Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
The shape-forming process S14 and the film deposition process S15 are consecutively performed in a film deposition apparatus for forming the oxide film.例文帳に追加
形状加工工程S14と、成膜工程S15とを、酸化膜を成膜する成膜装置内で連続して行う。 - 特許庁
To provide a sputtering thin film deposition system capable of depositing a thin film of high quality at high film deposition rate.例文帳に追加
製膜速度が高く、品質が高い薄膜を形成することができるスパッタリング薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁
PROCESS FOR PRODUCING THIN FILM OF METAL OXIDE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION USING ALCOHOL OR ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加
アルコールを用いた化学気相蒸着法または原子層蒸着法による金属酸化物薄膜の製造方法 - 特許庁
The shape forming process S14 and the film deposition process S15 are continuously performed in a film deposition apparatus for forming the oxide film.例文帳に追加
形状加工工程S14と、成膜工程S15とを、酸化膜を成膜する成膜装置内で連続して行う。 - 特許庁
As a result, a film deposition rate higher than that in the conventional case can be obtained, and in its turn, film deposition cost can be reduced.例文帳に追加
その結果、従来よりも高い成膜速度を得ることができ、ひいては成膜コストを低減することができる。 - 特許庁
The film deposition processing module 15 comprises the other side 13 of the vacuum vessel, a vacuum pump 12 and a film deposition unit 11.例文帳に追加
成膜処理モジュール15は、真空容器の他方側13と真空ポンプ12と成膜ユニット11を備えている。 - 特許庁
Besides, film deposition of low film quality deposited in the low density plasma region is restrained and deposition of uniform film quality become possible.例文帳に追加
また低密度プラズマ領域で堆積する低い膜質の膜堆積を抑制し、膜質一定の成膜が可能になる。 - 特許庁
First and second detecting means 11 and 12 detect the vapor deposition state from the first and second vapor deposition sources 3 and 4.例文帳に追加
第1,第2の検出手段11,12は第1,第2の蒸着源3,4からの蒸着状態を検出する。 - 特許庁
To provide an ECR (Electron Cyclotron Resonance)sputtering system capable of performing the film deposition sputtering on a substrate to which the low-temperature film deposition is requested.例文帳に追加
低温成膜が要求される基板に対して、成膜スパッタリングを可能とするECRスパッタ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a deposition system in which the formation of a carbon-containing layer can be suppressed, and a deposition method.例文帳に追加
炭素含有層が形成されることを抑制することができる成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁
The barrier membrane for protecting the thin film display element is manufactured by a physical deposition method using SiC as a raw material for deposition.例文帳に追加
成膜原料としてSiCを用いた物理的成膜法により作製された薄膜表示素子保護用バリヤー膜。 - 特許庁
This deposition may form a protruding structure that at least partially blocks the deposition of the dielectric material into the gap.例文帳に追加
該堆積は、該ギャップへの該誘電材料の該堆積を少なくとも部分的にブロックする突出構造を形成してもよい。 - 特許庁
The deposition apparatus 10 is used to deposit the particles onto the substrate such as the wafer in a deposition chamber 15.例文帳に追加
堆積チャンバ15内でウエハのような基板上に粒子を堆積させるために堆積装置10が使用される。 - 特許庁
To provide a metal complex of a tridentate β-ketoiminate which can be used as a precursor of chemical vapor deposition or atomic layer vapor deposition.例文帳に追加
化学蒸着又は原子層蒸着の前駆体として使用される三座β-ケトイミネートの金属錯体の提供。 - 特許庁
THIN FILM DEPOSITION APPARATUS, METHOD FOR CONTROLLING EXHAUST MEANS OF THE THIN FILM DEPOSITION APPARATUS, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE WITH THIN FILM DEPOSITED THEREON例文帳に追加
薄膜形成装置と薄膜形成装置の排気手段の制御方法と薄膜を形成した基板の生産方法 - 特許庁
LIQUID MATERIAL VAPORIZING/FEEDING DEVICE, THIN FILM DEPOSITION APPARATUS, AND VAPORIZING/FEEDING METHOD OF LIQUID MATERIAL TO THIN FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
液体材料気化供給装置、薄膜堆積装置および薄膜堆積装置への液体材料気化供給方法 - 特許庁
THIN FILM DEPOSITION METHOD, THIN FILM DEPOSITION SYSTEM, THIN FILM MATERIAL, ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加
薄膜形成方法、薄膜形成装置、薄膜材料、電子写真用感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus and a film deposition method for depositing a uniform and dense film without generating any film defects.例文帳に追加
製膜装置及び成膜方法に関し、膜欠陥を発生させることなく、均一で緻密な膜を製膜する。 - 特許庁
To easily deposit metal particles on a deposition-preventive plate, while unifying the size of the metal particles deposited on the deposition- preventive plate.例文帳に追加
防着板に形成される金属粒子の均一化を図りつつ、金属粒子を防着板に容易に形成する。 - 特許庁
To provide a thin film vapor deposition system and a vapor deposition method which can improve the quality of the formed thin film.例文帳に追加
薄膜の成膜品質を向上させることができる薄膜蒸着装置および蒸着方法を提供する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition device prolonging the service life of a crucible to be stored with high m.p. metal used for vapor deposition.例文帳に追加
蒸着に使用する高融点金属を収納するルツボの寿命を長くする蒸着装置を提供する。 - 特許庁
Film formation is performed using the fine particle by means of aerosol 7 type gas deposition by use of a fine deposition system 1.例文帳に追加
当該微粒子を用いて、微細成膜装置1を用いてエアロゾル7式ガスデポジション法により被膜形成を行う。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus and a target device capable of enhancing the productivity of the film deposition on a substrate.例文帳に追加
基板に対する成膜の生産性を向上させることが可能な成膜装置およびターゲット装置を提供する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus and vapor deposition method that allow formation of a film having an excellent film quality.例文帳に追加
優れた膜質の膜を形成することが可能な気相成長装置および気相成長方法を提供する。 - 特許庁
To provide film deposition method and a system therefor capable of improving coverage characteristics while a high film deposition rate is held.例文帳に追加
高い成膜速度を維持したまま、カバレージ特性を向上させることができる成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁
Thus, by detecting the amount of the toner, the amount of toner deposition during contact and the amount of toner deposition during separation are measured.例文帳に追加
このようにトナーの量を検知することで、接触時トナー付着量と、離間時トナー付着量とを測定する。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus capable of stabilizing DC high-density plasma even when performing the film deposition of an insulating film.例文帳に追加
絶縁膜を成膜する場合にも、直流高密度プラズマを安定させることが可能な成膜装置を提供する。 - 特許庁
The activated oxygen gas and hydrogen gas then remove deposition adhering to the inside of the thin film deposition system 1.例文帳に追加
そして、活性化した酸素ガス及び水素ガスにより、薄膜形成装置1の内部に付着した付着物を除去する。 - 特許庁
This electrode is constituted of an ionization gage ion collector and disposed to the spacing between the inner wall of the film deposition chamber and a chamber-deposition shield plate.例文帳に追加
該電極は電離計イオンコレクタで構成し、該成膜室の内壁と該防着板との間の空間に設けた。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING METAL VAPOR DEPOSITION FILM WITH OXIDATION PREVENTING LAYER AND METAL VAPOR DEPOSITION FILM WITH OXIDATION PREVENTING LAYER例文帳に追加
酸化防止層を備えた金属蒸着フィルムの製造方法及び酸化防止層を備えた金属蒸着フィルム - 特許庁
The robot type vacuum film deposition apparatus 30 comprises a robot type substrate holding module 10 and a film deposition processing module 15.例文帳に追加
ロボット式真空成膜装置30は、ロボット式基材保持モジュール10と成膜処理モジュール15を備えている。 - 特許庁
The performance of the MMO1 catalyst is improved by a Te-submonolayer deposition onto its surface by vapor deposition.例文帳に追加
MMO1触媒の性能は、蒸着によるその表面上へのTeのサブモノレイヤー堆積によって改善される。 - 特許庁
Since the film deposition can be performed at a low temperature in the aerosol deposition process, a solid lubricant is not damaged by heat.例文帳に追加
エアロゾルデポジション法では低温で成膜することができるので、固体潤滑剤が熱で損傷することがない。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus capable of smoothly performing the film deposition while using a wire formed of a lithium metal or the like as an evaporation source.例文帳に追加
リチウム金属等のワイヤを蒸発源として用いつつ、成膜を円滑に行いうる成膜装置を提供する。 - 特許庁
To prevent the omission of fluorine in a fluoride film caused by an electronic charge during film deposition in a film deposition method using a cluster ion assist.例文帳に追加
クラスターイオンアシストによる成膜方法において、成膜中の電子チャージによるフッ化物膜のフッ素欠損を防ぐ。 - 特許庁
Further, as vapor deposition material for the oblique vapor deposition films, dielectrics such as SiO_2 and TiO_2 are effectively used.例文帳に追加
また、斜め蒸着膜の蒸着材料としては、誘電体が使用され、例えば、SiO_2、TiO_2などが有効である。 - 特許庁
To minimize the time from the deposition of a magnetic film to the start of the deposition of the next dielectric film and to maintain the specified time thereof.例文帳に追加
磁性膜の成膜から次の誘電体膜の成膜を開始するまでの時間を最小かつ一定に保つ。 - 特許庁
A raised bottom portion 12 is partially provided on a bottom surface of a vapor deposition container 11 for storing a vapor deposition material 14.例文帳に追加
蒸着材料14を収容する蒸着容器11の容器底面に上げ底部12を部分的に設ける。 - 特許庁
To prevent a deposition head from being contaminated with sample droplets from other deposition head in a droplet dispensing device.例文帳に追加
液滴配給装置において堆積ヘッドが他の堆積ヘッドからの試薬液滴で汚染されるのを防止すること。 - 特許庁
As the forming method, chemical vapor deposition or plasma chemical vapor deposition is used.例文帳に追加
本発明に記載された形成方法では、化学気相堆積法又はプラズマ化学気相堆積法の方法を用いている。 - 特許庁
To provide film deposition by using a thin film deposition device capable of reducing the time required for self-cleaning and capable of improving the productivity, to provide a self-cleaning method and to provide a thin film deposition device.例文帳に追加
セルフクリーニングに要する時間を短縮でき、生産性の向上を図ることができる薄膜形成装置の成膜、セルフクリーニング方法、および薄膜形成装置を提供する - 特許庁
To provide a vacuum vapor deposition apparatus operating method, and a vacuum vapor deposition apparatus capable of performing the film deposition on a long strip-like base material so that the film thickness is uniform in the longitudinal direction.例文帳に追加
長尺帯状基材に長手方向における膜厚が均一となるように成膜を行う真空蒸着装置の運転方法および真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
To provide an electrochromic element having high coloring efficiency at a low cost by a film-deposition technique by which high speed film-deposition is made possible and control of a film-deposition condition for forming a gap can be easily performed.例文帳に追加
高速成膜が可能であり、また空隙形成のための成膜条件制御も容易な成膜技術により、発色効率の高いエレクトロクロミック素子を低コストに提供する。 - 特許庁
The thin film deposition treatment controlling means 110 performs the stop of a thin film deposition treatment at a rotational position coincident with the rotational position of the rotary drum 13 at the start of the thin film deposition treatment.例文帳に追加
薄膜形成処理制御手段110は、薄膜形成処理開始時の回転ドラム13の回転位置と一致する回転位置で薄膜形成処理の停止を行う。 - 特許庁
To shorten the deposition working time as much as possible, and to improve the durability of a crucible by keeping a raw material for deposition in a molten condition even after the deposition of one batch is completed.例文帳に追加
1バッチの蒸着終了後にも蒸着原料を溶融状態に保持して、蒸着作業時間をできるだけ短縮するとともに、坩堝の耐久性を向上する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition tool which has a relatively simple structure and can reduce the film thickness difference caused by the mounting position of a material to be vapor-deposited, and to provide a vapor deposition apparatus or the like with the vapor deposition tool.例文帳に追加
比較的簡単な構造で、被蒸着物の装着位置による膜厚差を低減することができる蒸着治具及びこれを備えた蒸着装置等を提供すること。 - 特許庁
The plurality of vapor deposition heads 125 are moved between the storage position and the film deposition position for blowing the film deposition material conveyed through the plurality of connection pipes 150 toward a substrate G.例文帳に追加
複数の蒸着ヘッド125は、複数の連結管150を搬送した成膜材料を基板Gに向けて吹き出すために収納位置と成膜位置との間を移動する。 - 特許庁
Then, the gasified vapor deposition material gas is generated by heating the vapor deposition material 30 contained in the crucible 13 using the heating part 14, and the vapor deposition film is formed on the object to be treated.例文帳に追加
次に、坩堝13に収納された蒸着材料30を加熱部14により加熱して、気体化した蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。 - 特許庁
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