「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(340ページ目) - Weblio英語例文検索

This apparatus comprises arranging several cylindrical substrates 101 in a reaction vessel 102, supplying high frequency powers of two different frequencies f1 and f2 simultaneously to a same high frequency electrode 104, generating plasma by the high frequency power introduced into the reaction vessel 102, decomposing the gas introduced into the reaction vessel 102 through a raw material gas introduction pipe 103, and forming the deposition film on the cylindrical substrate 101.例文帳に追加

反応容器１０２中に複数の円筒状基体１０１を配置し、２つの異なる周波数ｆ１，ｆ２の高周波電力を同一の高周波電極１０４に同時に供給し、反応容器１０２内に導入された高周波電力によってプラズマを形成し、原料ガス導入管１０３より反応容器１０２中に導入されたガスを分解して円筒状基体１０１上に堆積膜を形成する。 - 特許庁

There is provided a production method of polypropylene microparticles, comprising a raw material propylene solution preparing step of adding a raw material polypropylene to an aliphatic hydrocarbon compound solution, an alicyclic hydrocarbon compound solution or a mixture thereof, heating at a temperature higher than the melting point of the raw material polypropylene to dissolve so as to obtain the raw material polypropylene solution, and a deposition step of cooling the raw material polypropylene solution to deposit polypropylene microparticles.例文帳に追加

脂肪族炭化水素化合物溶媒、脂環式炭化水素化合物溶媒又はこれらの混合溶媒に、原料ポリプロピレンを加え、原料ポリプロピレンの融点以上の温度で加熱して溶解させ、原料プロピレン溶液を得る原料プロピレン溶液調製工程と、該原料ポリプロピレン溶液を冷却して、ポリプロピレン微粒子を析出させる析出工程と、を有することを特徴とするポリプロピレン微粒子の製造方法。 - 特許庁

The material for depositing the electroconductive barrier film is used for depositing an electroconductive Ta-Ti barrier film as an undercoat film of the copper film by a chemical vapor deposition method and includes a Ta-containing metal organic compound, a Ti-containing metal organic compound and a solvent for dissolving one or both of the Ta-containing metal organic compound and the Ti-containing metal organic compound.例文帳に追加

ケミカルベーパーデポジションにより銅膜の下地膜として導電性Ｔａ−Ｔｉ系バリア膜を形成する為の材料であって、Ｔａを持つ金属有機化合物と、Ｔｉを持つ金属有機化合物とを含むことを特徴とする導電性バリア膜形成材料、および、前記Ｔａ有機化合物、前記Ｔｉ有機化合物の一方または双方を溶解する溶媒とを含むことを特徴とする導電性バリア膜形成材料。 - 特許庁

To provide a method for producing a Ga-containing nitride semiconductor with high productivity in which, by preventing the accompanying adhesion of a Ga-containing nitride to portions other than a substrate in a growth chamber of a vapor phase deposition apparatus, particularly the accompanying adhesion of the Ga-containing nitride when thick film formation is desired, various problems due to the adhesion is solved, without inhibiting the growth of the Ga-containing nitride semiconductor onto the substrate.例文帳に追加

気相成長装置の成長室内の基板以外の部分へのＧａ含有窒化物の随伴的な付着、特に厚膜形成を行いたい場合の当該Ｇａ含有窒化物の随伴的な付着を防止することにより当該付着による様々な問題を解消し、且つ基板上へのＧａ含有窒化物半導体の成長が阻害されることなく、生産性が高いＧａ含有窒化物半導体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The anode catalyst for the fuel cell can be manufactured by the method having at least a step of preparing a reaction solution by adding at least Pt supply source, Ru supply source, Au supply source, a complexing agent, a carrier, and hypophosphorous acid or hypophosphite in a solvent, and a step of carrying out reduction and deposition of the catalyst containing at least Pt, Ru, Au, and P on a carrier surface in the reaction solution.例文帳に追加

本発明の燃料電池用陽極触媒は、少なくとも、Ｐｔ供給源、Ｒｕ供給源、Ａｕ供給源、錯化剤、担体、および次亜リン酸または次亜リン酸塩を溶媒中に添加して反応溶液を調製するステップと、前記反応溶液において、Ｐｔ、Ｒｕ、ＡｕおよびＰを少なくとも含有する触媒を、担体表面に還元析出させるステップとを少なくとも有する本発明法により製造できる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic functional element which does not require to use deposition for formation of an electrode to an organic material layer and facilitates its enlargement and can reduce manufacturing cost and has no damage on the organic material layer when forming the electrode and has high reliability without being effected by environmental change, in the organic functional element such as an organic semiconductor element represented by an organic TFT element and an organic element.例文帳に追加

有機ＴＦＴ素子に代表される有機半導体素子や有機ＥＬ素子等の有機機能素子において、有機材料層への電極形成において蒸着を用いる必要が無く、大型化が容易で製造コストが低減でき、また、電極形成において有機材料層に損傷を与えることが無く、環境の変化に影響されない高い信頼性を有する有機機能素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a propylene polymerization reaction apparatus stably and efficiently manufacturing a propylene based block copolymer excellent in a balance of rigidity/impact-resistance strength, suppressing generation of a gel and deposition in a reaction tank and having a wider composition in addition to it without reducing productivity in a multi-stage continuous vapor-phase polymerization method for the propylene based block copolymer using an olefin polymerization catalyst, and a manufacturing method for the propylene based block copolymer.例文帳に追加

オレフィン重合用触媒を用いたプロピレン系ブロック共重合体の多段連続気相重合法において、剛性／耐衝撃強度のバランスに優れ、加えてゲルの発生及び反応槽内の付着が抑制され、加えてより広い組成のプロピレン系ブロック共重合体を、生産性を低下させることなく安定的かつ効率よく製造するプロピレン重合反応装置及びプロピレン系ブロック共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the silicon carbonitride film film-deposited by a plasma CVD (Chemical Vapor-phase Deposition) method using a material gas consisting of a first gas made of a precursor molecule containing silicon, carbon and hydrogen, and a second gas containing nitrogen, the amount of nitrogen atoms constituting the silicon carbonitride film and present as a Si-N-Si bonding is at least 7% of the amount of all nitrogen atoms in the silicon carbonitride film.例文帳に追加

珪素、炭素、水素を含有する前躯体分子からなる第１のガスと、窒素を含有する第２のガスとからなる原料ガスを用いてプラズマＣＶＤ法によって成膜された炭窒化珪素膜であって、前記炭窒化珪素膜を構成する窒素原子でＳｉ−Ｎ−Ｓｉ結合として存在している窒素原子の量が、前記炭窒化珪素膜中の全窒素原子の量の７％以上であることを特徴とする炭窒化珪素膜。 - 特許庁

The vapor phase deposition apparatus 10 includes a reactor 11, a barrel type susceptor 12 arranged inside the reactor, and a tray 13 arranged on the surface of the susceptor to mount a wafer W, wherein the tray 13 rotates by a rotary shaft which is different from that of the barrel type susceptor 12, the barrel type susceptor 12 rotates by an electric motor 14 for revolution, and the tray 13 rotates by an electric motor 15 for rotation.例文帳に追加

リアクタ１１と、該リアクタの内部に配置されたバレル型サセプタ１２と、ウエーハＷを装着するために該サセプタの表面に配置されたトレイ１３とを備えた気相成長装置１０において、前記トレイ１３は前記バレル型サセプタ１２とは異なる回転軸で回転するものであり、かつ前記バレル型サセプタ１２は公転用電動モータ１４によって回転し、前記トレイ１３は自転用電動モータ１５によって回転する。 - 特許庁

To provide a plasma CVD apparatus and a plasma CVD deposition method, which are applicable to a shower plate and an earth shield that is a member provided to suppress plasma generation in unwanted areas as for a plasma CVD method, and allow the shower plate and the earth shield to be returned to their respective initial shapes and reused even when they are deformed due to sandblasting for cleaning, thereby reducing the replacement costs of electrode members.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法において、シャワー板及び不必要な部分でのプラズマ発生を抑制するために設けられる部材であるアースシールドに適用可能であり、かつクリーニング時にサンドブラスト処理を行ってシャワー板及びアースシールドが変形しても、初期の形状に戻して再利用が可能であり、電極用部材の交換コストを低減させることが可能なプラズマＣＶＤ装置及びプラズマＣＶＤ成膜方法を提供することにある。 - 特許庁

This method includes depositing on the surface at least one plasma monomer from a monomer source, wherein during the deposition of the monomer, the monomer and/or the surface are moved relative to each other to provide a non-uniform plasma polymerized surface, and introducing a binding entity to at least part of the plasma polymerized surface to provide a non-uniform surface formed from the binding entity.例文帳に追加

単量体源から少なくとも１種のプラズマ単量体を前記表面に付着させるが、前記単量体を付着させている間、前記単量体および／または前記表面を互いと相対的に動かすことで不均一プラズマ重合表面を生じさせ、そして前記プラズマ重合表面の少なくとも一部に結合体を導入することで前記結合体が不均一表面を形成するようにすることを含んで成る。 - 特許庁

The bone filling material is manufactured through a molding step of molding a fiber structure comprising the biodegradable polymer or a fiber structure comprising the biodegradable polymer composite containing the compound selected from the calcium carbonate and the silicon-containing calcium carbonate into the cloth shape or the flocculating shape by an electro-spinning method, and a deposition step of depositing the aluminum silicate nanoparticles on the surface of the fiber structure by an electrostatic action.例文帳に追加

本発明の骨充填材は、生分解性高分子からなる繊維構造体、または、炭酸カルシウムおよびケイ素含有炭酸カルシウムから選ばれる化合物を含む生分解性高分子複合体からなる繊維構造体を、エレクトロスピニング法により布状または綿状に成形する成形工程と、繊維構造体の表面に、静電作用によりケイ酸アルミニウムナノ粒子を堆積させる堆積工程と、を経て製造される。 - 特許庁

To provide glass having transparency which can be preferably used as a material efficiently producing crystallized glass that can selectively crystalize a titanium oxide while sufficiently preventing the deposition of an Al_4B_2O_9 crystal and can exhibit a sufficiently high photocatalytic function, crystallized glass with deposited titanium oxide crystal which can be obtained using the glass, a producing method of the crystalized glass, and a photocatalyst member.例文帳に追加

Ａｌ_４Ｂ_２Ｏ_９の結晶の析出を十分に防止しながらチタン酸化物を選択的に結晶化でき、しかも十分に高い光触媒機能を発揮できる結晶化ガラスを効率よく製造することができる材料として好適に使用することが可能な透明性を有するガラス、そのガラスを用いて得られるチタン酸化物の結晶が析出した結晶化ガラス及びその結晶化ガラスの製造方法、並びに、光触媒部材を提供すること。 - 特許庁

In the manufacturing method of aluminum addition quartz based porous prefrom by depositing glass fine particles generated by supplying a glass raw material gas and an aluminum raw material gas to flame formed by supplying a combustion gas to a burner on a starting quartz material, the glass fine particles are deposited on the starting quartz material while controlling the aluminum content at the early stage of the deposition to be trace or zero.例文帳に追加

バーナーに燃焼ガスを供給して形成した火炎中に、ガラス原料ガスとアルミニウム原料ガスを供給して生成させたガラス微粒子を出発石英材に堆積させるアルミニウム添加石英系多孔質母材の製造方法において、堆積初期におけるアルミニウム添加量を微少量またはゼロとして、出発石英材にガラス微粒子を堆積させるアルミニウム添加石英系多孔質母材の製造方法。 - 特許庁

Improved methods are disclosed for catalyst-assisted atomic layer deposition to form a silicon dioxide layer having favorable properties on a semiconductor substrate by using a first reactant component composed of a silicon compound which has at least two silicon atoms, or using a tertiary aliphatic amine as a catalyst component, or using both in combination with related purging method, and by sequencing them.例文帳に追加

少なくとも２個のシリコン原子を有するシリコン化合物から成る第１の反応物成分を用いることによって、又は、触媒成分として第三脂肪族アミンを用いることによって、又は、関連するパージ法と組合せて両方を用いること、及びそれらを順序づけることによって、半導体基板上に良好な性質を有する二酸化シリコン層を形成するための触媒補助型原子層堆積法の改良法を開示する。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal matrix composite material comprises steps of: vapor-depositing magnesium onto the surface of at least either of fibers and particles each constituting a porous preform 3; arranging the porous preform 3 after vapor deposition in a low-oxygen-partial- pressure atmosphere of ≤10 mmHg partial pressure of oxygen; and infiltrating the molten aluminum 41 or the molten aluminum alloy into the porous preform 3.例文帳に追加

多孔質プリフォーム３を構成する繊維及び粒子のうち少なくともいずれかの表面にマグネシウムを蒸着させるステップと、この蒸着をさせた多孔質プリフォーム３を、酸素分圧が１０ｍｍＨｇ以下である低酸素分圧雰囲気中に配置するステップと、前記多孔質プリフォーム３の内部に溶融アルミニウム４１又は溶融アルミニウム合金を浸透させるステップとを含んでなる金属基複合材料の製造方法である。 - 特許庁

This Pd alloy film consisting of Pd and a metal alloyed with Pd, is formed on the surface of a porous support by using a vacuum deposition device having at least two evaporation sources, i.e., an evaporation source for evaporating Pd and another evaporation source for evaporating a metal to be alloyed with Pd.例文帳に追加

多孔質支持体の表面に形成されたＰｄとＰｄと合金化する金属とからなる水素透過用Ｐｄ合金膜であって、該Ｐｄ合金膜が、該多孔質支持体の表面にＰｄを蒸発させる蒸発源とＰｄと合金化する金属を蒸発させる蒸発源との２つ以上の蒸発源を有する真空蒸着装置を用いて作製されたＰｄ合金膜であることを特徴とする水素透過用Ｐｄ合金膜及びその作製方法。 - 特許庁

(2) When applying for an exception from mandatory representation pursuant to Subsection (1) the party to the proceedings shall be obliged to notify the Office of an address for correspondence in the territory of the Slovak Republic. If the party to the proceedings fails to notify the Office of an address for correspondence, official communications related to the proceedings shall be deposited in the Office, where they shall be deemed delivered after the expiry of 30 days from the date of deposition. The party has to be informed about this consequence.例文帳に追加

(2) (1)に基づく必要的代理の例外的取扱いを申請する場合は，当該手続当事者は，スロバキア共和国の領域内の通信宛先を庁に通知しなければならない。手続当事者が当該通信宛先を庁に通知しない場合は，手続に関する庁の通知は庁に留め置かれ，留置日から30日が満了した時に送達されたとみなされる。当事者には，このことが通知されなければならない。 - 特許庁

Article 53 (1) In cases where a Financial Instruments Business Operator (limited to those engaged in Type I Financial Instruments Business; hereinafter the same shall apply in this Article) violates the provision of Article 46-6(2), if the Prime Minister finds it necessary and appropriate for the public interest or protection of investors, he/she may order the change of the methods of its business, deposition of its property, or other matters necessary for supervision, within the limit necessary. 例文帳に追加

第五十三条　内閣総理大臣は、金融商品取引業者（第一種金融商品取引業を行う者に限る。以下この条において同じ。）が第四十六条の六第二項の規定に違反している場合において、公益又は投資者保護のため必要かつ適当であると認めるときは、その必要の限度において、業務の方法の変更を命じ、財産の供託その他監督上必要な事項を命ずることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

In a method for manufacturing the organic thin film transistor wherein at least three terminals, namely a gate electrode, a source electrode and a drain electrode, an insulating layer and an organic semiconductor layer are formed on a substrate and the source-drain current is controlled by applying a voltage to the gate electrode, an insulating layer-forming step includes vapor phase film deposition of a fluorine polymer.例文帳に追加

少なくとも基板上にゲート電極、ソース電極及びドレイン電極の３端子、絶縁体層並びに有機半導体層が設けられ、ソース−ドレイン間電流をゲート電極に電圧を印加することによって制御する有機薄膜トランジスタを作製する方法であって、該絶縁体層の形成工程がフッ素ポリマーの気相成膜を含むことを特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法及び該方法で製造されてなる有機薄膜トランジスタ。 - 特許庁

The methods include: a step of selecting a liquid composition including an active material and a suitable liquid medium whereby when the liquid composition is deposited on an desired active surface it has no greater than about a 40° contact angle; a step of treating the active surface to raise its surface tension before the deposition of a liquid composition containing the desired active material is deposited thereon; and combination thereof.例文帳に追加

本発明の方法は、活性材料および適切な液体媒体を含む液体組成物を選択するステップであって、それによって、液体組成物が所望の活性表面に堆積されるとき、液体媒体が約４０°以下の接触角を有するステップと、所望の活性材料を含む液体組成物の堆積物がそこに堆積される前、その表面張力を増大させるため活性表面を処理するステップと、これらの組合せとを含む。 - 特許庁

When the carbon fiber is sized by soaking with a solution prepared by dispersing polyurethane resin in water, an ester polyol is used as the polyol component, the average particle size in the sizing solution is 10 to 80 nm, the deposition of the sizing agent on the carbon fiber is 0.1 to 5.0 mass% and the softening point of the thermoplastic resin of the sizing agent is 50 to 150°C.例文帳に追加

ポリウレタン樹脂を水に分散してなるサイジング液に炭素繊維を浸漬してサイジング剤を炭素繊維に付与するに際し、前記ポリウレタン樹脂のポリオール成分がエステル系、前記サイジング液中の粒子の平均粒子径が１０〜８０ｎｍ、前記サイジング剤の炭素繊維に対する付着量が０．１〜５．０質量％、前記サイジング剤の軟化温度が５０〜１５０℃とすることにより熱可塑性樹脂強化用炭素繊維ストランドを製造する。 - 特許庁

A deposition method for depositing a dielectric film containing a zirconium oxide film includes a step of depositing the zirconium oxide film on a processed substrate by supplying a zirconium material composed of a Zr compound containing a cyclopentadienyl ring in a structure and an oxidizing agent and a step of depositing a titanium oxide film on the zirconium oxide film by supplying a titanium material composed of a titanium compound containing the cyclopentadienyl ring in the structure and the oxidizing agent.例文帳に追加

酸化ジルコニウム膜を含む誘電体膜を成膜する成膜方法は、シクロペンタジエニル環を構造中に含むＺｒ化合物からなるジルコニウム原料と酸化剤とを供給して被処理基板上に酸化ジルコニウム膜を成膜する工程と、シクロペンタジエニル環を構造中に含むチタン化合物からなるチタン原料と酸化剤とを供給して前記酸化ジルコニウム膜の上に酸化チタン膜を成膜する工程とを有する。 - 特許庁

In this radiation image conversion panel having the support body and the phosphor layer formed thereon by a vapor-deposition method, the phosphor layer is constituted of a phosphor comprising a phosphor mother compound and an activator, and a substrate layer comprising the phosphor mother compound and having a value of a relative density lower than that of the phosphor layer is provided between the support body and the phosphor layer.例文帳に追加

支持体およびその上に気相堆積法により形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、該蛍光体層が蛍光体母体化合物と付活剤とからなる蛍光体から構成され、そして該支持体と該蛍光体層との間に、該蛍光体母体化合物からなり、相対密度が該蛍光体層の相対密度よりも低い値を示す下地層が設けられている放射線像変換パネル。 - 特許庁

The method and the device for depositing an organic/inorganic thin film in a time-division manner include a source vessel containing organic/inorganic materials, and a catalyst source vessel containing a heat initiator for activating the materials so that the thickness of the organic/inorganic thin film can be accurately adjusted, and the deposition can be uniformly performed when the thin film is deposited on a large-scale substrate.例文帳に追加

本発明に係る時間分割型有機物／無機物複合薄膜の蒸着方法および蒸着装置は、有機物／無機物材料が含有されているソースタンクと、これを活性化させる熱開始剤が含有されている触媒ソースタンクとを各々装着することによって、大面積の基板上に有機物／無機物複合薄膜を蒸着する時、厚さを正確に調節することができ、蒸着を均一に行うことができる。 - 特許庁

A plasma deposition apparatus for manufacturing solar cells comprises: a conveyor having a longitudinal axis for supporting at least one substrate; at least two modules each having at least one plasma torch for depositing a layer of a reaction product on the at least one substrate and located a distance from the at least one substrate; a chamber containing the conveyor and the at least two modules; and an exhaust system.例文帳に追加

少なくとも１つの基板を支持するための長手方向軸を持つコンベヤと、少なくとも１つの基板上に反応生成物の層を堆積するためのそれぞれ少なくとも１つのプラズマトーチを持つ少なくとも２つのモジュールと、前記コンベヤと前記少なくとも２つのモジュールとを含むチャンバと、排気システムとを備え、前記少なくとも１つのプラズマトーチは、少なくとも１つの基板から離れて置かれている、太陽電池を製作するためのプラズマデポジション装置。 - 特許庁

The method for manufacturing the single crystal comprises introducing an atmospheric gas (g) into a crucible 100 and, growing a single crystal plate 40 by sublimating the crystal material 20, wherein the gas stream in the crucible is controlled by forming the gas discharge port 130 side of the crucible with a gas-permeable porous material, whereby it is possible to efficiently performing deposition/growth of a crystal material gas.例文帳に追加

かゝる本発明は、るつぼ１００内に雰囲気ガスｇを導入すると共に、結晶材料２０を昇華させて単結晶板４０を成長させる単結晶の製造方法において、るつぼのガス排出口１３０側をガス透過性の多孔質材で形成して、るつぼ内のガス流制御を行う単結晶の製造方法にあり、これによって、結晶材料ガスの析出・成長を効率よく行うことができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the sintered surface nitrided compact includes: a molding step of forming raw material powder to a compression molded body; a metal deposition treatment step of exposing the compression molded body into an organic metallic compound stream in a furnace to pyrolyze the organic metallic compound and depositing nitride-forming metal within the compression molded body; and a nitriding and sintering step of nitriding the compression molded body by using mitriding gas and sintering the same.例文帳に追加

本発明は、原料粉末を圧縮成型体に形成する成型工程と、炉内で有機金属化合物気流中に圧縮成型体をさらし有機金属化合物を熱分解させて、圧縮成型体内に窒化物形成金属を析出させる金属析出処理工程と、窒化性ガスにより圧縮成型体を窒化し、且つ焼結する窒化焼結工程と、を含む表面窒化焼結体の製造方法である。 - 特許庁

To provide a laminated packaging material which has an antistatic function and the same transparency as a usual transparent laminated material using EVOH and is not accompanied by a cost increase, but usable enough on a commercial basis, by a constitution using a metal oxide vapor deposition film and which is more excellent in gas barrier properties, particularly in water vapor barrier properties, than a constitution using the EVOH and is transparent.例文帳に追加

金属酸化物蒸着フィルムを用いた構成で、静電防止作用があり、従来のＥＶＯＨを用いた透明積層材料と同様の透明性を有し、しかもコストが高くならず、商業的にも充分使用可能な積層包装材料を提供することを課題とし、またＥＶＯＨを用いた構成よりも、ガスバリア性、特に水蒸気バリア性が優れた透明な積層包装材料を提供することを課題とする。 - 特許庁

The radiation image converting panel has one or more stimulable phosphor layers on a support, among which at least one is formed by the vapor phase method (called also a vapor phase deposition method) so that its film thickness is 50 μm-10mm, and the stimulable phosphor layers contain 10-1000 ppm alkali metal and alkali earth metal compound, different from the stimulable phosphor which is the major component.例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも１層の該輝尽性蛍光体層が気相法（気相堆積法ともいう）により５０μｍ〜１０ｍｍの膜厚を有するように形成され、該輝尽性蛍光体層中に主成分である輝尽性蛍光体とは異なるアルカリ金属及びアルカリ土類金属化合物を１０〜１０００ｐｐｍ含有することを特徴とする放射線像変換パネル。 - 特許庁

To provide a fixing adhesive sheet which has good initial adhesion as the fixing adhesive sheet, can be cut in a state which fully fixes an adhered and exhibits good detachability by reducing adhesion due to an ultraviolet irradiation after cutting even when a semiconductor sealing resin plate having small wax content on a surface or an optical component having fine processings such as a deposition on the surface is used as the adherend.例文帳に追加

被着体として、表面のワックス含有量が少ない半導体封止樹脂板や、表面に蒸着等の微細な加工のある光学部品を用いた場合にも、固定用粘着シートとしての初期粘着力がよく、十分に被着体を固定した状態で切断が可能であり、しかも切断後には、紫外線照射によって粘着力が低下して良好な剥離性を示す固定用粘着シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a new substrate rust prevention method having high economic efficiency and environmental conservation by exhibiting excellent coating film adhesiveness and corrosion resistance equal to or more than the conventional process by providing a multilayer coating film deposition method for successively depositing a pretreatment coating and an electrodeposition coating film of an extremely small amount as compared to the conventional pretreatment process using a chemical liquid and electrodeposition coating material and cationic electrodeposition coating process.例文帳に追加

本発明により、従来の化成液および電着塗料による前処理工程およびカチオン電着塗装工程と比較して、極少量の前処理皮膜と電着塗膜を順次形成させる複層塗膜形成方法を提供することで、従来工程と同等以上の優れた塗膜密着性と耐食性を発現させることによって、経済性と環境保全性の高い新規な下地防錆方法を提供する。 - 特許庁

The structure comprises at least a ferroelectric material 22, a pair of electrodes 20, 24 (not decomposing when depositing or annealing) contacting opposite surfaces of the ferroelectric material 20, and an oxygen source layer 26 (made of a metal oxide at least partly decomposing in deposition and/or post-treatment) contacting at least one of electrodes 22, 24.例文帳に追加

少なくとも、強誘電体材料２２と、強誘電体材料２２の対向する面と接触する一対の電極２０，２４（電極２０，２４は、付着またはアニール時に分解しない）と、電極２２，２４のうちの少なくとも１つと接触する酸素源層２６（酸素源層２６は、付着および／または後の処理の際に、少なくとも部分的に分解する金属酸化物である）とを備える強誘電体／ＣＭＯＳ集積化構造、およびその形成方法である。 - 特許庁

While inorganic white pigment is effectively concentrated in a 1st electrolytic layer 4A to improve the contrast by whitening of the electrolytic layer, the electrolytic layer is decreased in amount of the inorganic pigment on the whole, and a 2nd electrolytic layer 4B is increased in content of electrolytic and ion conductive media to increase ion conductivity, thereby improving reaction characteristics of electrochemical deposition and erasure by metal ions etc.例文帳に追加

第１の電解質層４Ａには、無機白色顔料を効果的に集中させることにより、電解質層の白色化によるコントラストの向上を実現しながら、電解質層全体としては無機顔料を減量すると共に、第２の電解質層４Ｂは、電解質及びイオン伝導媒質の含有量を高め、イオン伝導性を増し、金属イオンなどによる電気化学的な析出及び消去の反応特性を向上させる。 - 特許庁

A method for forming the diffusion barrier for the copper wiring includes steps for supplying a semiconductor, forming a dielectric layer over the semiconductor, forming a trench in the dielectric layer, forming the diffusion barrier including a TiNSi in the trench using a chemical vapor deposition method (CVD), and forming an (α-Ta) layer having a body-centered cubic structure on the diffusion barriers.例文帳に追加

銅線用拡散バリアを形成する方法であって、 半導体を供給すること、 前記半導体上に誘電体層を形成すること、 前記誘電体層中にトレンチを形成すること、 化学気相成長法（ＣＶＤ）を用いて前記トレンチ中に窒化チタンケイ素を含む拡散バリアを形成すること、及び 前記拡散バリア上に体心立方構造をもつアルファ相タンタル（α‐Ｔａ）層を形成することを含む方法が提供される。 - 特許庁

In the method of manufacturing a thin film transistor having a channel region connected to at least a source region and a drain region and a gate electrode opposite to the channel region through a gate insulation film on a substrate, the process of forming the gate insulation film is to form a silicon oxide by the plasma chemical vapor deposition method with the substrate 205 fixed by a retaining member 206 above plasma generating electrodes 203.例文帳に追加

基板上に少なくともソース領域およびドレイン領域に接続するチャネル領域と、該チャネル領域にゲート絶縁膜を介して対峙するゲート電極とを備える薄膜トランジスタの製造方法において、前記ゲート絶縁膜の形成工程は、前記基板２０５をプラズマ発生させるための電極２０３上に押さえ部材２０６により固定した状態で、プラズマ化学気相堆積法によりシリコン酸化物を形成する。 - 特許庁

The improved carbon beam deposition chamber described herein substantially reduces the accumulation of a carbon film on the outer surfaces of the chamber aperture plates, thereby substantially increasing the number of disks which can be processed before system cleaning or hardware replacement is required, thereby to substantially reduce disk failure for coated disks 44 and substantially increase carbon gun 10 productivity.例文帳に追加

ここに記載される改良された炭素ビーム蒸着チャンバー４０は、チャンバーの開口プレート２０の外側表面上での炭素膜の堆積を大幅に減少させることにより、システム洗浄やハードウェアの交換が必要になる前の処理可能なディスク枚数を大幅に増加させることができ、又、コーティングされたディスク４４におけるディスク欠陥を大幅に減少させて、炭素銃１０の生産性を実質的に増加させるものである。 - 特許庁

When a GaN crystal is grown on an AlN layer after sequentially forming an SiC layer and the AlN layer on an Si substrate 12 by a chemical vapor deposition method, the Si substrate 12 having a nitride semiconductor thin film is manufactured by generating nitrogen-based radical by blowing ammonia gas onto a heated mesh-shaped tungsten catalyst 14 and growing the GaN crystal by reacting the generated radical and an organic gallium compound on the AlN layer.例文帳に追加

化学気相成長法によりＳｉ基板１２上にＳｉＣ層及びＡｌＮ層を順次形成した後に、ＡｌＮ層上にＧａＮ結晶を成長させる際に、加熱したメッシュ状タングステン触媒１４にアンモニアガスを吹付けて窒素系ラジカルを生成させ、ＡｌＮ層上で有機ガリウム化合物と反応させてＧａＮ結晶を成長させることにより窒化物半導体薄膜を有するＳｉ基板１２を製造する。 - 特許庁

This process consists in adding a fluorine capturing agent into an aqueous solution containing a fluorometal complex compound and depositing the metal oxide thin film derived from the fluorometal complex compound on a base material immersed into the aqueous solution, in which the deposition of the metal oxide thin film is executed while part of the aqueous solution is continuously or intermittently filtered in the presence of the seed crystal of the metal oxide.例文帳に追加

フルオロ金属錯体化合物を含有する水溶液に、フッ素捕捉剤を添加して、前記水溶液に浸漬した基材上に、前記フルオロ金属錯体化合物由来の金属酸化物薄膜を析出させる方法であって、前記金属酸化物薄膜の析出を、前記金属酸化物の種結晶の存在下、前記水溶液の一部を連続的にまたは断続的に濾過しながら行う金属酸化物薄膜の製造方法。 - 特許庁

In general, in a first aspect, a droplet deposition system includes: a jetting assembly 112 including one or more modules capable of ejecting droplets; a plurality of conduits in fluid communication with the jetting assembly 112; and a valve 101 coupled to the conduits and adjustable between a first state in which fluid flow through the conduits is substantially prevented and a second state in which fluid flow through the conduits is allowed.例文帳に追加

概して、第１の態様において、液滴付着装置であって、液滴を排出できる１つ以上のモジュールを備えた噴射アセンブリ１１２、噴射アセンブリ１１２と流体連絡した複数の導管、および流体が導管を通って流れるのが実質的に妨げられる第１の状態と、流体が導管を通って流れるのが許可される第２の状態との間で調節可能な、導管に連結されたバルブ１０１を含む液滴付着装置を特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing colored polymerized toner which does not cause problems such as complicatedness on an operation and deterioration of production efficiency and can prevent the deposition of polymerization scale over a long term and can facilitate the removal of polymerization scale when manufacturing polymerized toner by polymerizing a monomer composition which includes monomer for forming toner particle and colorant according to suspension polymerization or the like by using hardly water-soluble inorganic colloid as dispersant.例文帳に追加

トナー粒子を形成するための単量体及び着色剤を含有してなる単量体組成物を、難水溶性無機コロイドを分散剤として懸濁重合法等で重合して重合トナーを製造するに当たり、操作上の煩雑さや生産効率を低下させる等の問題を引き起こさず、長期間に亘る重合スケール付着の抑制と付着した重合スケールの容易な除去とが可能な重合トナーの製造方法を提供する。 - 特許庁

In an arc welding method of galvanized steel plates in which the arc welding is of low heat input and high deposition, the input energy Pw per the feed amount of a welding wire is ≥0.4 and ≤0.65, and the weld metal deposit Ft of the welding wire per thickness of the steel plate is ≥2.5 and ≤6.0.例文帳に追加

亜鉛めっき鋼板のアーク溶接において、前記アーク溶接が低入熱・高溶着な溶接方法であり、溶接ワイヤの供給量あたりの投入エネルギーPwが0.4以上、0.65以下であり、鋼板の板厚当たりの溶接ワイヤの溶着金属量Ftが2.5以上、6.0以下であり、さらに前記アーク溶接のシールドガス中の成分がAr、CO2、O2からなり、O2≦６体積％で且つ３０体積％≦CO2＋5×O2≦１００体積％の関係を満たすことを特徴とする亜鉛めっき鋼板のアーク溶接方法。 - 特許庁

A capacitor having a ferroelectric film (capacitor film) 302 that is formed above a semiconductor substrate and is sandwiched between an upper electrode 303 and a lower electrode 301, wherein a conductive oxide film 303a, which is crystallized at deposition, is provided on an interface between the upper electrode 303 and the ferroelectric film 302, thus evading the formation of an interface layer with coarsened crystal grains in the interface between the upper electrode 303 and the ferroelectric film 302.例文帳に追加

半導体基板の上方に形成され、上部電極３０３と下部電極３０１との間に強誘電体膜（キャパシタ膜）３０２が挟持されてなるキャパシタにおいて、上部電極３０３の強誘電体膜３０２との界面に、成膜の時点で結晶化されている導電性酸化物膜３０３ａを設けるようにして、上部電極３０３と強誘電体膜３０２との界面に、結晶粒が粗大化した界面層が形成されてしまうのを回避する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition having negative intrinsic birefringence and comprising an acrylic polymer having positive intrinsic birefringence and a styrene polymer having negative intrinsic birefringence, wherein evaporation of a component contained in the composition and deposition of deposited material to a device to be used for extrusion molding (e.g., a film-forming roller) are suppressed during melt extrusion molding (e.g., during film formation from the composition by melt extrusion molding).例文帳に追加

正の固有複屈折を有するアクリル重合体と負の固有複屈折を有するスチレン系重合体とを含む、負の固有複屈折を有する熱可塑性樹脂組成物であって、溶融押出成形時（例えば、溶融押出成形による当該組成物からのフィルム形成時）に、当該組成物に含まれる成分の蒸散ならびに押出成形に使用する装置（例えば、フィルム成形用ロール）への付着物の堆積が抑制された樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing an organic thin-film solar cell containing an anode and a cathode which are formed to be spaced from each other, a photoelectric conversion layer of an organic thin film provided between the anode and the cathode, and an electron transport layer formed of TiO_x provided between the photoelectric conversion layer and the cathode, the electron transport layer formed of TiO_x is formed by a combustion chemical vapor deposition method.例文帳に追加

互いに離間して形成された陽極および陰極と、前記陽極と前記陰極との間に設けられた有機薄膜の光電変換層と、前記光電変換層と前記陰極との間に設けられたＴｉＯ_xからなる電子輸送層とを有する有機薄膜太陽電池を製造するにあたり、前記ＴｉＯ_xからなる電子輸送層を燃焼化学気相成長法により形成することを特徴とする有機薄膜太陽電池の製造方法。 - 特許庁