「Action Group」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition contains: (A) a resin the solubility of which with an alkali developing solution is increased by an action of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation; and (F) a surfactant having a basic group.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｆ）塩基性基を有する界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The fiber-treating agent composition, which is applied to a fiber dyed with an oxidative dye comprising a main intermediate having an amino group after a dye-removal agent for removing a dye by a reducing action of the reducing agent (A) is applied, comprises a reducing sugar (B).例文帳に追加

アミノ基を有する主要中間体を含んでなる酸化染料により染色された繊維に対し、（Ａ）還元剤の還元作用により脱染するための脱染剤が適用された後に適用される繊維処理剤組成物において、（Ｂ）還元糖を含有する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates a specified sulfonimido compound when irradiated with active light or radiation and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線または放射線の照射により、特定のスルフォンイミド化合物を発生する化合物、及び、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) at least one of compound which generates a specific sulfonic acid by the irradiation of active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を少なくとも１種 （Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

As for the future course of administrative action, we will consider it calmly in accordance with relevant laws after examining the results of the inspections of Mizuho Financial Group and Mizuho Bank and the content of reports submitted by them. 例文帳に追加

今後の行政対応についてのご質問でございますが、今後、みずほFG及びみずほ銀行に対する検査結果、及びそれを踏まえた両社からの報告内容等を精査した上で、粛々清々と法に基づいて検討していくことになると思っております。 - 金融庁

The method for modifying functionality of milk protein comprises reacting the milk protein with a protein deamidation enzyme having action deamidizing the milk protein without accompanying cleavage of peptide bond and crosslink of the protein by directly acting on amide group in the protein having ≥5,000 molecular weight to carry out deamidation and modifying the functionality.例文帳に追加

乳蛋白質に、分子量5000以上の蛋白質中のアミド基に直接作用しペプチド結合の切断及び蛋白質の架橋を伴わず脱アミドする作用を有する蛋白質脱アミド酵素を作用させて脱アミド化を行い、その機能性を改質する。 - 特許庁

The negative type resist composition contains a compound having a disulfone group and generating an acid when irradiated with electron beams or X-rays, a resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution and a crosslinker causing crosslinking with the resin under the action of the acid.例文帳に追加

ジスルホン基を有する、電子線又はＸ線の照射により酸を発生する化合物、水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び酸の作用により該樹脂と架橋を生じる架橋剤を含有する電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generated an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing repeating units each containing a group represented by a specified structure and increasing its rate of dissolution in an alkali developing solution under the action of the acid.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (a) a resin having an acid decomposable group with a specified structure and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition by the action of an acid and (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（ａ）特定構造の酸分解性基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive composition contains (A) a specified acid generator of formula (I) which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid and increases solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

(Ａ）活性光線の照射により酸を発生する（Ｉ）で示される特定の酸発生剤、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

To provide a compound having excellent cysteine protease inhibitory action and a medicine for treating or preventing diseases selected from the group consisting of osteoporosis, osteoarthrosis deformans, rheumatoid arthritis, Paget's disease of bone, hypercalcemia, cancer bone metastasis and bone ache.例文帳に追加

優れたシステインプロテアーゼ阻害作用を有する化合物、及び骨粗鬆症、変形性骨関節症、慢性関節リウマチ、骨パジェット病、高カルシウム血症、癌の骨転移、及び骨痛からなる群から選ばれる疾患治療又は予防のための医薬を提供すること。 - 特許庁

It has been found that at least one species calcium salt selected from the group consisting of calcium stearate, calcium octanoate, calcium palmitate and calcium behenate expresses excellent effect for suppressing deterioration of the fat and oil together with action for suppressing generation of the lampblack.例文帳に追加

ステアリン酸カルシウム、オクタン酸カルシウム、パルミチン酸カルシウム及びベヘン酸カルシウムからなる群から選択される少なくとも１種のカルシウム塩が、優れた油脂劣化抑制効果を示すとともに、併せて油煙発生を抑制する作用を有することを見出した。 - 特許庁

Steroid compounds possessing a hydrogen donor in 3β position, either in the form of a hydroxy- or a sulfate group, function as efficient blockers of the 3α-hydroxy-pregnan-steroid action and thus have utility as therapeutic substances for steroid-related CNS disorders.例文帳に追加

ヒドロキシまたはサルフェート基のどちらかの形態で３ベータ位置に水素供与体をもつステロイド化合物は３アルファ-ヒドロキシ-プレグナン-ステロイド作用の有効な遮断薬として機能するので、またはステロイドに関連するCNS疾患の治療物質として有用である。 - 特許庁

The photosensitive resin composition contains: a polymer having, in its main chain, one or more bonds selected from a group comprising hemiacetal ester bonds, hemiacetal bonds, and carbamate bonds, which are cleaved by the action of a basic substance; and a photobase generator.例文帳に追加

塩基性物質の作用によって開裂する、ヘミアセタールエステル結合、ヘミアセタール結合、及びカルバメート結合よりなる群から選択される１種以上の結合を主鎖に有する高分子と、光塩基発生剤とを含有する、感光性樹脂組成物である。 - 特許庁

An amide compound can be synthesized by efficiently hydrating the nitrile compound under a mild condition, by using the catalytic action caused by combining an iridium complex with an organic phosphine having an electron-attracting organic group such as a pyridylphosphine derivative.例文帳に追加

本発明の方法によれば、イリジウム錯体とピリジルホスフィン誘導体など電子吸引性の有機基をもつ有機ホスフィンの組み合わせによる触媒作用を用いて、穏和な条件下で効率良くニトリル化合物を水和してアミド化合物を合成することができる。 - 特許庁

The horizontal drive circuit 17 has shift registers 21 which carry out a shift action synchronizing with the HCK and successively output a shift pulse from each shift stage S/R, and a sampling switch group 22 which samples the 2HCK in response to the shift pulse and successively generates a sampling pulse.例文帳に追加

水平駆動回路１７は、ＨＣＫに同期してシフト動作を行い各シフト段Ｓ／Ｒからシフトパルスを順次出力するシフトレジスタ２１と、シフトパルスに応答して２ＨＣＫを抜き取ってサンプリングパルスを順次生成する抜取スイッチ群２２とを有する。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains a resin having repeating units each having a group capable of generating a specified acid and a low molecular dissolution inhibiting compound having a molecular weight of ≤3,000 and decomposable by the action of the acid.例文帳に追加

特定の酸を発生し得る基を有する繰り返し単位を有する樹脂及び酸の作用により分解する分子量３，０００以下の低分子溶解阻止化合物を含有することを特徴とする電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin component the alkali solubility of which increases by the action of an acid and an acid generator component capable of generating an acid upon exposure, wherein the resin component contains a high molecular compound containing a constitutional unit having a carboxyl group and at least one constitutional unit of an acrylic ester containing an alicyclic group.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分と、露光により酸を発生する酸発生剤成分とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分は、カルボキシ基を有する構成単位と、脂環式基を含むアクリル酸エステルの少なくとも１種の構成単位とを含む高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having at least one repeating unit having a group -SO_2-O-, further having at least one repeating unit having a fluorine atom and an acid-decomposable group, and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＳＯ_2−Ｏ−基を有する繰り返し単位を少なくとも１種有し、更にフッ素原子と酸分解性基とを有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains: a copolymer (A) containing a constitutional unit (a1) derived from an unsaturated compound having at least one group selected from active methylene and active methine groups and a constitutional unit (a2) derived from an unsaturated compound having a group which reacts under the action of light and/or heat; and a quinonediazido compound.例文帳に追加

活性メチレン基および活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ１）と、光および／または熱の作用により反応する基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ２）とを含む共重合体（Ａ）ならびにキノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

As a polymer matrix constituting the polymer solid electrolyte, a compolymerized polymer having a specific structure is used, which comprises a salt monomer having an ionic mutual action and a polymerizable functional group and being in the melted state at a room temperature and one kind or more of polymerizable monomer having good compatibility with the salt monomer and having no ion dissociation group and in which the salt monomer component is solidified in the state that it is uniformly dispersed.例文帳に追加

高分子固体電解質を構成する高分子マトリックスとして、イオン的相互作用と重合性官能基とを有し、室温で溶融状態にある塩モノマーと、該塩モノマーと相溶性が良くイオン解離基を持たない１種類以上の重合性モノマーとからなり、塩モノマー成分を均一に分散した状態のまま固定化した、特定構造の共重合ポリマーを用いる。 - 特許庁

In that case, the game apparatus 10 specifies a card group by detecting laid positions of the cards superimposed and laid on the flat panel 16a, extracts card data stored in cards constituting the specified card group, and determines a preparation state and action contents of a player character, that is the object in the game, according to a combination of the plurality of extracted card data.例文帳に追加

この場合、ゲーム装置１０が、フラットパネル１６ａ上に重畳して載置された複数のカードの各載置位置を検出することによりカード群を特定し、特定されたカード群を構成する各カードに記憶されているカードデータを抽出し、抽出された複数のカードデータの組み合わせに応じて、ゲーム中のオブジェクトであるプレイヤキャラクタの装備状態と行動内容とを決定する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin containing a repeating unit having a dihydroxy- or trihydroxyadamantyl group and a repeating unit having an acid-decomposable alicyclic group at a specified composition molar ratio and capable of increasing the velocity of dissolution in an alkali developer by the action of an acid and a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

ジヒドロキシまたはトリヒドロキシアダマンチル基を有する繰り返し単位、及び酸分解脂環基を有する繰り返し単位を各々特定の組成モル比率において含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-soluble resin, (C) a crosslinker which causes crosslinking with the resin (B) under the action of the acid and (D) a compound containing both at least one amino group selected from secondary to tertiary alicyclic amino groups and at least one carboxyl group in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 （Ｃ）酸の作用により（Ｂ）の樹脂と架橋を生じる架橋剤、 （Ｄ）分子内に２級〜３級の脂環式環状アミノ基から選ばれる少なくとも１種のアミノ基と、少なくとも１種のカルボキシル基をともに含む化合物 を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating a 2 or 3C alkylsulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, and (C) a low molecular compound containing an amino group with a nitrogen atom protected by a degradable group.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により炭素数２又は３のアルキルスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）窒素原子が分解性基で保護されたアミノ基を含む低分子化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The liquid driving and transporting structure is composed of a polymer gel 1 containing an anion group and a specific catalyst 4, swelling in a neutral or alkaline solution by the action of the anion group and contracting in an acidic solution, and a polymer solution of a solute polymer substance 2 having a size enable to enter into the network of the polymer gel 1 in swollen state and decomposable with the catalyst to acidify the solution.例文帳に追加

アニオン基と所定の触媒４を含み、前記アニオン基により中性あるいはアルカリ性溶液中で膨潤し、酸性溶液中で収縮する高分子ゲル１と、膨潤時の高分子ゲル１の網目中に入り込む大きさを有し、触媒によって分解されると溶液を酸性にする溶質高分子物質２を溶解した高分子溶液とからなる - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, (b) a resin having the residue of a compound having a lower ionization potential than p-ethylphenol in a group released by the action of the acid and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid and (c) a solvent.例文帳に追加

（ａ）電子線またはＸ線の照射により酸を発生する化合物、（ｂ）酸の作用により脱離する基の中に、ｐ−エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｃ）溶剤を含有することを特徴とする電子線またはＸ線用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (a) a specified compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, (b) a resin having the residue of a compound having a lower ionization potential than p-ethylphenol in a group which is released by the action of the acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid and (c) a solvent.例文帳に追加

（ａ）電子線またはＸ線の照射により酸を発生する特定の化合物、（ｂ）酸の作用により脱離する基の中に、ｐ−エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｃ）溶剤を含有することを特徴とする電子線またはＸ線用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

In the image transmitter, a single-action transmission key, to which transmission destination information of image data and a data form of the image data are registered in group to a one operation transmission key, and the image data is transmitted to an instructed transmission destination in a prescribed data form.例文帳に追加

１つのワンタッチ送信キーに画像データの送信先情報と送信する画像データのデータ形式とを組として登録し、ワンタッチ送信キーを操作することにより、画像データを指示された送信先に対して所定のデータ形式において送信する画像送信装置。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a resin which has a repeating unit having a specific group and increases its solubility in an alkaline developer under the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound having a disulfone group, (B) a low molecular dissolution inhibiting compound which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and has a molecular weight of ≤3,000 and (C) an alkali-soluble resin.例文帳に追加

（Ａ）ジスルホン基を有する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

Images 106-108 from cameras 103-105 provided in the plurality of ATMs 100-102 are combined to create an image 109 having a wider visual field, and the whole image is processed to acquire the number of users in front of an ATM group or action of the people.例文帳に追加

複数台のＡＴＭ１００〜１０２のそれぞれに設けられたカメラ１０３〜１０５からの画像１０６〜１０８を組み合わせてより広視野の画像１０９を作成し、その全体画像を処理することで、ＡＴＭ群前方の利用者の数や人々の行動を把握する。 - 特許庁

The negative resist composition contains (B) a crosslinking agent which crosslinks with a compound having a phenolic hydroxy group by the action of an acid; (C) a compound which generates an acid by irradiated with active rays or radiation; and (D) a phenol compound having 7 to 15 benzene rings in the molecule.例文帳に追加

（Ｂ） 酸の作用によりフェノール性水酸基を有する化合物と架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｄ）分子内に７〜１５個のベンゼン環を有するフェノール化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The polymeric compound contains a lactone skeleton-containing monomer unit represented by formula (1) (wherein R^a denotes H or the like; A denotes 1-6C alkylene or the like; and Y denotes a ≥5C divalent organic group) and a monomer unit which is eliminated by the action of an acid and becomes alkali-soluble.例文帳に追加

下記式（Ｉ）（式中、Ｒ^aは水素原子等を示し、Ａは炭素数１〜６のアルキレン基等を示し、Ｙは炭素数５以上の２価の有機基を示す）で表されるラクトン骨格を含むモノマー単位と、酸の作用により脱離してアルカリ可溶となるモノマー単位を含む高分子化合物。 - 特許庁

The chemical amplification-type positive-type resist composition comprises (A) at least one kind of an acid-generating agent containing the sulfonium salt described in the above and (B) a resin which has a polymerization unit with an acid-unstable group and which itself is insoluble or hardly soluble in alkali, but becomes soluble in alkali by the action of an acid.例文帳に追加

〔２〕（Ａ）前記〔１〕に記載のスルホニウム塩などを含む少なくとも１種の酸発生剤と、（Ｂ）酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an abnormality determining device for an internal combustion that optimizes timing for determining abnormality by delaying abnormality determination as much as possible within a range where the delay idle operation does not have a disadvantage for the idle operation in relation to the internal combustion in which corrective action of idle speed is performed to each cylinder group.例文帳に追加

各気筒群毎にアイドリング回転数の補正動作を行う内燃機関に対し、アイドリング運転に支障を来すことのない範囲で可能な限り異常判定を遅延させて異常判定タイミングの適正化を図ることが可能な内燃機関の異常判定装置を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a specified group having -NH- and a fluorine atom and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子及び−ＮＨ−を有する特定の基を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition (A) comprises a resin having a repeating unit in which a sulfonium salt structure capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation is linked to a principal chain by a linking group which degrades under the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生するスルホニウム塩構造が、酸の作用により分解する連結基によって主鎖に連結されている繰り返し単位を有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains (A) a radiation sensitive acid generator represented by formula (1) and (B) a polymer which has a cyano group in at least one of the ends of a polymer molecular chain and becomes readily alkali-soluble by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（１）で表される感放射線性酸発生剤、および（Ｂ）重合体分子鎖の末端の少なくとも一方にシアノ基を有し、酸の作用によりアルカリ易溶性となる重合体を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has a specific alicyclic hydrocarbon group and in which the dissolution rate to an alkali developer is increased by the action of an acid, and (B) a compound having a specific structure to generate an acid by the irratidation with active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The photocatalytic agent fluid contains a metallic component as metal oxide fine particles which exhibit a photocatalytic action by irradiation with ultraviolet rays and at least one coloring component selected from the group consisting of an organic phosphor and an organic dye which are decomposable by irradiation with ultraviolet rays.例文帳に追加

紫外線の照射により光触媒作用を呈する金属酸化物微粒子を成す金属成分と、紫外線照射で分解する有機蛍光体および有機染料の群れから選ばれた少なくとも１種の着色成分とを含有することを特徴とする光触媒剤液である。 - 特許庁

The resist composition comprises a resin, which has a structural unit derived from a compound expressed by formula (a) and a structural unit derived from a compound having an acid-labile group and which is insoluble or hardly soluble with an alkali aqueous solution but can be dissolved in an alkali aqueous solution by an action of an acid.例文帳に追加

式（ａ）で表される化合物に由来する構造単位と、酸に不安定な基を有する化合物に由来する構造単位とを有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂を含むレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) two resins each having an alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂として２種類の樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

By using the nanoparticle which has an organic group on its surface, remaining of the nanoparticle on the surfaces of human keratin fibers, especially on those of hairs is increased, and as a result, when using such a cosmetic, its action is sustained even after shampoo treatment of several times.例文帳に追加

有機変性したナノ粒子、すなわちその表面に有機基を有するナノ粒子を使用することにより、ヒトのケラチン繊維、特に毛髪の表面において金属ナノ粒子の残留が増強され、その結果数回のシャンプー処置の後でもその化粧品の作用が持続される。 - 特許庁