Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置、および成膜方法 - 特許庁
To provide a deposition apparatus capable of enhancing a deposition rate while maintaining high deposition uniformity, and a thin film deposition method using the same.例文帳に追加
高い蒸着均一度を維持しつつ蒸着率向上させることができる蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法を提供する。 - 特許庁
The metal compound thin-film may be acquired by either physical deposition method or chemical deposition method, otherwise by vapor-phase deposition method or liquid-phase deposition method.例文帳に追加
金属化合物薄膜は物理堆積法および化学堆積法のいずれでも、また気相堆積法および液相堆積法のいずれでもよい。 - 特許庁
CLUSTER DEPOSITION METHOD ON POWDER, AND CLUSTER DEPOSITION APPARATUS ON POWDER例文帳に追加
粉体に対するクラスタ堆積方法及び粉体に対するクラスタ堆積装置 - 特許庁
FILM DEPOSITION SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD OF SILICON OXIDE THIN FILM BY CVD PROCESS例文帳に追加
CVD法による酸化珪素薄膜の成膜装置及び成膜方法 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR THIN FILM MAGNETIC TAPE例文帳に追加
薄膜磁気テープ用蒸着装置 - 特許庁
KEY DEPOSITION METHOD AND SYSTEM AND STORAGE MEDIUM STORING KEY DEPOSITION PROGRAM例文帳に追加
鍵寄託方法及びシステム及び鍵寄託プログラムを格納した記憶媒体 - 特許庁
To provide a vacuum deposition apparatus in which film deposition can be satisfactorily monitored.例文帳に追加
成膜の良好なモニタリングが可能な真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The film deposition method using the vapor deposition source is also provided.例文帳に追加
本発明はまた、この蒸着源を用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD FOR ANTIREFLECTION FILM, ANTIREFLECTION FILM, AND FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
反射防止膜の成膜方法及び反射防止膜並びに成膜装置 - 特許庁
ELECTROLYTIC DEPOSITION APPARATUS, ELECTROLYTIC DEPOSITION METHOD AND PHOTOELECTRIC TRANSDUCER例文帳に追加
電解析出装置および電解析出方法、ならびに光電変換素子 - 特許庁
FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, MULTILAYER FILM REFLECTION MIRROR AND EUV EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
成膜装置、成膜方法、多層膜反射鏡及びEUV露光装置 - 特許庁
PROPYLENE POLYMER LAMINATED FILM FOR VAPOR DEPOSITION AND VAPOR DEPOSITION LAMINATED FILM例文帳に追加
蒸着用プロピレン系重合体積層フィルム及び蒸着積層フィルム - 特許庁
EVAPORATION SOURCE DEVICE FOR VACUUM ARC DEPOSITION, AND VACUUM ARC DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
真空アーク蒸着用の蒸発源装置及び真空アーク蒸着装置 - 特許庁
The physical vapor deposition may be ion-enhanced electron beam physical vapor deposition.例文帳に追加
物理蒸着は、イオン強化電子ビーム物理蒸着とすることができる。 - 特許庁
PULSED DIRECT-CURRENT SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS FOR THE METHOD例文帳に追加
パルス状直流スパッタ成膜方法及び該方法のための成膜装置 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION MASK AND MANUFACTURING METHOD OF VAPOR DEPOSITION MASK, ORGANIC EL ELEMENT, ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、有機EL素子、電子機器 - 特許庁
PM DEPOSITION QUANTITY ESTIMATION CONTROL DEVICE例文帳に追加
PM堆積量推定制御装置 - 特許庁
THIN FILM DEPOSITION DEVICE, THIN FILM DEPOSITION METHOD, THIN FILM, AND THIN FILM STACKED BODY例文帳に追加
薄膜形成装置、薄膜形成方法、薄膜及び薄膜積層体 - 特許庁
MASK TIGHTLY-CONTACTING MEANS FOR VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加
蒸着装置用マスク密着手段及びそれを用いた蒸着装置 - 特許庁
To provide a mask vapor deposition system where the superimposed structure between the substrate to be treated and a vapor deposition mask is improved so as to improve the lightening of the vapor deposition mask and film deposition precision; to provide a vapor deposition mask; and to provide a mask vapor deposition method.例文帳に追加
被処理基板と蒸着マスクとの重ね合わせ構造を改良して、蒸着マスクの軽量化や成膜精度の向上を図ることのできるマスク蒸着装置、蒸着マスク、およびマスク蒸着法を提供すること。 - 特許庁
To provide a component for a film deposition apparatus capable of easily separating and removing a deposition film to be deposited by the film deposition processing of a substrate, and a film deposition apparatus, the manufacturing method of the component for the film deposition apparatus, and the reproducing method of the component for the film deposition apparatus.例文帳に追加
基板の成膜処理により成膜される付着膜を容易に剥離・除去することができる成膜装置用部品、成膜装置、成膜装置用部品の製造方法、成膜装置用部品の再生方法を提案する。 - 特許庁
ORGANOCOPPER COMPLEX FOR COPPER THIN FILM DEPOSITION例文帳に追加
銅薄膜形成用有機銅錯体 - 特許庁
TARGET SUPPORTING STRUCTURE FOR FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
成膜装置用ターゲットの支持構造 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING ZnO DEPOSITION MATERIAL例文帳に追加
ZnO蒸着材の製造方法 - 特許庁
METAL VAPOR DEPOSITION FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
金属蒸着フィルムの製造方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD AND FLAT DISPLAY PANEL例文帳に追加
成膜方法およびフラットディスプレイパネル - 特許庁
VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加
蒸着材及びその製造方法 - 特許庁
To provide a film deposition device and a film deposition chamber reducing an amount of powder drifting in a film deposition chamber, adhering to a wall of the film deposition chamber and remaining in the film deposition chamber, and suppressing leakage of the powder to an external part of the film deposition chamber, in the film deposition device in which fine powder may be generated in a film deposition step.例文帳に追加
成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室内に漂ったり、成膜室壁に付着したりして成膜室内に残留する粉末の量を軽減する成膜室外への粉末の漏れを抑制する成膜装置及び成膜室を提供する。 - 特許庁
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