「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(76ページ目) - Weblio英語例文検索

The anticlouding cover is coated with a hydrophilic composition on at least one side of the substrate, and the surface of the coating layer has a contact angle of ≤15° before and after 500-hour immersion in water at 30°C and a center line average roughness Ra of 1.0-5.0 nm.例文帳に追加

基材の少なくとも片面上に親水性組成物をコーティングした防曇性カバーであり、該コーティング層表面は、３０℃の水に５００時間浸漬させる前及び浸漬させた後のいずれも水に対する接触角が１５°以下であり、かつ中心線平均粗さＲａが１．０ｎｍ〜５．０ｎｍであることを特徴とする防曇性カバー。 - 特許庁

The antibacterial film for sealing the container for the food stored with the immersion water is characterized by constituting the inside face with a film-like body formed of an antibacterial resin selected from an olefin polymer or a styrene polymer containing 0.05-10 wt.% zeolite carrying a metal silver or a silver compound.例文帳に追加

内側となる面が、金属銀又は銀化合物を担持したゼオライトを０．０５〜１０重量％含有するオレフィン系重合体又はスチレン系重合体から選ばれた抗菌樹脂によって形成されたフィルム状体によって構成されてなることを特徴とする浸漬水と共に収容される食品の容器を封止するための抗菌性フィルム。 - 特許庁

To provide a method whereby slag in a tundish can be discharged well without generation of clogging in an immersion nozzle when it is used in hot reuse and steel excellent in cleanliness is obtainable and further a generation of a bubble defect on the casting surface layer can be prevented when steel containing Mn of 0.8 wt.% or more can be cast.例文帳に追加

タンディッシュを熱間再使用する際に、タンディッシュ内のスラグの排出性が良好で、浸漬ノズルの詰まりの発生がなく、また、清浄性に優れた鋼を得ることができ、さらに、Ｍｎ含有率が０．８重量％以上の鋼を鋳造する場合に、鋳片表層部の気泡性欠陥の発生を防止することができる方法の提供。 - 特許庁

The coating method has a step where at least the coating liquid injection surface of the inkjet head is immersed in a solvent; and a step where the droplets of the solvent stuck are removed from the coating liquid injection surface by blowing air on the coating liquid injection surface of the inkjet head after immersion is completed, before the application is started from the coating stopping state.例文帳に追加

塗布停止状態から塗布を開始する時に塗布開始前に、インクジェットヘッドの少なくとも塗布液射出面を溶媒に浸漬するステップと、浸漬が終了した前記インクジェットヘッドの塗布液射出面に空気を送風し吹き付け、前記塗布液射出面から付着した溶媒の液滴を除去するステップと、を有する。 - 特許庁

In manufacturing equipment for performing surface treatment liquid immersion treatment in a stage of a gel film 28, a pair of the drain rolls 26 for pressing the gel film 28 from both surfaces thereof are formed as taper rolls and the diameter of each of the rolls is set to ϕ120 or more to provide an apparatus for effectively treating the surface of the film with a surface treatment liquid without generating coating irregularity.例文帳に追加

表面処理液浸漬処理をゲルフィルム２８の段階において行う製造設備において，ゲルフィルム２８を表裏両面側から加圧する一対の液切りロール２６をテーパロールにし、かつロール径をφ１２０以上にする、表面処理液を塗工ムラなく効果的にフィルム表面に処理する装置を提供する。 - 特許庁

The sludge is aerated in a sludge storage tank 2 and concentrated in an immersion type membrane separator 3 and the concentrated sludge is dried by a sludge dryer 8 to manufacture the seeding agent, and an offensive smell and condensed water generated in the sludge dryer 8 are introduced into the sludge storage tank 2 to be biologically treated.例文帳に追加

汚泥貯留槽２において原料の汚泥を曝気するとともに浸漬型膜分離装置３によって濃縮し、濃縮した汚泥を低温真空乾燥を行う汚泥乾燥機８により乾燥してシーディング剤を製造し、汚泥乾燥機８で発生する臭気および凝縮水を汚泥貯留槽２に導入して生物処理する。 - 特許庁

The immersion exposure process is characterized in that the resolution of the resist pattern is improved by exposing a resist film to light via the nonaqueous liquid of a certain thickness which has a refractive index higher than that of the air and is disposed at least on the resist film within the path where a lithography exposure light propagates through to the resist film.例文帳に追加

前記液浸露光プロセスが、リソグラフィー露光光がレジスト膜に到達するまでの経路の少なくとも前記レジスト膜上に、空気より屈折率が大きい所定厚さの前記非水性液体を介在させた状態で、前記レジスト膜を露光することによってレジストパターンの解像度を向上させる構成であることを特徴とする。 - 特許庁

To solve the problem that the illuminance unevenness or the like of exposure light is caused and further poor circuit baking or the like is caused by the adherence of a contaminant contained in a liquid medium on the liquid contact surface of an optical component when drying is performed while the drop of the liquid medium like deionized water is left on a lens surface, in a projection aligner using an immersion method.例文帳に追加

液浸法を用いた投影露光装置において、レンズ表面に純水など液体媒体の液滴が残留したまま乾燥すると、液体媒体に含まれる汚染物質が光学部品接液面に固着することによって、露光光の照度ムラなどを引き起こし、ひいては回路焼付不良等を引き起こすこともある。 - 特許庁

In the method for operating the vacuum-degassing vessel using the bricks on the inner wall in the vacuum-degassing vessel composed of the upper vessel, the lower vessel and the immersion tubes, in the case of continuously operating the vacuum degassing vessel at on-line position, the lowest temperature in the brick using portion in the vacuum-degassing vessel is adjusted to in the range of 800-1,400°C.例文帳に追加

上部槽、下部槽、浸漬管からなる真空脱ガス槽の内壁にレンガを用いた真空脱ガス槽の操業方法であって、前記真空脱ガス槽がオンライン位置にて連続稼働中に、該真空脱ガス槽内のレンガ使用部位の最低温度を８００〜１４００℃の範囲に調整することを特徴とする真空脱ガス槽の操業方法。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing the polarizing plate, in which productivity of a saponification process is high and safeness and environmental properties are improved by decrease in the concentration of an alkali solution used in the saponification process and by reduction of immersion time, to provide a high-quality polarizing plate with less irregular adhesiveness and degradation in flatness, and to provide a display device using the plate.例文帳に追加

ケン化処理工程の生産性が高く、ケン化処理に用いるアルカリ液濃度の低下、浸漬時間の短縮により安全性・環境性が向上した新しい偏光板の製造方法とその製造装置、接着性のムラや平面性劣化の少ない高品位の偏光板及びこれを用いた表示装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a washing device and a washing method for a substrate for a magnetic recording medium nearly free from dust generation in an immersion vessel as compared with a conventional washing device of a substrate for a magnetic recording medium, free from re-adhesion of dust to the washed substrate and capable of efficiently removing dust adhering to the substrate for the magnetic recording medium and obtaining high washing performance.例文帳に追加

従来の磁気記録媒体用基板の洗浄装置より浸漬槽内での発塵が少なく、塵埃が洗浄基板に再付着することがなく、磁気記録媒体用基板に付着した塵埃を効率よく除去できる、高度の洗浄性能の得られる磁気記録媒体用基板の洗浄装置および洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate regulation work for pH or the like of a contaminated solution however a wafer and contaminated metal are varied in the kind of the wafer and the kind of the contaminated metal, to make contaminated wafer preparing work able to be efficiently carried out, and to make the contaminated wafer of which the contaminated concentration is uniform within a wafer face stably preparable, in an immersion method.例文帳に追加

浸漬法において、ウェーハの種類、汚染金属の種類など、ウェーハ、汚染金属がいかに変化したとしても汚染液のｐＨなどの調整を不要にして、汚染ウェーハ作成作業を作業効率よく行えるようにするとともに、ウェーハ面内の汚染濃度が均一な汚染ウェーハを安定して作成できるようにする。 - 特許庁

The liquid used for an apparatus and a method for immersion exposure which carry out exposure through the liquid filling a space between a lens of a projection optical system and a substrate is refined using sulfuric acid made into microdroplets having an average particle size of ≤1 mm, and the transmission factor is ≥97% in the liquid per an optical path length of 1 mm in 193 nm.例文帳に追加

投影光学系のレンズと基板との間に満たされた液体を介して露光する液浸露光装置または液浸露光方法に用いられる液体であって、該液体は平均粒子径１ｍｍ以下の微細液滴化された硫酸を用いて精製され、１９３ｎｍにおける光路長１ｍｍあたりの透過率が９７％以上である。 - 特許庁

The immersion nozzle has a nozzle body 2 wherein molten metal is supplied into a mold, an antioxidation coating 8 placed on the external surface of the body 2, a heat insulating material 9, which is made of ceramic fiber, formed to cover the body 2 through the coating 8, and an antioxidation coating 10 applied on the external surface of the material 9.例文帳に追加

溶融金属をモールド内に供給するノズル本体２と、このノズル本体２の外表面に設けられた酸化防止用コーティング８と、この酸化防止用コーティング８を介してノズル本体２を覆うように設けられたセラミックファイバー製の保温材９と、この保温材９の外表面に設けられた酸化防止用コーティング１０とを有する浸漬ノズル。 - 特許庁

The resist cover film forming material is used to form a resist cover which covers a resist film when liquid immersion exposure is carried out on the resist film, and the resist cover film forming material contains at least a resin which is non-photosensitive and has an alicyclic skeleton in at least either a main chain or a side chain.例文帳に追加

本発明のレジストカバー膜形成材料は、レジスト膜に対して液浸露光を行う際に該レジスト膜をカバーするレジストカバー膜を形成するのに用いられるレジストカバー膜形成材料であって、該レジストカバー膜形成材料が非感光性であり、かつ主鎖及び側鎖の少なくともいずれかに脂環族骨格を有する樹脂を少なくとも含んでなる。 - 特許庁

An organic light emitting layer is formed by offset printing, using a blanket for offset printing of which a silicon rubber layer is a print surface in which eluted silicon oil component of molecular weight 1000 or higher by toluene immersion is 100 ppm or less while the silicon oil component of molecular weight 130 to less than 1000 is 100-15000 ppm.例文帳に追加

トルエン浸漬による分子量１０００以上の溶出シリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以下であり、且つ、分子量１３０以上１０００未満のシリコーンオイル成分が１００ｐｐｍ以上且つ１５０００ｐｐｍ以下であるシリコーンゴム層が印刷面であるオフセット印刷用ブランケットをもちいて、有機発光層をオフセット印刷法にて形成する。 - 特許庁

The exposure device EX includes an optical device 11 which emits the exposure light, stages 2, 32 which are movable on an emission side of the optical device 11, a given member 150(C) mounted on the stage, and a vibration-generating device 10 adapted to provide vibration to a liquid in a liquid immersion space formed on the given member by vibrating the given member.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光光を射出する光学素子１１と、光学素子１１の射出側で移動可能なステージ２，３２と、ステージに搭載された所定部材１５０（Ｃ）と、所定部材を振動させることによって所定部材上に形成されている液浸空間の液体に振動を与える振動発生装置（１０）とを備える。 - 特許庁

Further, in this immersion nozzle, this problem is dissolved at easier by adding what the slit is shut off from the atmosphere, inert gas is supplied into the slit, the pressure in the slit is higher than the atmosphere and the grain diameter of the CaO powder is regulated to ≤3 mm and the grain diameter of the carbon powder is regulated to ≤0.5 mm.例文帳に追加

又、この浸漬ノズルにおいて、スリットが大気と遮断されていること、スリット内に不活性ガスが供給され、スリット内が大気圧よりも高いこと、及び、ＣａＯ粉末の粒子直径が３ｍｍ以下で且つ炭素粉末の粒子直径が０．５ｍｍ以下であること等を付加することにより、課題はより一層容易に解決される。 - 特許庁

The curing composition comprises (A2) a vinyl polymer having oil resistance higher than that of a butyl acrylate homopolymer in an immersion test (of JISK 6258 for lubricating oil, the 3rd kind, 5 class for on land use defined by JIS K 2215) and (B2) silica as essential components.例文帳に追加

以下の２成分：（Ａ２）架橋性官能基を少なくとも１個有し、その硬化物の耐油性が、ＪＩＳ Ｋ ２２１５に規定される陸用３種５号の潤滑油に対するＪＩＳＫ ６２５８の浸漬試験のいずれか一項目で、同一構造を持つアクリル酸ブチル単独重合体の硬化物を上回るビニル系重合体、（Ｂ２）シリカ を必須成分とする硬化性組成物。 - 特許庁

The silver powder of which, an elusion amount of Ag when immersed in an aqueous solution of 40% KOH at 50°C is 40 mg/L or less, and Ag peak is substantially not appearing by an X-ray diffraction method after immersion in an aqueous solution of 40% KOH at 50°C for 72 hours, is used for the alkaline battery.例文帳に追加

５０℃のＫＯＨ４０％水溶液中で２４時間浸漬したときの電Ａｇ溶出量が４０ｍｇ／Ｌ以下であるアルカリ電池用酸化銀粉末，さらには５０℃のＫＯＨ４０％水溶液中で７２時間浸漬した後にもＸ線回折法にてＡｇのピークが実質的に現れないアルカリ電池用酸化銀粉末である。 - 特許庁

An ultrasonic inspection device is constituted of an ultrasonic scanning section equipped with a local immersion type ultrasonic probe 1, the driving section of the scanning section, and an arithmetic processing section which controls the scanning section through the driving section and executes inspections on a coating film formed on the surface of a base material which is an object to be inspected for defects.例文帳に追加

超音波検査装置については、局部水浸式の超音波プローブ１を備えた超音波走査部と、当該超音波走査部の駆動部と、当該駆動部を介して前記超音波走査部を制御し、被検体である母材表面に形成された皮膜の欠陥検査を実行する演算処理部とから超音波検査装置を構成する。 - 特許庁

In the cleaning method for the filter apparatus in the wastewater treatment equipment having the wastewater treatment apparatus for reducing a target component in wastewater using calcium and the filter apparatus connected to the rear stage of the wastewater treatment apparatus, the filter apparatus is subjected to hydrochloric acid immersion treatment after the operation of the wastewater treatment equipment.例文帳に追加

カルシウムを用いて排水中の対象成分を低減させる排水処理装置と、該排水処理装置の後段に接続されたろ過装置とを有する排水処理設備における、該ろ過装置の洗浄方法であって、前記排水処理設備の運転後に、該ろ過装置を塩酸浸漬処理することを特徴とする、該ろ過装置の洗浄方法。 - 特許庁

This hollow fiber membrane module and a producing method therefor are related to the hollow fiber membrane module which is used as the immersion module when the damage caused by the fouling effect in accordance with the use of particularly contaminated liquid or liquid causing fouling material is supposed in a filtration method and/or a dialysis method.例文帳に追加

本発明は、濾過法および／または透析法において、特に汚染した液体または付着物につながる液体の使用に基づいて付着効果（fouling effect）に起因する障害が予想される場合に、「浸漬モジュール」と称するものとして用いるための中空糸膜モジュール、さらにはこのような中空糸膜モジュールを製造するための方法に関する。 - 特許庁

The metal plate 1 introduced into the cooling device 2 is cooled by passing the immersion bath 5 but the cooling water movement to the width direction end portion is restricted by the spraying fluid of the width direction slit nozzles 31a-32b and cooling water does not act to cool from the width direction end portion of the metal plate 1 to the region of the non-cooling width Δ.例文帳に追加

冷却装置２に導入された金属板１は、浸漬槽５を通過することにより冷却されるが、幅方向スリットノズル３１ａ〜３２ｂの噴射流体により幅方向端部への冷却水の移動が制限されるから、金属板１の幅方向端部から非冷却幅Δの領域には冷却水が作用せず冷却されない。 - 特許庁

The method for manufacturing the polyimide resin endless belt is also characterized by including a fluororesin layer forming step of forming the fluororesin layer by immersing a core body formed of either a polyimide resin or a polyimide precursor film into a dispersion containing at least fluororesin powder of a large grain size and fluororesin powder of a small grain size and pulling up the core body after the immersion.例文帳に追加

ポリイミド樹脂およびポリイミド前駆体皮膜のいずれかが形成された芯体を、少なくとも大粒径のフッ素樹脂粉体および小粒径のフッ素樹脂粉体を含有する分散液中に浸漬し、浸漬後の芯体を引き上げてフッ素樹脂層を形成するフッ素樹脂層形成工程を含むことを特徴とするポリイミド樹脂無端ベルトの製造方法である。 - 特許庁

In the method for determining existence of water immersion into a switch 1, a section from the lower end of the outer surface of a body case 10 of the switch 1 to an upper portion of the lower end is cooled by a cooling spray until attachment of frost F and left in the frosted state.例文帳に追加

開閉器１の浸水有無判定方法は、開閉器１の本体ケース１０の外面の下端からそれより上方にかけて、冷却スプレーにより霜Ｆが付着するまで冷却して放置し、霜Ｆの一部が消えた場合には浸水ありと判定し、霜Ｆが消えた所と残っている所との境界を水位とするとともに、霜Ｆの全体が消えた場合には浸水なしと判定する。 - 特許庁

To simplify a vacuum control unit in a vacuum vessel and the vacuum control and to drastically improve durability by drastically reducing wear of the inner wall surface of an immersion tube caused by circulating flow in the vertical direction of molten steel.例文帳に追加

精錬容器内の溶鋼に、真空槽下端の浸漬管を浸漬し、真空槽によって溶鋼の脱ガスを行う溶鋼簡易脱ガス設備について、真空槽内溶鋼を積極的に縦に撹拌することで、真空槽内の溶鋼の真空槽壁面に対する流速を速くすることなしに精錬容器内溶鋼を撹拌及び脱ガスが向上させられるように、溶鋼撹拌法を工夫すること。 - 特許庁

To provide a plating solution and a plating method of electroless gold plating for plating a conductor pattern to be formed on a conductor pattern made of copper or aluminum formed on a printed circuit board or a wafer, in which a gold film is directly deposited by autocatalytic reduction reaction without performing immersion gold plating treatment on an electroless palladium plating film formed on the conductor pattern.例文帳に追加

プリント基板又はウエハー上に形成された銅又はアルミニウムからなる導体パターン上に形成される導体パターンめっきであって、導体パターン上に形成される無電解パラジウムめっき皮膜上に置換金めっき処理を施さなくても、自己触媒還元反応で直接金皮膜を析出させる無電解金めっきのめっき液及びめっき方法を提供する。 - 特許庁

The polymer for forming an overlay film covering a photoresist film to be subjected to liquid immersion exposure contains repeating units having a group containing a fluorine atom in the side chains, by 30 to 100 mol% of the whole repeating units, has 2,000 to 100,000 weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography, and is alkali soluble.例文帳に追加

液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための重合体であって、該重合体はフッ素原子を含む基をその側鎖に有する繰り返し単位が全体の繰り返し単位の３０〜１００モル％含まれており、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、アルカリ可溶性である。 - 特許庁

To obtain pellets containing carbon fibers with the dispersibility of carbon fibers during molding improved when the pellets are produced by an emulsion immersion method using a thermoplastic resin emulsion having a resin solid content of a diene-ethylene copolymer which is obtained from a diene monomer and a monomer having an ethylenic double bond and has a glass transition temperature of 20°C or higher.例文帳に追加

ジエン系単量体とエチレン系不飽和二重結合を有する単量体とをモノマー成分とし、ガラス転移点が２０℃以上のジエン−エチレン系共重合体を樹脂固形分とする熱可塑性樹脂エマルジョンを用いたエマルジョン浸漬法で炭素繊維含有ペレットを製造するに際し、成形時の炭素繊維の分散性を更に向上させた炭素繊維含有ペレットが得られるようにする。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition used as an adhesive for adhering an ink channel part with a constituting member of a liquid chamber of an inkjet head, having an ink resistance, especially an alkali resistance, capable of improving the close adhesion between members after a long period of immersion, and having a high peeling strength and a good workability, and a method for producing the inkjet head by using the above epoxy resin composition.例文帳に追加

インクジェットヘッドのインク流路部と液室部の構成部材を接着する接着剤として用いられ、耐インク性、特に耐アルカリ性を有し、長期浸漬後の部材間の密着性を改善でき、剥離強度が高く、作業性良好なインクジェットヘッド製造用エポキシ樹脂組成物、及びそのエポキシ樹脂組成物を用いたインクジェットヘッド製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a new nitrogen-containing organic compound suitably used for a chemically-amplified resist material applicable to immersion exposure that gives a high-resolution image and reduces dependence on mask coverage in photolithography for microfabrication, especially in lithography using as a light source a KrF laser, an ArF laser, an F2 laser, extremely-short ultraviolet rays, an electron beam, X-rays and the like.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ2レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性を達成すると共に、マスク被覆率依存性を低減し、更には液浸露光にも適用可能な化学増幅型レジスト材料に好適に用いられる新規な含窒素有機化合物の提供。 - 特許庁

The degradation of the resin composition is assessed by assessing molecular weight change of the polyacetal copolymer from the total peak area of peaks each having peak top from 8.04 ppm to 8.07 ppm of respective measured results of ^1H-NMR measurement of a plurality of polyacetal copolymers different in immersion time when immersed in the hydrocarbon-based liquid.例文帳に追加

炭化水素系液体に浸漬した際の浸漬時間が異なる複数のポリアセタール共重合体を含む樹脂組成物のそれぞれを^１Ｈ−ＮＭＲ測定した時に、それぞれの測定結果の８．０４ｐｐｍから８．０７ｐｐｍにピークトップを有するピークの合計面積から前記ポリアセタール共重合体の分子量の変化を評価することによって、上記樹脂組成物の劣化を評価する。 - 特許庁

The fluid handling structure for a lithographic apparatus includes, at a boundary between the space in which an immersion fluid is confined and an external region of the fluid handling structure: a first gas knife device having a plurality of openings arranged in a first column and an aperture in a second column; and a second gas knife device having one or a plurality of openings in a third array and an aperture in a fourth column.例文帳に追加

液浸流体を封じ込める空間と流体ハンドリング構造の外部領域との間の境界に、第１の列に配置された複数の開口と、第２の列のアパーチャを有する第１のガスナイフデバイスと、第３の列の１つ又は複数の開口と、第４の列のアパーチャを有する第２のガスナイフデバイスとを有するリソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造が提供される。 - 特許庁

The manufacturing method of the polyelectrolyte membrane includes an immersion process in which the polyelectrolyte membrane obtained by having a proton conductive group introduced into a polymer film that contains a polymer compound having an aromatic unit as well as a polymer compound having no aromatic unit is immersed into a solution containing a compound such as, for example, di-vinyl benzene.例文帳に追加

本発明の高分子電解質膜の製造方法は、芳香族単位を有する高分子化合物、および芳香族単位がない高分子化合物を含む高分子フィルムに、プロトン伝導性基が導入されることによって得られた高分子電解質膜を、例えばジビニルベンゼン等の化合物を含む溶液に浸漬させる浸漬工程を含むことを特徴としている。 - 特許庁

To provide an aloe mesophyll-containing processed food having good texture/throat-through feeling in eating in which a problem in which solid content of aloe mesophyll is sharply decreased and original texture is not tasted as aloe mesophyll contracts in processing steps such as sterilization treatment and sugar immersion when processing aloe mesophyll and a processing step of foods or beverages in which aloe mesophyll-containing processed food is formulated is solved.例文帳に追加

アロエ葉肉を加工する際の、例えば、殺菌処理、糖浸漬などの加工工程やアロエ葉肉含有加工品を配合した飲食品での加工工程においてアロエ葉肉が収縮するに伴い、アロエ葉肉の固形量が激減し、独特の食感を味わえないという問題を解決し、喫食時の食感・のどごし感のよいアロエ葉肉含有加工品を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist material that has good barrier performance to water, enables to keep a resist composition from eluting to water, has a high receding contact angle to water, is useful for an immersion lithography due to excellent process applicability without requiring a protective film, and enables to form a fine pattern precisely, as well as to provide a pattern formation method using the material.例文帳に追加

水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト組成物の水への溶出を抑制でき、水に対して高い後退接触角を有し、保護膜を必要とせずに優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効で、微細なパターンを高精度で形成することができるレジスト材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the continuous casting facility generating the rotating flow in the molten steel arranging the stopper for opening/closing the flow-out hole of the molten steel on the bottom surface of the tundish and arranging the rotating blades on the stopper, the rotating flow of the molten steel generating by the rotation of the stopper, is poured into a mold while swinging in an immersion nozzle.例文帳に追加

溶鋼の流出口を開閉するストッパーをタンディッシュの底面に設け、該ストッパーに回転翼を設けて溶鋼に回転流を発生させる連続鋳造設備であって、前記ストッパーの回転によって発生する溶鋼の回転流を、浸漬ノズル内を旋回させながら鋳型内に注入することを特徴とする連続鋳造設備およびその操業方法。 - 特許庁

There are provided a drying apparatus and a drying method concerning the drying apparatus characterized in that the apparatus comprises a member 10 storing substances containing moisture to store substances 30 containing moisture heated by a heat source; and a member 20 for restricting moisture immersion and aeration having an evaporation cooling surface 20A and a condensing surface 20B for condensing water vapor evaporated from the substances 30 containing moisture.例文帳に追加

熱源により加熱される水分含有物質３０を収容する水分含有物質収容部材１０と、蒸発冷却面２０Ａ及び該水分含有物質３０から蒸発した水蒸気が凝結する凝結面２０Ｂを有する水分浸透通気抑制部材２０とを有することを特徴とする乾燥装置と該乾燥装置に関する乾燥方法が提供される。 - 特許庁

To provide a resin for upper layer film forming compositions contained in an upper layer film forming composition which hardly causes intermixing with a photoresist film, can maintain a stable coat less liable to dissolve in an immersion liquid such as water, effectively suppresses occurrence of watermark defects and pattern defects, and allows formation of a high-resolution resist pattern while showing a high receding contact angle.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。 - 特許庁

A method of processing a photoresist composition includes: (a) applying onto a substrate a photoresist composition comprising (i) one or more resins, (ii) a photoactive component, and (iii) one or more materials that comprise sugar substitution and are substantially non-mixable with the one or more resins; and (b) immersion-exposing the photoresist layer to radiation activating the photoresist composition.例文帳に追加

（ａ）（ｉ）１種以上の樹脂（ｉｉ）光活性成分、および（ｉｉｉ）糖置換を含み、前記１種以上の樹脂と実質的に非混和性である１種以上の材料を含むフォトレジスト組成物を基体上に適用し、並びに（ｂ）フォトレジスト層を前記フォトレジスト組成物を活性化する放射線に液浸露光することを含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。 - 特許庁

In the immersion tube for vacuum degassing apparatus, in which a flange is arranged around the outer edge at the upper end and refractories are arranged at both sides and the lower end to a cylindrical core metal provided projectingly with studs at least at the outside and at the lower part, the refractory is made to monolithic refractory and also, refractory coarse grains are peculiarily added to the lower monolithic refractory.例文帳に追加

上端外縁にフランジを周設し且つ少なくとも外側および下方にスタッドを突設した円筒芯金に対してその両側および下端に耐火物を設けてなる真空脱ガス装置用浸漬管において、少なくとも下方の耐火物を不定形耐火物にすると共に、この下方の不定形耐火物に耐火粗大粒子を添加したことを特徴とする。 - 特許庁

The original plate for planographic printing is obtained by disposing a petaloid alumina layer formed by immersion in warm water without particularly carrying out firing as a hydrophilic layer on a substrate of paper, plastic, aluminum or the like having inferior heat resistance as a base substance or on a base using a glass, ceramic or metallic substrate and then disposing a negative or positive type photosensitive layer on the alumina layer by coating.例文帳に追加

第一の構成は、基体として紙、プラスチック、アルミニウムなどの耐熱性に劣る基板上、又は、ガラス基板、セラミック基板または金属製基板を用いた支持体上に、特に焼成することなく温水に浸漬することで作製した花弁状アルミナ層を親水性層とし、その上にネガ型又はポジ型の感光性層を塗設して成ることを特徴とする平版印刷版原版。 - 特許庁

The exposure method comprises exposing the periphery region of the substrate to a second exposure light, forming a first film liquid-repellent to the liquid at least on a part of the periphery region exposed by the second exposure light, forming the photosensitive film on the substrate after the formation of the first film, and carrying out the liquid immersion exposure treatment after the formation of the photosensitive film.例文帳に追加

露光方法は、基板の周縁領域を第２露光光で露光することと、第２露光光で露光された周縁領域の少なくとも一部に液体に対して撥液性の第１膜を形成することと、第１膜を形成した後に、基板上に感光膜を形成することと、感光膜を形成した後に、液浸露光処理を実行することと、を含む。 - 特許庁

A plurality of membrane separation vessels 12 each housing an immersion membrane module 13 and having a washing nozzle 18 which blows washing water on the filtration surface of the membrane module in the upper part of the vessel 12 are arranged in parallel behind a sedimentation tank 11 and each of the membrane separation vessels 12 and the sedimentation tank 11 are connected by a channel 23 with a water shutoff means 22.例文帳に追加

浸漬型膜モジュール１３を収納した膜分離槽１２の上方に膜モジュールのろ過面に向けて洗浄水を噴出する洗浄ノズル１８を配置した膜分離槽１２を、沈殿槽１１の後段に並列に複数配置するとともに、各膜分離槽１２と沈殿槽１１とを、止水手段２２を備えた経路２３を介してそれぞれ接続した。 - 特許庁