HAFNIAを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 41件
A preferred material has been about 3-70 mol.% hafnia, balance hafnia.例文帳に追加
好ましい材料は、約3〜70モル%のガドリニアと残部のハフニアを含む。 - 特許庁
METHOD FOR UNIFORMLY APPLYING HAFNIA-CONTAINING SOL SOLUTION AND METHOD FOR MANUFACTURING HAFNIA HARD COATING FILM例文帳に追加
ハフニア含有ゾル液の均一塗布方法及びハフニアハードコート膜の製造方法 - 特許庁
The ceramic material 20 includes gadolinia and hafnia, preferably forming gadolinia-hafnia.例文帳に追加
セラミック材料20は、ガドリニアとハフニアを含み、好ましくはガドリニア−ハフニアを形成する。 - 特許庁
CRYSTALLINE HAFNIA SOL AND PRODUCTION PROCESS例文帳に追加
結晶質ハフニアゾルおよびその製造方法 - 特許庁
The environmentally resistant film material comprises at least one member selected from the group consisting of hafnia, hafnia containing zirconia, and hafnia containing hafnia or zirconia stabilized with a rare earth oxide and/or silica.例文帳に追加
耐環境性皮膜材料は、ハフニア、ジルコニアを含むハフニア並びに希土類酸化物及び/又はシリカにより安定化されたハフニアまたはジルコニアを含むハフニアよりなる群から選ばれた1又は2以上を含む。 - 特許庁
STABILIZED ZIRCONIA THERMAL BARRIER COATING WITH HAFNIA例文帳に追加
ハフニアを備える安定化ジルコニアの遮熱コーティング - 特許庁
The hafnia can be substituted with zirconia of an amount of ≤40 mass%.例文帳に追加
また、ハフニアを40質量%以下の量のジルコニアに置換することもできる。 - 特許庁
A hafnia sol liquid is prepared by dissolving a hafnium tetrachloride (HfCl_4) in ethanol under a nitrogen atmosphere.例文帳に追加
四塩化ハフニウム(HfCl_4)を窒素雰囲気下にてエタノールに溶解し、ハフニヤゾル液を作る。 - 特許庁
The cured product is characterized by comprising hafnia and/or zirconia and an alkyl silica.例文帳に追加
ハフニアおよび/またはジルコニアならびにアルキルシリカを含有することを特徴とする硬化体。 - 特許庁
The insulating film consisting of zirconia and Hafnia is formed on the surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板の表面上に、ジルコニアまたはハフニアからなる絶縁膜を形成する。 - 特許庁
Then a gel film is obtained, by uniformly applying the hafnia sol solution to the surface of an Si wafer by the spinner method (500 rpm/5 seconds to 2,000 rpm/30 seconds).例文帳に追加
このゾル液をSiウェハにスピンナー法(500rpm/5秒→2000rpm/30秒)により均一に塗布してゲル膜を得る。 - 特許庁
In the ingot for ceramic coating, a ceramic body mainly consisting of zirconia is laminated on a ceramic body mainly consisting of hafnia.例文帳に追加
セラミックス被覆用インゴットは、ハフニアを主成分とするセラミックス体に、ジルコニアを主成分とするセラミックス体を積層する。 - 特許庁
This ceramic thermal barrier coating on a substrate includes a stabilized zirconia coating containing yttria and hafnia and there exists at least quantity of about 15 weight % as hafnia substantially reduces the thermal conductivity (f) of the thermal barrier coating.例文帳に追加
基板上のセラミックの遮熱コーティングであり、ここでコーティングはイットリアとハフニアを含有する安定化ジルコニアコーティングを含み、ハフニアは遮熱コーティングの熱伝導率を実質的に減少するために少なくとも約15質量%の量が存在する。 - 特許庁
To provide a method for preparing a semiconductor device by etching an insulating film consisting of zirconia and Hafnia by wet processing.例文帳に追加
ジルコニアやハフニアからなる絶縁膜を、ウェット処理でエッチングすることにより半導体装置を作製する方法を提供する。 - 特許庁
To form a film of hafnia added with yttrium used for a DRAM capacitor insulating film, while highly accurately controlling composition by means of atomic layer growth.例文帳に追加
DRAMキャパシタ絶縁膜に用いるイットリウム添加したハフニアを、原子層成長法で組成を高い精度で制御しながら成膜すること。 - 特許庁
The ingot comprises a sintered compact containing hafnia and one or more kinds of stabilizers selected from compounds containing the group 3A elements in the Periodic Table and rare earth element compounds of 2.5 to 10 mol% by an amount expressed in terms of oxide to hafnia.例文帳に追加
本発明のインゴットは、ハフニア、及びハフニアに対して酸化物換算量で2.5〜10モル%の周期律表3A族元素含有化合物及び希土類元素化合物から選択される1種または2種以上の安定化剤を含有してなる焼結体よりなることを特徴とする。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SOL OF HAFNIA AND/OR ZIRCONIA CONTAINING COMPLEX STRUCTURE WITH FORMIC ACID ION COORDINATED THEREIN, METHOD FOR PRODUCING HARD FILM, AND HARD FILM例文帳に追加
ギ酸イオンが配位した錯体構造が含まれるハフニア及び/又はジルコニアのゾルの製造方法、硬質膜の製造方法及び硬質膜 - 特許庁
In a second embodiment, the coating comprises an oxide selected from the group consisting of calcia, magnesia, alumina, zirconia, chromia, yttria, silica, hafnia and mixtures thereof.例文帳に追加
第二の実施態様では、被覆は、カルシア、マグネシア、アルミナ、ジルコニア、クロミア、イットリア、シリカ、ハフニア、およびこれらの混合物から成る群より選択される酸化物を含む。 - 特許庁
The ceramic film for heat shielding contains ceramics containing a hafnium oxide (hafnia: HfO_2) having a melting point of 2,000°C or higher as a main component.例文帳に追加
2000℃以上の融点を有し酸化ハフニウム(ハフニア:HfO_2)を主成分とするセラミックスからなることを特徴とする遮熱用セラミックス皮膜である。 - 特許庁
The ceramic material comprises at least one oxide and the balance comprising a first oxide selected from the group consisting of zirconia, ceria, and hafnia.例文帳に追加
セラミック材料は、少なくとも1つの酸化物と、ジルコニア、セリアおよびハフニアからなるグループから選択された第1の酸化物からなる残余とからなる。 - 特許庁
The hard film is obtained by curing a film formed of a sol composition comprising a hafnia sol and/or a zirconia sol and a silane coupling agent.例文帳に追加
(1)ハフニアゾルおよび/またはジルコニアゾルならびにシランカップリング剤を含有するゾル組成物から形成された薄膜を硬化させて成ることを特徴とする硬質膜。 - 特許庁
This method for producing the optically active amino acid by effecting microorganisms selected from a group of the genuses Hafnia, Burkholderia, Acidovorax, Pseudomonas, Arthrobacter, Paracoccus, Sphingomonas and Brevundimonas, or their treated materials on a mixture of a compound having amino group such as alkane diamine with fumaric acid is provided by presenting magnesium ion in the above reaction system.例文帳に追加
アルカンジアミン等のアミノ基を有する化合物とフマル酸の混合物に、ハフニア(Hafnia)属、バークホルデリア(Burkholderia)属、アシドボラックス(Acidovorax)属、シュードモナス(Pseudomonas)属、アースロバクター(Arthrobacter)属、パラコッカス(Paracoccus)属、スフィンゴモナス(Sphingomonas)属、ブレブンジモナス(Brevundimonas)属の群から選択される微生物または該処理物を作用させ、光学活性アミノ酸を製造するに際し、該反応系にマグネシウムイオンを存在させる。 - 特許庁
To provide a transparent zirconia- or hafnia-based ceramic which is more excellent in optical characteristics than the conventional transparent ceramic and can provide a molding or structure that is difficult to attain by a single crystal.例文帳に追加
従来の透明セラミックよりも光学特性に優れ、かつ、単結晶には達成困難な造形や構造を提供できる透明ジルコニア又はハフニア系セラミックを提供する。 - 特許庁
The bacterium used is selected from the bacterium group consisting of Agrobacterium, Pseudomonas, Achromobacter, Devosia, Frateuria, Paenibacillus, Brevibacterium, Hafnia, Raoultella, Rhizobium, and Serratia.例文帳に追加
使用される細菌は、アグロバクテリウム属、シュードモナス属、アクロモバクタ属、デボシア属、フラテウリア属、パエニバチラス属、ブレビバクテリウム属、ハフニア属、ラオウルテラ属、リゾビウム属およびセラッティア属からなる細菌属群から選ばれる。 - 特許庁
A preferable thermal barrier layer is formed by using dense vertical cracking process, and consists of zironia partially stabilized by yttria in a preferable amount of <4 wt.% and about 1 wt.% hafnia.例文帳に追加
好ましい遮熱層は、稠密縦裂を用いて形成され、4重量%未満の好ましい量のイットリアと約1重量%のハフニアで部分的に安定化したジルコニアからなる。 - 特許庁
To provide a method for forming a uniform coating film comprising a hafnia-containing sol solution, of which the wetting properties are bad with respect to the surface of a metal, on the surface of the metal.例文帳に追加
この発明は、金属表面に対して濡れ性の悪いハフニアを含有するゾル液の均一な塗布膜を金属表面に形成することのできる方法を提供することを、目的とする。 - 特許庁
To provide stabilized zirconia thermal barrier coating having a thermal conductivity reduced due to planned inclusion of hafnia in quantity higher than an impurity level and its coating method.例文帳に追加
本発明の目的は、安定化ジルコニアの遮熱コーティング及びコーティング方法を提供することであり、ここでコーティングは不純物レベル以上の量のハフニアの計画的な包含による減少した熱伝導率を有する。 - 特許庁
The manufacturing method of the hard film is characterized by applying a composite sol obtained from a sol containing hafnia and/or zirconia and a water soluble epoxy group-containing organic compound on the surface of the substrate and conducting the hardening.例文帳に追加
ハフニア及び/又はジルコニアを含むゾルと水溶性エポキシ基含有有機化合物とから得られる複合ゾルを基材表面に塗工し、硬化処理を施すことを特徴とする硬質膜の製造方法。 - 特許庁
To provide a crystalline hafnia sol comprised of monodispersed particles, applicable to refractory materials, insulators, dielectrics, coatings, optical materials, abrasive compounds, catalysts, solid solution, sintered compacts, and other various ceramics.例文帳に追加
耐火物、絶縁体、誘電体、コーティング、光学材料、研磨剤、触媒、固溶体、焼結体、その他多種多様なセラミックスに利用可能な微粒子単分散な結晶質ハフニアゾルとその効率的な製造方法を提供する。 - 特許庁
The hard coating formation method comprises applying sol containing hafnia and/or zirconia together with a natural polymer composing tannin or urushiol and/or photocurable monomer to the surface of a substrate.例文帳に追加
ハフニアおよび/またはジルコニアとタンニン若しくはウルシオールを構成成分とする天然高分子、及び/又は光硬化性モノマーとを含有するゾルを基材の表面に塗布することを特徴とする硬質塗膜の製造方法。 - 特許庁
A hard coating film is formed on a metal base material subjected to degreasing treatment or electrolytic treatment by coating the metal base material with the hafnia-containing sol solution formed by a sol-gel method and subjecting the coating film on the metal base material to curing treatment.例文帳に追加
ゾルゲル法により形成されたところのハフニアを含有するゾル液を、脱脂処理又は電解処理された金属基材上に塗布し、前記塗布により形成された塗布膜を硬化処理することを特徴とするハードコート膜形成方法。 - 特許庁
In the method of recycling the chromium-containing refractory, the spent refractory containing chromia and the balance being at least one kind selected from a group consisting of alumina, magnesia, silica, zirconia, hafnia and lime is used as a raw material of artificial jewelry.例文帳に追加
本発明によるクロム含有耐火物のリサイクル方法では、クロミアを含み、残部がアルミナ、マグネシア、シリカ、ジルコニア、ハフニアおよびライムからなる群から選ばれる少なくとも1種である使用済み耐火物を、人工宝石の原料として用いる。 - 特許庁
The manufacturing method of the hard film is characterized by applying the composite sol obtained from a sol containing at least one selected from the group consisting of zirconia, hafnia and a zirconium and/or hafnium-containing lamellar compound, and humic acid on the surface of the substrate.例文帳に追加
ジルコニア、ハフニア並びにジルコニウム及び/又はハフニウム含有層状化合物から成る群より選ばれる少なくとも一種を含むゾルとフミン酸とから得られる複合ゾルを基材表面に塗工することを特徴とする硬質膜の製造方法。 - 特許庁
The environmentally resistant film structure is a film structure covering a support having a low coefficient of thermal expansion, wherein hafnon (HfSiO_4) is a first layer 2 directly formed on a support 1, and hafnia is formed thereon as a second layer 3.例文帳に追加
更には、低熱膨張係数を有する基材を被覆する皮膜構造体において、ハフノン(HfSiO_4)を基板1上に直接形成される第1層2とし、その上にハフニアを第2層3として皮膜するようにして耐環境性皮膜構造体を構成するようにしている。 - 特許庁
The physical barrier layer (20) comprises zirconia or hafnia stabilized with an oxide of a metal selected from the group consisting of magnesium, calcium, scandium, yttrium, and lanthanide metals; and a low CTE oxide selected from the group consisting of niobia and tantala, and mixtures thereof.例文帳に追加
物理バリヤー層(20)は、マグネシウム、カルシウム、スカンジウム、イットリウム及びランタニド金属からなる群から選択される金属の酸化物で安定化したジルコニア又はハフニアと、ニオビア及びタンタラ及びこれらの混合物からなる群から選択される低CTE酸化物とを含む。 - 特許庁
The method of forming the above hard film comprises preparing the sol composition comprising a hafnia sol and/or a zirconia sol and a silane coupling agent, then coating the sol composition thus prepared on a metal surface, and thereafter subjecting the sol composition coated on the metal surface to curing treatment.例文帳に追加
(2)ハフニアゾルおよび/またはジルコニアゾルならびにシランカップリング剤を含有するゾル組成物を調製し、次いで、調製された前記ゾル組成物を金属表面に塗布した後、前記金属表面に塗布されたゾル組成物を硬化処理することを特徴とする前記硬質膜の形成方法。 - 特許庁
The crystalline hafnia sol containing particles of an average particle diameter of 30-100 nm is produced by a method comprising retaining a slurry comprising hafnium hydroxide, an acid and water at a temperature of at least 80°C and, preferably, containing 0.01-2.0 g-equivalent amount of the acid, in a slurry, relative to 1 mole of hafnium.例文帳に追加
水酸化ハフニウムと酸および水からなるスラリーを80℃以上の温度で保持し、好ましくは、ハフニウム1モルに対して0.01〜2.0グラム当量の酸をスラリー中に含むことにより、平均粒子径が30〜100nmである結晶質ハフニアゾルを製造することを特徴とする。 - 特許庁
The article (10) further comprises an environmental barrier layer (16), e.g. an alkaline earth metal aluminosilicate, and a top coat (18) comprising hafnia stabilized with 0.5-10 mole% of an oxide of a metal selected from the group consisting of magnesium, calcium, scandium, yttrium, and lanthanide metals, and mixtures thereof.例文帳に追加
物品(10)はさらに、環境バリヤー層(16)(例えば、アルカリ土類金属アルミノケイ酸塩)と、マグネシウム、カルシウム、スカンジウム、イットリウム及びランタニド金属及びこれらの混合物からなる群から選択される金属の酸化物0.5〜10モル%で安定化したハフニアを含むトップコート(18)とを含む。 - 特許庁
In the atomic layer growth including introduction of hafnium compound raw material, introduction of yttrium compound raw material and introduction of an oxidizing agent as one cycle, introduction times of the hafnium compound raw material and the yttrium compound raw material are controlled and a displacement rate of a sample surface OH group due to the raw materials is controlled, thereby accurately controlling the quantity of yttrium to be added into the hafnia.例文帳に追加
ハフニウム化合物原料の導入、イットリウム化合物原料の導入、酸化剤の導入を1サイクルとした原子層成長法において、ハフニウム化合物原料とイットリウム化合物原料の導入時間を制御し、試料表面OH基の各原料による置換率を制御することで、ハフニア中へのイットリウムの添加量を正確に制御する。 - 特許庁
The article 10 comprises a substrate 12 formed of a silicon-comprising material, and further comprises an environmental barrier layer 16, e.g., an alkaline earth metal aluminosilicate, and a top coat 18 comprising zirconia or hafnia stabilized with up to about 10 mol% of an oxide of a metal selected from the group consisting of magnesium, calcium, scandium, yttrium, and lanthanide metals, and mixtures thereof.例文帳に追加
ケイ素含有材料からなる基材12を含み、さらに、環境バリヤー層16(例えば、アルカリ土類金属アルミノケイ酸塩)と、マグネシウム、カルシウム、スカンジウム、イットリウム及びランタニド金属及びこれらの混合物からなる群から選択される金属の酸化物10モル%以下で安定化したジルコニア又はハフニアを含むトップコート18とを含む物品10。 - 特許庁
The CMAS mitigation composition is selected from the group consisting of rare earth elements, rare earth oxides, zirconia, hafnia partially or fully stabilized with alkaline earth or rare earth elements, zirconia partially or fully stabilized with alkaline earth or rare earth elements, magnesium oxide, cordierite, aluminum phosphate, magnesium silicate, and combinations thereof.例文帳に追加
希土類元素、希土類酸化物、ジルコニア、アルカリ土類元素又は希土類元素で部分的又は全体的に安定化したハフニア、アルカリ土類元素又は希土類元素で部分的又は全体的に安定化したジルコニア、酸化マグネシウム、コージライト、リン酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びそれらの組み合わせからなる群より選択されるCMAS軽減組成物。 - 特許庁
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