「Action Group」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（１）（Ａ）イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin component (A) which has a constitutional unit (a0) derived from an acrylic ester containing a non-acid-dissociable group having a carbon-carbon triple bond, and of which the solubility in an alkali developer increases by the action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure to light.例文帳に追加

炭素−炭素三重結合を有する非酸解離性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains an acid generating agent by light having a specific structure which generates an acid by the irradiation with active light or radiation and a polymer having a repeating structural unit of a specific structure, a repeating structural unit of a specific structure having an alicyclic ring in the main chain and a group decomposing by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物、特定の構造の繰り返し構造単位と主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し構造単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type silicon-containing photosensitive composition contains (a) a polysiloxane or polysilsesquioxane having a group decomposable by a carboxylic acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid, (b) a compound which generates the carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸により分解しうる基を有し、かつアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、（ｄ）溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。 - 特許庁

When carbon mills are oxidized by the application of a mechanical friction heat, an electrolytic action, or an oxidizer such as strong acid, in the presence of ultrasonic wave or magnetic field, superfine oxidized carbon colloid is produced which forms the functional group containing oxygen on the surface of each carbon particle to be used as a plant growth agent.例文帳に追加

カーボン端材等の機械的摩擦熱による酸化、電解酸化、強酸などの酸化剤による酸化、更に、これらの処理を超音波Ｓや磁場の存在下で行うことによりカーボン粒子12表面に酸素含有官能基を形成した超微細な酸化カーボンコロイドであり、これを植物生育剤などにする。 - 特許庁

The resist composition for immersion exposure contains a resin component (A), whose alkali solubility is varied by the action of an acid, wherein the resin component (A) contains a high-molecular compound (A1) having a constitutional unit (a0) having an acid generating group which generates acid by irradiation with radiation.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、放射線の照射により酸を発生する酸発生基を有する構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁

The coating forming agent used to form a fine pattern by coating the surface of a substrate having a photoresist pattern and narrowing the spacing of the photoresist pattern by its heat-shrinking action comprises a water-soluble polymer and an amido group-containing monomer.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間隔を狭小せしめて微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、水溶性ポリマーとアミド基含有モノマーを含むパターン微細化用被覆形成剤、および該被覆形成剤を用いた微細パターンの形成方法。 - 特許庁

The ADAM action inhibitor contains at least one as an effective component selected from compositions or their salts having a structure with a nitrogen atom constituting one amino group in alkyl polyamine or a derivative thereof linked to an isoquinoline framework with or without interposition of a linker.例文帳に追加

イソキノリン骨格に対して、リンカーを介在させて又は介在させずに、アルキルポリアミン又はその誘導体における一個のアミノ基を構成する窒素原子が結合した構造を有する化合物及びその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有することを特徴とするＡＤＡＭ作用阻害剤。 - 特許庁

Files are constructed on the basis of details of medical treatment information and details of action information stored in a medical accounting system and medical information separately stored in a clinical history system or created by a medical treatment record input tool, etc. Information stored in the files is retrieved/worked for every diagnostic group classification.例文帳に追加

医事会計システムで蓄積される診療明細情報及び行為明細情報と、別途病歴システムで蓄積されあるいは診療録入力ツール等で作成される診療情報に基づいてファイルを構築し、診断群分類毎にこれらのファイルに蓄積する情報を検索・加工する。 - 特許庁

To prevent characteristic deterioration of a semiconductor by preventing contamination of the semiconductor due to heavy metal ions contained in a piezoelectric body and to prevent characteristic deterioration of the piezoelectric body due to a catalytic action of platinum group elements to be an electrode material, in a laminate structure wherein a magneto-optical layer/a piezoelectric layer/a thin film transistor circuit layer are layered in this order.例文帳に追加

磁気光学層／圧電層／薄膜トランジスタ回路層の順の積層構造であって、圧電体に含まれている重金属イオンによる半導体の汚染を防いで半導体の特性劣化を防止し、電極材料である白金族元素の触媒作用による圧電体の特性劣化が生じないようにする。 - 特許庁

It has been found out that one or more kinds of plants selected from the group consisting of the plants belonging to the Ericaceae Vaccinum and the plants belonging to the Rosaceae Eriobotrya or the solvent extract of these plants, particularly, Vaccinium myrtillus or the solvent extract thereof and Eriobotryae folium or its solvent extract have an remarkably excellent carpaine activity inhibiting action.例文帳に追加

ツツジ科スノキ属に属する植物、バラ科ビワ属に属する植物からなる群から選択される１種又は２種以上の植物又はそれらの植物の溶媒抽出物、特にビルベリー又はその溶媒抽出物、枇杷葉又はその溶媒抽出物は、カルパイン活性抑制作用が顕著に優れることを見出した。 - 特許庁

This method for producing a 3-substituted L-alanine as an amino acid comprises subjecting the corresponding 3-substituted 2-oxopropionic acid, the enol modification thereof or a salt thereof to enzyme action in the presence of an amino group donor; wherein the enzyme is made to act on the reactant in the presence of a metal sulfide or hydrogen sulfide.例文帳に追加

３−置換−２−オキソプロピオン酸、そのエノール体又はそれらの塩にアミノ基供与体の存在下で酵素を作用させることからなる、３−置換−Ｌ−アラニンの製造方法において、前記酵素を金属硫化物又は硫化水素の共存下で作用させることを特徴とする、アミノ酸の製造方法。 - 特許庁

The resin consists of a novolak type phenol resin obtained by reacting specified phenols with aldehydes in the presence of an acid catalyst, with a part of hydroxyl groups of the resin protected with a group capable of leaving under an action of an acid, and the phenols preferably contain terpene diphenol derived from limonene and pyrogallol.例文帳に追加

特定のフェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下で反応して得られるノボラック型フェノール樹脂中の水酸基の少なくとも一部を、酸の作用により脱離可能な基で保護したフォトレジスト用樹脂であって、フェノール類として、リモネンを出発原料とするテルペンジフェノール及びピロガロールを含有することが好ましい。 - 特許庁

This hypnotic agent composition is obtained by combinedly using an antihistamic medicine having hypnotic action, preferably at least one kind of antihistamic medicine selected from the group consisting of an ethanolamine-based compound, a propylamine-based compound, a phenothiazine-based compound, a piperazine-based compound, a piperidine-based compound and their pharmaceutically acceptable salts, and vitamin Bs.例文帳に追加

催眠作用を有する抗ヒスタミン薬、好ましくはエタノールアミン系化合物、プロピルアミン系化合物、フェノチアジン系化合物、ピペラジン系化合物、ピペリジン系化合物及びこれらの薬学上許容される塩よりなる群から選択される少なくとも１種の抗ヒスタミン薬に、ビタミンＢ類を併用する。 - 特許庁

This hypnotic agent composition is obtained by combinedly using the antihistamic medicine having hypnotic action, preferably at least one kind of antihistamic medicine selected from the group consisting of an ethanolamine-based compound, a propylamine-based compound, a phenothiazine-based compound, a piperazine-based compound, a piperidine-based compound and their pharmaceutically acceptable salts, and vitamin Es.例文帳に追加

催眠作用を有する抗ヒスタミン薬に、好ましくはエタノールアミン系化合物、プロピルアミン系化合物、フェノチアジン系化合物、ピペラジン系化合物、ピペリジン系化合物及びこれらの薬学上許容される塩よりなる群から選択される少なくとも１種の抗ヒスタミン薬に、ビタミンＥ類を併用する。 - 特許庁

In the radiation sensitive resin composition, an acid-dissociable-group-containing resin (A) which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble but becomes readily alkali-soluble under the action of an acid contains a mixture of a copolymer (A1) and a copolymer (A2) each including a repeating unit represented by specified formula and a repeating unit represented by specified formula.例文帳に追加

アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂（Ａ）が、特定式で表される繰返し単位および特定式で表される繰返し単位を含む共重合体（Ａ１）および共重合体（Ａ２）との混合物を含有する。 - 特許庁

After fitting the module 11 into the component support hole 13, action of force constantly trying to remove upward and applying from a group of contacts 16, 17 on an upper and lower face of an inner wall of the component support hole 13 to the module 11 is prevented by the hollow 14, and the module 11 can be maintained by the component support device 10 only.例文帳に追加

部品支持穴１３へモジュール１１を嵌め込み後も部品支持穴１３の内壁上下面の接点群１６及び１７からモジュール１１に対して加わる常に上方向へ外そうとする力の作用は窪み１４により抑止され、部品支持装置１０のみでモジュール１１が保持される。 - 特許庁

At the COP3, the Ad Hoc Working Group on Long-term Cooperative Action (AWGLCA) was newly established under the UNFCCC in which all the parties were required to participate; further, it was decided that the parties would reach a consensus and adopt a new post-2013 framework by 2009.例文帳に追加

本会議においては、すべての締約国が参加する気候変動枠組条約の下に、新たに「条約の下での長期的協力の行動のための特別作業部会」（アドホック・ワーキング・グループ（AWGLCA））を設置し、2013年以降の枠組みについて検討を行い、2009年までに締約国の合意を得て採択すること等が決定された。 - 経済産業省

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a fluororesin which has a specified repeating unit and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (C) a solvent and (D) a compound having at least one carboxyl group.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素含有樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）少なくともひとつのカルボキシル基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains an acid generating agent by light having a specific structure generating an acid by the irradiation with active light or radiation, a polymer, which has a repeating structural unit having a specific structure having an alicyclic ring in the main chain and a group decomposing by the action of the acid, and a fluorine based and/or silicon based surfactant.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の光酸発生剤、主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し構造単位を有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、及びフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The herbicide composition having reduced phytotoxicity is obtained by combining (a) a herbicidal compound with (b) at least one kind of a substance having a phytotoxicity reducing action selected from the group consisting of a benzisothiazolinone derivative, benzamide derivative, benzothiazole derivative, benzoxazolinone derivative, benzoxazine derivative, Tiadinil (R), isoprothiolane, hexamethylenetetramine, potassium oxalate and a vanillin derivative.例文帳に追加

（ａ）除草性化合物と、 （ｂ）ベンゾイソチアゾリノン誘導体、ベンズアミド誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾオキサゾリノン誘導体、ベンゾオキサジン誘導体、チアジニル、イソプロチオラン、ヘキサメチレンテトラミン、シュウ酸カリウム及びバニリン誘導体より成る群から選ばれる少なくとも１種の薬害軽減作用物質を組み合わせて成る薬害軽減された除草剤組成物。 - 特許庁

The resist composition includes a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the acid-generator component (B) includes an acid generator (B1) composed of a compound having a base dissociable group within a cation moiety.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、カチオン部に塩基解離性基を有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is a chemically amplified positive composition which comprises a copolymer having a unit comprising an acetal or ketal ester of (meth)acrylic acid and a (meth)acrylic ester unit having an acetal or ketal ester by way of a divalent bridged alicyclic group as a resin component having alkali solubility increased by the action of an acid, an acid generator and an aromatic solvent.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分として（メタ）アクリル酸のアセタール又はケタールエステルからなる単位と、二価の有橋脂環式基を介して、アセタール又はケタールエステルを有する（メタ）アクリル酸エステル単位とを有する共重合体と酸発生剤と芳香族系溶剤とを含む化学増幅ポジ型組成物。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive resin composition contains at least (a) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution, (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (c) an organic carboxylic acid compound, (d) a basic compound and (e) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、（ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）有機カルボン酸化合物、（ｄ）塩基性化合物、及び（ｅ）溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive resist composition includes: a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under the action of an acid; an acid-generator component (B) which generates an acid upon exposure; and a polymeric compound (F1) having a structural unit (f1) containing a base dissociable group and a sulfamoyloxyadamantyl methacrylate structural unit (f2).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）およびスルファモイルオキシアダマンチルメタクリレート構成単位（ｆ２）を有する高分子化合物（Ｆ１）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The method of manufacturing the solid electrolytic capacitor is characterized in that after a dielectric oxide film is formed on a surface of an anode body made of a sintered body of a valve-action metal, a cathode layer composed of a conductive high polymer is formed by chemical polymerization using a silane coupling agent having a sulfhydryl group, an oxidizer, and a monomer that becomes a conductive high polymer through oxidation polymerization.例文帳に追加

弁作用金属の焼結体からなる陽極体の表面に誘電体酸化皮膜を形成した後、メルカプト基を有するシランカップリング剤、酸化剤および酸化重合により導電性高分子となる単量体を用いて、化学重合により導電性高分子からなる陰極層を形成する、固体電解コンデンサの製造方法。 - 特許庁

The method for producing the sulfur-containing α-hydroxycarboxylic acid compound represented by the formula (2) (wherein R_1 is hydrogen, an alkyl group or the like) comprises subjecting a sulfur-containing ketol to the action of microbial cells of a microorganism belonging to the genus Pseudomonas, Rhodococcus or Bacillus capable of converting the ketol into a corresponding α-hydroxycarboxylic acid compound, or a treated material thereof.例文帳に追加

含硫ケトールに、当該含硫ケトールを対応するα−ヒドロキシカルボン酸化合物に変換する能力を有するシュードモナス（Pseudomonas）属、ロドコッカス（Rhodococcus）属またはバチルス（Bacillus）属に属する微生物の菌体又は菌体処理物を作用させることを特徴とする式（２）（式中、Ｒ_１は水素、アルキル基等を表す。）で示される含硫α-ヒドロキシカルボン酸化合物の製造法。 - 特許庁

The resist composition contains a resin having a polymer unit expressed by formula (I) which itself is insoluble or hardly soluble with an alkali aqueous solution but is changed into soluble with an alkali aqueous solution by the action of an acid, a solvent containing at least one kind selected from a group consisting of propylene glycol monomethylether, 2-hydroxy methyl isobutyrate and 3-methoxy-1-butanol, and an acid generator.例文帳に追加

下式（Ｉ）で示される重合単位を有し、それ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、プロピレングリコールモノメチルエーテル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル及び３−メトキシ−１−ブタノールからなる群から選ばれた少なくとも１種を含有する溶剤と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The resin for the photoresist is the one wherein at least a part of hydroxy groups of a novolac type phenol resin obtained by reacting phenols with aldehydes in the presence of an acid catalyst, is protected by a group which is releasable by the action of an acid, and the said phenols comprise m-cresol and phenols represented by a particular structural formula.例文帳に追加

フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下で反応して得られるノボラック型フェノール樹脂中の水酸基の少なくとも一部を、酸の作用により脱離可能な基で保護したフォトレジスト用樹脂であって、前記フェノール類が、メタクレゾールと、特定の構造式で表されるフェノール類とを含有することを特徴とするフォトレジスト用樹脂。 - 特許庁

The positive resist composition for an electron beam, X-rays or EUV (extreme-ultraviolet radiation) comprises (a) a resin which has a structural unit containing an acid-decomposable group of formula (X) and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic radiation.例文帳に追加

（ａ）下記一般式（Ｘ）の酸分解性基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a diagnostic information analysis system which retrieves/analyzes diagnostic results in the past and to provide an appropriate document in order to support works when a medical institution to which a payment system by comprehensive evaluation by diagnostic group classification is introduced, attempts to standardize a medical treatment action and to establish a standard medical treatment plan from now on.例文帳に追加

診断群分類による包括評価での支払方式が導入される医療機関がこれから診療行為の標準化や標準診療計画の策定を行おうとした場合に、これらの作業を支援するために、過去の診療実績の検索・分析を行い適切な資料を提供できる診療情報分析システムを提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin having repeating units with a specified alicyclic lactone structure, further having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and at least two specified compounds which generate acids when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び他に脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、特定の構造の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を少なくとも２種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and (C) a compound represented by a specified structure and containing a sulfonimide structure in its molecule.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の構造で表される分子内にスルホンイミド構造を含む化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A deposited strain of pathogenic microorganism in a vessel is acted on by an extreme factor selected from the group consisting of ultraviolet radiation with a wavelength within the limits of 0.1-0.3 μm for a period of time (t) of 10-300 sec, viruses and toxic substances, during which the action conversion of the strain of pathogenic microorganisms is effected from an active state to an inactivated state.例文帳に追加

容器中に投入した病原性微生物の株に、０．１〜０．３μｍの範囲内の波長を有し１０〜３００秒の時間ｔの期間での紫外線、ウイルス、および毒性物質からなる群より選択される過激な因子を作用させ、その作用の間に病原性微生物の株が活性状態から不活化状態に変換される。 - 特許庁

A photosensitive composition contains (A) hollow or porous particles, (B) an alkali soluble particle dispersant having a group capable of chemically binding to the particles (A), (C) a compound which generates an active species upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (D) a binder of which solubility in an alkali developer is reduced by an action of the active species.例文帳に追加

（Ａ）中空又は多孔質粒子、（Ｂ）前記粒子（Ａ）に化学的に結合可能な基を有するアルカリ可溶性粒子分散剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び（Ｄ）前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーを含有する感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin which contains a repeating unit with a specified structure having a fluorine atom and a benzene ring having a -CONH- or -SONH- group and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＣＯＮＨ−基又は−ＳＯＮＨ−基を有するベンゼン環及びフッ素原子を有する特定の構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a magnetically connective hydroponics panel enabling simple and rapid achievement of such a situation that each of a lot of panels exerts action force necessary for modification for floating movement via interaction between the panels adjacent to each other without imposing heavy burden on workers and prescribed quantities of the panels can float and move in good order independently of any group they belong.例文帳に追加

作業者に多大な負担をかけることなく多数のパネルそれぞれが、隣接するパネル間同士での相互作用により浮遊移動に向けての修正に必要な作用力を独自に発揮でき、所定数量のどのグル−プのパネル郡であっても整然と浮遊移動なさしめ得る状況を簡易且つ迅速に実現可能とすることを目的とする。 - 特許庁

This photoactive compound includes a cyclic polysiloxane and one or two or more side chains bound to a silicon atom constituting the cyclic polysiloxane, where at least a part of the side chains contains a photoactive group generating an acid by the action of light, and when a plurality of photoactive groups are present in the same molecule, they may be the same or different.例文帳に追加

環状ポリシロキサンと、該環状ポリシロキサンを構成する珪素原子に結合した１又は２以上の側鎖と、を備え、前記側鎖のうち少なくとも一部が、光の作用により酸を発生する光活性基を含み、該光活性基が同一分子中に複数存在するときそれらは同一でも異なっていてもよい、光活性化合物。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which excels in accuracy of thickness and uniformity of height and allows the manufacturing process thereof to be shortened because it has adhesive property after being photocured, and which comprises: a cyclic olefin resin (A) having a photoreactive functional group; an acid generator (B); and a compound (C) capable of curing reaction by the action of an acid generator.例文帳に追加

本発明の目的は、厚さ精度、高さ均一性に優れ、かつ、光硬化後に接着性を有するため、製造工程が短縮できる、光反応性官能基を有する環状オレフィン系樹脂（Ａ）と、酸発生剤（Ｂ）と、酸発生剤の作用により硬化反応可能な化合物（Ｃ）とを含む、感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains: (A) resin which has a specified repeating unit containing a fluorine atom and a specified (meth-)acrylic acid ester recurring unit with a group decomposable with an acid and of which solubility into an alkali developer is increased by the action of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of an active ray or a radioactive ray.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を含有する特定の繰り返し単位及び酸分解性基を有する特定の（メタ）アクリル酸エステル繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which is insoluble or hardly soluble in an alkali developer solution and becomes soluble in an alkali developer solution by the action of an acid; and (C) a basic compound having at least one cyclic ether group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The group 13 elements such as an aluminum element which have been generally recognized as impurities in spherical silica particles, and have been thought desirable to be removed as much as possible not only exhibit an action of reducing viscosity in a resin composition, but also do not show an adverse effect even in the case the same is applied to a sealing material in a semiconductor package.例文帳に追加

一般的に球状シリカ粒子中において、不純物と認識され、できる限り除去することが好ましいと考えられていた、アルミニウム元素などの１３族元素が樹脂組成物中において粘度を低下させる作用を発揮するばかりか、半導体パッケージにおける封止材に適用した場合でもこれといった悪影響の発現もない。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (C) a nitrogen-containing compound having at least one specified nitrogen-containing partial structure in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The seed disinfectant comprises an aqueous solution which comprises one or more inorganic salts selected from the group consisting of an alkali metal chloride, an alkali metal hydrogen carbonate, an alkali metal carbonate, an alkali metal borate, an alkaline earth metal chloride, an alkaline earth metal hydrogen carbonate and an alkaline earth metal carbonate each having a pH of 8-11, and has a buffer action.例文帳に追加

ｐＨが８〜１１で、アルカリ金属塩化物、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属ホウ酸塩、アルカリ土類金属塩化物、アルカリ土類金属炭酸水素塩及びアルカリ土類金属炭酸塩からなる群より選ばれた１種以上の無機塩を含有し、緩衝作用を有する水溶液からなることを特徴とする種子消毒剤。 - 特許庁