向とするエンコーダヘッド（Ｘヘッド）６６_7，６６_0とそれらに対向してステージＷＳＴ上に設けられたＸスケール３９Ｘ_1を用いて、ステージＷＳＴのＸ位置を計測する。 - 特許庁

Further, it is found that an apoptosis activity increases by combination of 2D7-DB with IFNα or IFNγ from a result of consideration about the cell survival degree in a case where the interferon and anti-HLA class-I are used in combination by a WST-8 assay.例文帳に追加

さらに、WST-8アッセイにより、インターフェロンと抗HLAクラスI抗体を併用した場合の細胞生存度を検討ところ、2D7-DBとIFNαまたはIFNγとの組み合わせにより、細胞死活性が増大することがわかった。 - 特許庁

The system programs a WST 24 by using a broadcast channel in a wireless communication system.例文帳に追加

ワイヤレス通信システムのブロードキャストチャネルを用いてワイヤレス加入者端末（ＷＳＴ）をプログラミングするシステムである。 - 特許庁

The Y heads 65 and 64 belonging to the head units 62A and 62C face the Y scales 39Y_1 and 39Y_2 on a wafer stage WST in exposure and measure the position of the wafer stage WST in the Y axis direction and the θz direction.例文帳に追加

ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃに属する各Ｙヘッド６５，６４は、露光時にウエハステージＷＳＴ上のＹスケール３９Ｙ_1，３９Ｙ_2に対向してウエハステージＷＳＴのＹ軸方向及びθｚ方向の位置を計測する。 - 特許庁

Also, in the circuit 16, a sampling timing is set at a frequency two times the WST data clock (horizontal synchronization frequency fH×888) to sample a piece of WST data twice at positions with different phases.例文帳に追加

また、ＷＳＴ検出回路１６では、サンプリングタイミングをＷＳＴデータクロックの２倍（水平同期周波数ｆ__Ｈ×８８８）の周波数に設定しておき、１つのＷＳＴデータに対して位相が異なる位置で２回サンプリングする。 - 特許庁

The wafer stage WST is driven based on the known position relation and the position measurement result of the wafer stage WST, which is obtained using a position measuring system, and a detection pattern m_ijk is exposed over again on the mark M_ijk on the reference wafer WF.例文帳に追加

既知の位置関係と、位置計測系を用いて得られるウエハステージＷＳＴの位置計測結果と、に基づいてウエハステージＷＳＴを駆動し、基準ウエハＷＦ上のマークＭ_ijkに検出パターンｍ_ijkを重ね露光する。 - 特許庁

When a thrust force in the X direction is applied, the wafer stage WST generates the leak thrust force, the strength of which is changed according to a position of the wafer stage WST in the X direction (for example, thrust force to the Z direction: Z side forth).例文帳に追加

ウェハステージＷＳＴは、Ｘ方向の推力が与えられた場合に、ウェハステージＷＳＴのＸ方向の位置に応じて大きさが変化する漏れ推力（例えば、Ｚ方向の推力：Ｚサイドフォース）を生ずる。 - 特許庁

Head units 62A to 62F are installed so as to measure the position of a stage WST moving in a predetermined plane.例文帳に追加

所定平面内を移動するステージＷＳＴの位置を計測するために、ヘッドユニット６２Ａ〜６２Ｆが設置されている。 - 特許庁

The wafer stage WST is accurately driven, in measurement ranges of the encoders 50A, 50B, etc., based on their measurement results.例文帳に追加

ウエハステージＷＳＴは、エンコーダ５０Ａ，５０Ｂ等の計測範囲内では、それらの計測結果に基づいて精度良く駆動される。 - 特許庁

Similarly, a measurement stage WST is configured to be movable on the base board 21 by the support of a self-weight canceller 57.例文帳に追加

同様に、計測ステージＷＳＴは、自重キャンセラ５７の支持によってベース盤２１上で移動可能に構成されている。 - 特許庁

A stage WST is moved while the position is monitored using an X interferometer 127 and a Y interferometer 16, and Z positions of Y scales 39Y_1 and 39Y_2 provided on an upper surface of the stage WST are measured by using surface position measuring sensors 72a to 72d.例文帳に追加

Ｘ干渉計１２７、Ｙ干渉計１６を用いて位置を監視しながらステージＷＳＴを移動させ、面位置計測センサ７２ａ〜７２ｄを用いてステージＷＳＴ上面に設けられたＹスケール３９Ｙ_１，３９Ｙ_２のＺ位置を計測する。 - 特許庁

An aligner includes various measurement errors included in measured values of an encoder and a surface position sensor used to measure the position of a stage WST.例文帳に追加

ステージＷＳＴの位置を計測するために使用されるエンコーダ及び面位置センサの計測値には、様々な計測誤差が含まれる。 - 特許庁

This processing is repeated, while the wafer stage WST is moved finely along the mirror surface of the moving mirror 12 which is a measuring object.例文帳に追加

以上の処理を計測対象の移動鏡１２の鏡面に沿ってウェハステージＷＳＴを微小移動させながら繰り返す。 - 特許庁

Thus, when the stage WST, for example, moves, the stage supporting member 18 moves by specified amount in the direction opposite in the stage WST under the drive reaction for absorbing the force, so that the momentum is preserved for the substrate for the entire substrate stage device, causing no change in the center of gravity of the entire device.例文帳に追加

このため、例えばステージＷＳＴが移動した際に、その駆動反力によりステージ支持部材１８がステージＷＳＴと反対向きに所定量移動してその力を吸収するため、基板ステージ装置全体で運動量が保存され、装置全体の重心位置は変化しない。 - 特許庁

The plurality of alignment systems can thus simultaneously measure a plurality of marks on the wafer when the wafer stage WST is moved in the Y axis direction.例文帳に追加

このため、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動の際に、ウエハ上の複数のマークを複数のアライメント系で同時に計測可能になる。 - 特許庁

During exposure operation and/or alignment measurement, the position information of a wafer stage WST is measured using an encoder system by a control unit.例文帳に追加

露光動作、及び/又はアライメント計測中、制御装置により、エンコーダシステムを用いてウエハステージＷＳＴの位置情報が計測される。 - 特許庁

The respective encoder heads project measurement beams on scales 39Y1 and 39Y_2, and 39X_1 and 39X_2 provided on an upper surface of the stage WST.例文帳に追加

各エンコーダヘッドから、計測ビームが、ステージＷＳＴの上面に設けられているスケール３９Ｙ_1、３９Ｙ_2、３９Ｘ_1、３９Ｘ_2に投射される。 - 特許庁

First positional information of a stage WST is measured using an interferometer system, for example, an X interferometer 126 and a Y interferometer 16.例文帳に追加

干渉計システム、例えばＸ干渉計１２６とＹ干渉計１６とを用いてステージＷＳＴの第１の位置情報を計測する。 - 特許庁

When a wafer stage WST is driven to a +Y direction, a slit 122 is scanned in a Y-axis direction against a space image of a measurement mark PM.例文帳に追加

ウエハステージＷＳＴが＋Ｙ方向に駆動されると、スリット１２２が計測マークＰＭの空間像に対してＹ軸方向に走査される。 - 特許庁

In the encoders 50A, 50B, etc., two pieces of position information of the wafer stage WST are accurately measured since the short-term stability of the measurement values is excellent.例文帳に追加

エンコーダ５０Ａ，５０Ｂ等は、計測値の短期安定性が良好であるので、ウエハステージＷＳＴの２位置情報が精度良く計測される。 - 特許庁

Based upon measurement results thereof, calibration data for equalizing the measurement results of the X heads 66_5 and 66_0 are generated for XY positions of the stage WST.例文帳に追加

その計測結果に基づいて、ステージＷＳＴのＸＹ位置に対して、Ｘヘッド６６_5，６６_0の計測結果を一致させる較正データを作成する。 - 特許庁

Thus, an error caused by variation in peripheral magnetic field mainly associated with the movements both wafer stages WST1 and WST 2 can be corrected.例文帳に追加

これにより、主として両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に起因する誤差を補正することができる。 - 特許庁

A wafer stage WST for retaining a wafer W and a measurement stage MST equipped with various kinds of measuring instruments are constituted movably on a base board 12.例文帳に追加

ウェハＷを保持するウェハステージＷＳＴ及び各種計測機器を備える計測ステージＭＳＴは、ベース盤１２上で移動可能に構成されている。 - 特許庁

Accordingly, it is possible to maintain optical path periphery of the exposure beam in a vacuum environment, without having to provide a vacuum chamber for accommodating the wafer W, the wafer holder WH, and a wafer stage WST so that the body of the aligner as a whole can be miniaturized and also access to the vicinity of the wafer stage WST is facilitated.例文帳に追加

従って、ウエハＷやウエハホルダＷＨ、並びにウエハステージＷＳＴを収容する真空チャンバを設けずに、露光ビームの光路周辺を真空環境に維持することが可能となり、露光装置全体の小型化を図ることができるとともに、ウエハステージＷＳＴ近傍へのアクセスが容易となる。 - 特許庁

When a stage WST whereon an object is mounted is driven in an X-axis direction by a first driving mechanism, the reaction force of a driving force acts on a part of the first driving mechanism.例文帳に追加

物体が載置されるステージＷＳＴが第１駆動機構によりＸ軸方向に駆動されると、その駆動力の反力が第１駆動機構の一部に作用する。 - 特許庁

The stage WST is moved along the X axis and a difference between measured values of both the heads 66_7 and 66_0 is found at each of measurement points set at predetermined intervals along the X axis.例文帳に追加

ステージＷＳＴをＸ軸方向に移動させ、Ｘ軸方向に所定間隔で設定された計測点毎に、両ヘッド６６_7，６６_0の計測値の差分を求める。 - 特許庁

An image of a composite pattern composed of a part where the first and second patterns are overlapped is formed on a wafer W held by a wafer stage WST on the image surface.例文帳に追加

そして、第１パターンと第２パターンとの重なり部から成る合成パターンの像が、その像面にウエハステージＷＳＴによって保持されたウエハＷ上に形成される。 - 特許庁

The exposure device comprises a stage WST moving in the XY plane while holding a substrate and having a reflection surface 134 intersecting the XY plane, and a measurement device 20Y'.例文帳に追加

露光装置は、基板を保持して、ＸＹ平面内で移動し、ＸＹ平面に交差する反射面１３４を有するステージＷＳＴと、計測装置２０Ｙ’とを備えている。 - 特許庁

Prior to measuring the characteristics of an alignment detection system AS, a wafer holder 25 is separated temporarily from a wafer stage WST and returned onto the wafer stage (steps 132, 134).例文帳に追加

アライメント検出系ＡＳの特性を計測するのに先立ち、ウエハホルダ２５をウエハステージＷＳＴから一旦離間させた後、ウエハステージ上に戻す（ステップ１３２，１３４）。 - 特許庁

With an object W being moved along the movement surface by driving a stage WST using a driver 11, an exposure beam irradiates the object W to transfer a specified pattern onto the object W.例文帳に追加

駆動装置１１を用いてステージＷＳＴを駆動することにより物体Ｗを移動面に沿って移動させつつ、露光ビームを照射して所定のパターンの転写を行う。 - 特許庁

When the wafer stage WST effects an operation concerned in exposure treatment, the position is fixed in at least one direction between X-direction and Y-direction of the measurement stage MST.例文帳に追加

ウェハステージＷＳＴが露光処理に係る動作を行っている際に、計測ステージＭＳＴはＸ方向及びＹ方向の少なくとも一方向の位置が固定されている。 - 特許庁