「Crn」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The extrusion die 10 with which the nitriding treatment ends is then installed into a PVD system 810 where a hard film of CrN, etc., is deposited thereon as a coating layer (step S2), by which the surface treatment of the extrusion die 10 is completed (step S3).例文帳に追加

つぎに、窒化処理の終了した押出しダイス５１０をＰＶＤ装置８１０内に設置し、ここでコーティング層としてＣｒＮ等の硬質皮膜が成膜されて（ステップＳ２）、押出しダイス５１０の表面処理が完了する（ステップＳ３）。 - 特許庁

Subsequently, the temperature of the reaction chamber is again raised up to 1,040°C and a GaN single crystal film with a thickness of about 20 μm is obtained on the base crystal substrate through the CrN film and the GaN buffer layer by growing the GaN single crystal film.例文帳に追加

次いで、再び反応室の温度を１０４０℃まで上げ、ＧａＮ単結晶膜を成長させることにより、下地結晶基板上にＣｒＮ膜、ＧａＮバッファー層を介して厚さが約２０μｍのＧａＮ単結晶膜を得た。 - 特許庁

A steel base layer and a nitrogen diffused layer excellent in adhesiveness are formed on the surface of a pump part using a bright nitrogen diffusing method, and a high-hard ceramic layer formed of CrN, TiN and the like excellent in wear resistance is formed on the surface of the pump part using an AIP method.例文帳に追加

光輝窒素拡散法を用いてポンプ部品の表面に鋼母層と密着性に優れた窒素拡散層を形成させ、その表面にＡＩＰ法を用いて耐摩耗性に優れた高硬度のＣｒＮ、ＴｉＮ等のセラミック層を形成させる。 - 特許庁

This method comprises: a previous process where a chromium layer is deposited on the basis material in a magnetron sputtering system; and an after process where the temperature of the basis material is held at 100-200°C and a CrN layer is deposited on the above Cr layer in an arc discharge ion plating system.例文帳に追加

本発明は、マグネトロンスパッタ装置において基材上にクロム層を形成する前行程と、アーク式イオンプレーティング装置において基材の温度を１００〜２００℃に保持して前記Ｃｒ層の上にＣｒＮ層を形成する後行程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A nitrogen diffusion layer having excellent adhesive properties with a steel base layer is formed on the surface of the pressurized head relative component by using a lustering nitrogen diffusing method, and a ceramic layer of a CrN, a TiN or the like having excellent wear resistance and a high hardness is formed on the surface of the diffusion layer by using an AIP method.例文帳に追加

光輝窒素拡散法を用いて加圧ヘッド関係部品の表面に鋼母層と密着性に優れた窒素拡散層を形成させ、その表面にＡＩＰ法を用いて耐摩耗性に優れた高硬度のＣｒＮ、ＴｉＮ等のセラミック層を形成させる。 - 特許庁

The component is obtained by laminating a hard film 2 having excellent erosion resistance and composed of at least one or more selected from TiN, TiAlN, CrN, TiC, TiCN and ZrN and a fouling preventive film 3 having excellent wear resistance and composed of fluorine-containing diamond-like carbon.例文帳に追加

金属基材１の表面１ａ上に、耐エロージョン性に優れたＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＣｒＮ、ＴｉＣ、ＴｉＣＮ、ＺｒＮの内の少なくとも１種以上からなる硬質皮膜２と、耐摩耗性に優れたふっ素含有ダイヤモンドライクカーボンからなるファウリング防止皮膜３とが積層されてなる。 - 特許庁

The photomask blank is for dry-etching processing and has, in order from the light-transmissive substrate side, a layer comprising a material having metal, silicon, oxygen, and/or nitrogen as main components and a layer comprising a material mainly containing chromium and nitrogen and substantially having a diffraction peak of CrN(200) in X-ray diffraction.例文帳に追加

該フォトマスクブランクは、ドライエッチング処理用のフォトマスクブランクであって、透光性基板側から、金属、シリコン、酸素及び／又は窒素を主たる構成要素とする材料からなる層と、主にクロムと窒素とを含む材料からなり、かつ、Ｘ線回折による回折ピークが実質的にＣｒＮ(２００)からなる層とを有する。 - 特許庁

First, the relationship between the angle of incidence of an ion beam and an etching rate distribution in a shaping surface 12 is calculated beforehand each for tungsten carbide (WC) composing a substrate, chromium (Cr) composing an intermediate layer and chromium nitride (CrN) composing a surface layer, under the irradiation conditions identical to those applied at the time of surface treatment except the angle of incidence of the ion beam.例文帳に追加

まず、予め基材、中間層及び表面層を構成するタングステンカーバイド（ＷＣ）、クロム（Ｃｒ）及び窒化クロム（ＣｒＮ）のそれぞれに対して、イオンビームの入射角度以外は表面処理時と同一の照射条件にして、イオンビームの入射角度と成形面１２内のエッチングレート分布との関係を求める。 - 特許庁

The above hard coating 12 is made of an austenitic- phase-containing coating, which comprises Ni, Cr, N, and the balance substantially Fe, includes an austenitic phase of 10 vol.% or more, and has a surface hardness of Hv 900 or higher; or CrN having the hardness higher than the above substrate but not higher than Hv 1,600.例文帳に追加

前記硬質皮膜１２はＮｉ、ＣｒおよびＮを含有し、残部実質的にＦｅからなり、オーステナイト相を１０ vol％以上有し、かつ表面硬度がＨｖ９００以上のオーステナイト相含有皮膜、あるいは硬度が前記基材よりも高く、かつＨｖ１６００以下であるＣｒＮによって形成されたものである。 - 特許庁

A composite film consisting of a CrN ceramic layer and, on top of it, a WC/C layer is formed on the surface of a feeding-needle driving link-pin 60, which is one part of sliding parts consisting of the needle driving link-pin 60 and a needle driving link 61, to give high wear resistance and lubrication to a sliding surface of a sliding part.例文帳に追加

摺動部品の摺動面に高い耐摩耗性と潤滑性を与えるために、摺動部品の針駆動リンクピン６０と針駆動リンク６１とにおいて、一方の部品の送り針駆動リンクピン６０の表面に、ＣｒＮのセラミック層とその上のＷＣ／Ｃ層の複合被膜を形成した。 - 特許庁

The regulator circuit 106 automatically regulates a bias voltage of each of the plurality of differential amplifier circuits A1 to An+1 in a differential amplifier circuit array 102 to make the output dynamic range for the differential amplifier circuits match the input dynamic range for the plurality of voltage comparator circuits Cr1 to Crn+1.例文帳に追加

調整回路１０６は、差動増幅回路列１０２の複数個の差動増幅回路Ａ１〜Ａｎ＋１のバイアス電圧を自動調整して、これら差動増幅回路の出力ダイナミックレンジを電圧比較回路列１０３の複数個の電圧比較回路Ｃｒ１〜Ｃｒｎ＋１の入力ダイナミックレンジに一致させる。 - 特許庁

A bearing having a rolling body made of ceramic wherein a chrome-nitride film (CrN2 or CrN) or a zirconium-nitride film (ZrN) is formed on the surface opposing a raceway plane of each inner and outer ring, and a rotating member is employed as the touchdown bearing 13 for holding a rotating shaft 12a of a crossflow fan 12 of a argon-fluoride excimer-laser oscillating device.例文帳に追加

フッ化アルゴンエキシマレーザ発振装置のクロスフローファン１２の回転軸１２ａを支持するタッチダウン軸受１３として、転動体はセラミックス製であり、内外輪の軌道面および回転部材との対向面に、窒化クロム（ＣｒＮ_2またはＣｒＮ）皮膜または窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）皮膜が形成されているものを使用する。 - 特許庁

This manufacturing method is composed of a first process for executing blast treatment, alkali cleaning, or ethanol cleaning on a valve element base material surface corresponding to the sliding surface or on the valve seat base material surface, a second process for executing surfacing, a third process for executing Cr ion bombardment treatment, and a fourth process for forming a CrN film by an ion plating method.例文帳に追加

さらに、本発明の製法は、摺動面に相当する弁体基材表面または弁座基材表面をブラスト処理、アルカリ洗浄またはエタノール洗浄する第１工程、面仕上げをする第２工程、Ｃｒイオンボンバード処理する第３工程、およびイオンプレーティング法によりＣｒＮ被膜を形成する第４工程からなる。 - 特許庁

A thin film for wiring is composed of a double layer structure composing of a Cr film contg. nitrogen element at a lower layer film 2, which is formed by sputtering with using CrN target and pure Ar gas as a sputtering gas, and a Cr film contg. no nitrogen element as an upper layer film 1, which is formed by sputtering with using Cr target and pure Ar gas as a sputtering gas.例文帳に追加

配線用薄膜を、ＣｒＮターゲットを用い、スパッタガスとして純Ａｒガスを用いたスパッタリングにより形成した窒素元素を含有するＣｒ膜を下層膜２とし、Ｃｒターゲットを用い、スパッタガスとして純Ａｒガスを用いたスパッタリングにより形成した窒素元素を含有しないＣｒ膜を上層膜１とした二層構造とする。 - 特許庁

To provide a method for producing fluorescent substance by using a nitride or an oxynitride as a base, which is excellent in light emitting characteristics and its stability, without using a carbon powder which is indispensable in the conventional carbothermal (CRN) method and materials chemically unstable and hard to handle in the atmosphere such as a nitride of alkaline earth metals and alkaline earth metals simple substance.例文帳に追加

従来のカルボサーマル(ＣＲＮ)法において必須である炭素粉末を使用せず、かつ、アルカリ土類金属の窒化物やアルカリ土類金属単体のように化学的に不安定で大気中では取り扱いが困難な原料を使用せずに、発光特性及びその安定性に優れた窒化物又は酸窒化物を母体とする蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁