例文 (571件) |
process evaluationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 571件
To provide a defect inspection device having unprecedented high accuracy, in a defect inspection device of a manufacturing process of a semiconductor device; and to provide a defect inspection (or evaluation) method.例文帳に追加
半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査装置及び検査(或いは評価)方法を実現する。 - 特許庁
To provide an evaluation method of a laser spot weld zone, a method capable of securing a specific discrimination accuracy while simplifying a process required for the discrimination of acceptable/unacceptable welding quality.例文帳に追加
溶接品質の可否の判断に要する手順を簡単化しつつ、一定の判断精度を確保することができるレーザスポット溶接部の評価方法を提供する。 - 特許庁
A manager specifies a business service or a business flow in question based on the evaluation index, and request the retrieval of an alternative business service or business flow to business process management.例文帳に追加
経営者は評価指標に基づき、問題となるビジネスサービス又はビジネスフローを特定し、ビジネスプロセス管理に代替ビジネスサービス又はビジネスフローの検索を依頼する。 - 特許庁
To provide a plant state index management device, for appropriately and efficiently manage process data and improving efficiency of performance evaluation or soundness confirmation of a plant.例文帳に追加
プロセスデータを適正且つ効率よく管理でき、プラントの性能評価や健全性確認の効率向上に寄与するプラント状態指標管理装置を提供する。 - 特許庁
According to this evaluation, regions with the amount of the ions generating image persistence phenomena are found out and the image persistence generation is suppressed by process modification to regions without image persistence generation.例文帳に追加
これにより、焼き付き現象が発生するイオン量領域を見出し、発生なし領域へと工程変更することにより、焼き付き発生を抑制する。 - 特許庁
Evaluation information 107 can be used to evaluate how one or more processes including the particular fabrication process indicated by the performance parameter value 106 have been performed.例文帳に追加
評価情報107は、性能パラメータ値106が示した特定の製造プロセスを含む1つ以上のプロセスが実施された方法を評価するために使用することができる。 - 特許庁
To solve a problem wherein a film thickness control method when preparing an NBPF is different from an evaluation method after the NBPF is prepared, in a conventional NBPF manufacturing process.例文帳に追加
従来のNBPFの製造工程におけるNBPF作成時の膜厚制御法とNBPF作成後の評価法が異なるための問題点を解決する。 - 特許庁
Further, the CPU 28 moves the extraction area EX in response to a detected move, thus moves the evaluation area EA in relation with the process of moving the extraction area EX.例文帳に追加
CPU28はさらに、検出された動きに対応して抽出エリアEXを移動させ、抽出エリアEXの移動処理に関連して評価エリアEAを移動させる。 - 特許庁
On the basis of an adaptation degree computed in an adaptation degree computing part 105 according to the evaluation by the user or the model, an arithmetic computing process is carried out by a recombination operating part 108.例文帳に追加
ユーザまたはモデルによる評価より適合度計算部105で計算された適合度に基づき、組み替え操作部108が算術的な演算処理を行う。 - 特許庁
To provide an evaluation method by which the magnetic characteristics of a magnetoresistance effect film can be evaluated comparatively easily and accurately in the manufacturing process for a magnetoresistance effect read element.例文帳に追加
磁気抵抗効果読み取り素子の製造過程で比較的に簡単に高い精度で磁気抵抗効果膜の磁気特性を評価することができる評価方法を提供する。 - 特許庁
To reduce the number of times of audition and evaluation by a hearing-aid user while efficiently obtaining hearing-aid process parameters reflecting how the hearing-aid user hears.例文帳に追加
補聴器使用者が試聴および評価を実施する回数を減らしつつ、補聴器使用者の聞こえ方を反映させた補聴処理パラメータを効率よく求める。 - 特許庁
To evaluate maintainability and continuity regarding inner control periodically requested to a company, and reduce operation load and cost for test and evaluation process.例文帳に追加
会社が定期的に求められる内部統制について、維持・継続性を評価し、テスト・評価過程の作業負荷・コストの軽減を図る業務プロセス統制テスト計画作成システム。 - 特許庁
To provide a deterioration evaluator and a deterioration evaluation method for evaluating the deterioration process of an object, including unobservable or hard-to-observe heterogeneous factors.例文帳に追加
観測不可能または観測困難な異質性要因を含めて対象物の劣化過程を評価することができる劣化評価装置及び劣化評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device and a method for inspecting defects of a semiconductor capable of deciding an optimum process condition even if electrical evaluation is not performed.例文帳に追加
電気的評価を行わなくても、最適なプロセス条件を決定することができる半導体欠陥検査装置、および半導体欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide a relatively inexpensive quality evaluation system for a weld zone capable of preventing complexity of process control by indirectly evaluating the propriety of welding immediately after welding.例文帳に追加
溶接と同時にその成否を間接的に評価して工程管理の煩雑化を防止でき、しかも比較的安価な溶接部の品質評価システムを提供する。 - 特許庁
To evaluate with higher accuracy the influence on atoms forming a substrate due to irradiation of ion in regard to ion radiation effect evaluation method, process simulator, and device simulator.例文帳に追加
イオン照射効果評価方法、プロセスシミュレータ及びデバイスシミュレータに関し、イオン照射にともなって基板を構成する原子が受ける影響を精度良く評価する。 - 特許庁
(iii) Regarding the solvency evaluation based on the economic value-based calculation of insurance liabilities, many companies commented that consideration should be given to the practice of the existing process of preparing financial reports, etc. 例文帳に追加
(ⅲ)経済価値ベースの保険負債評価に基づくソルベンシー評価について、現在の決算作業等を念頭に置いた場合における作業上の課題認識については、 - 金融庁
The user refers to the recommendation data based on the movement purpose and the movement state in the process of route guidance to determine the evaluation value in each category.例文帳に追加
ユーザが経路案内の過程において、移動目的および移動状況に基づいて推奨データを参照することで、各ジャンルの評価値を求めることができる。 - 特許庁
A nondestructive process for an evaluation of the subsurface damage of the optical element comprises to measure a reflection light intensity by focusing a microscope onto a point of the optical element.例文帳に追加
光学素子の表面下の損傷を評価するための非破壊的なプロセスは、光学素子内の点に顕微鏡の焦点を合わせ、反射光の強度を測定する。 - 特許庁
This evaluation method of the endoplasmic reticulum amerioration stress action includes a process for measuring a generation level of the endoplasmic reticulum stress in an SHR/NDmc-cp rat.例文帳に追加
SHR/NDmc−cpラットにおける小胞体ストレスの生成レベルを測定する工程を含む、小胞体ストレス改善作用の評価方法が提供された。 - 特許庁
The method also includes developing design and/or guidelines for splitting a pattern to be processed using the multiple patterning lithographic process based on the evaluation.例文帳に追加
方法は、前記評価に基づいて多重パターニングリソグラフプロセスを用いて処理すべきパターンを分割するための設計及び/又は分割指針を導出することを含む。 - 特許庁
Evaluation liquid containing potassium ferrocyanide and potassium ferricyanide with at least an equal-scale of a molar capacity for the potassium ferrocyanide is supplied onto an electrode system before a reagent layer formation process.例文帳に追加
試薬層形成工程前の電極系上に、フェロシアン化カリウムとこれに対するモル容量が等倍以上のフェリシアン化カリウムとを含む評価液を供給する。 - 特許庁
To conduct patterning using reticles for satisfying forming accuracy of resist mask in the semiconductor device manufacturing process without dependence on the absolute accuracy evaluation of reticles.例文帳に追加
レチクルの絶対精度評価に依存することなく、半導体装置の製造工程におけるレジストマスクの形成精度を満足するレチクルを用いてパターニングを行う。 - 特許庁
Then, a process until shifting to the 'big winning game state' is evaluated so as to include controlling contents differentiating a prize-ball quantity according to the evaluation result.例文帳に追加
そして、「大当たり遊技状態」に移行するまでの過程を評価し、その評価結果に応じての賞球量を異ならしめるような制御内容を含むように構成する。 - 特許庁
*Concretely describe the R&D project (basic research, applied research, production of prototype, mass production technology, process of evaluation test, etc.)to be undertaken after the site has been established. 例文帳に追加
※拠点整備後に実施する研究開発内容(基礎研究、応用研究、試作品製造、量産化技術、評価試験等の工程)について具体的に記載すること。 - 経済産業省
To provide a method of evaluating a wiring which can estimate duration of the electro-migration of the wiring in the middle of the manufacturing process of a semiconductor device, and to provide a wiring evaluation device.例文帳に追加
半導体装置の製造工程の途中で配線のエレクトロマイグレーション寿命を推定することができる配線の評価方法および評価装置を提供する。 - 特許庁
The first evaluation method of emulsion stability includes a heating process for heat-treating the emulsion, a separation process for centrifugally separating the emulsion, after the heating process into water phase and oil phase and a concentration measuring process for measuring the concentration of protein contained in the oil phase and the emulsion stability of the emulsion is evaluated, on the basis of the concentration of protein.例文帳に追加
第一の乳化安定性の評価方法は、乳化物を加熱処理する加熱工程と、加熱工程後の乳化物を遠心して水相及び油相に分離する分離工程と、油相に含まれるタンパク質の濃度を測定する濃度測定工程とを備え、該タンパク質の濃度に基づいて乳化物の乳化安定性が評価される。 - 特許庁
This decision-making process support method presents evaluation criteria candidates based on past data registered in evaluation criteria database D11 and template information formed by classifying the evaluation criteria candidates according to the purpose and field, supports a decision maker to input it as decision-making information, displays the input result, and allows the decision maker to confirm it (S101).例文帳に追加
評価基準データベースD11に登録された過去のデータに基づく評価基準候補や、評価基準候補を目的と分野によって分類したテンプレート情報を提示して、意思決定者に対し、意思決定情報として入力させるための支援を行い、入力結果を表示して、意思決定者に確認させる(S101)。 - 特許庁
To provide an evaluation method for a silicon single-crystal wafer allowing the prediction of a breakdown voltage defect caused by the wafer quality after the completion of device manufacturing process by obtaining in advance in the stage of the wafer the evaluation result of a GOI characteristic which is close to the GOI characteristic obtained after the completion of the device manufacturing process (device product).例文帳に追加
本発明は、デバイス製造工程終了後(デバイス製品)のGOI特性の評価結果と近いGOI特性の評価結果を、ウェーハ段階で事前に得ることができ、デバイス製造工程終了後のウェーハ品質に起因する耐圧不良を予測することが可能となるシリコン単結晶ウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁
To evaluate the embedded depth of the gate electrode of a vertical MOSFET by fabricating the vertical MOSFET becoming an actual product and an evaluation element on the same semiconductor substrate by the same process and then measuring the electrical characteristics of the evaluation element.例文帳に追加
同一半導体基板上に、実際の製品となる縦型MOSFETと評価用の素子を同一プロセスで作製し、その評価用素子の電気的特性を測定することにより縦型MOSFETのゲート電極の埋め込み深さを評価すること。 - 特許庁
To quickly evaluate photocatalyst activity in a manufacturing process of a layered structure by using an evaluation method and an evaluation apparatus for the photocatalyst activity of the layered structure having a photocatalyst layer disposed on a surface and including a photocatalyst.例文帳に追加
光触媒を含む光触媒層を表面に有する層状構成物の光触媒活性の評価方法及び評価装置に関し、前記層状構成物の製造工程の中で、且つ短時間で前記光触媒活性を評価できるようにする。 - 特許庁
To improve efficiency of turbine life evaluation service, promote widening and individual appropriatness of the evaluation service, and uniformly organize and manage transition of dynamic data, wherein collected data and determination are used as data for the next data, by rationalizing deskwork of a process for leading to determination of a remaining life.例文帳に追加
タービン寿命評価サービスを効率化し、その評価サービスの広域化と個別的適正化とを促進し、余寿命判断を導くプロセスの事務を合理化し採取したデータと判断を更に次のデータとする動的データの推移を統一的に整理し管理する。 - 特許庁
On the other hand, the areas of process evaluation and device performance evaluation, where Republic of Korea submitted its proposals, are near “competing areas” would have impacts on the evaluations of performance and characteristics of each manufacturer’s products. Being greatly alarmed by this, MCC developed the “MEMS Standardization Roadmap” for promoting strategic standardization initiatives.例文帳に追加
一方、韓国が提案してきたプロセス評価やデバイス性能評価はメーカー各社の製品機能特性の評価にかかわる「競争領域」に近いため、危機感を強めたMMCは戦略的に標準化を進めるために「MEMS標準化ロードマップ」を策定した。 - 経済産業省
A similarity evaluation process 116 determines the similarity of the estimated fundamental frequencies and the target fundamental frequencies obtained from musical piece data, and a match judgement process 117 performs judgement of whether the performance is correctly performed or not on the basis of the similarity.例文帳に追加
類似度評価処理116は、この推定された基本周波数と楽曲データから得られた目標基本周波数との類似度を求め、一致判定処理117は、その類似度に基づいて演奏が正しく行われたか否かの判定を行う。 - 特許庁
In the product inspection process S300, the optical property of the light diffusion plate molded by the product molding process is measured using the inspection device, and the optical property of the light diffusion plate is evaluated on the basis of the measurement result and the evaluation criterion.例文帳に追加
製品検査工程S300では、製品成形工程により成形された光拡散板の光学特性を前記検査装置を用いて測定し、その測定結果および前記評価基準に基づいて、光拡散板の光学特性を評価する。 - 特許庁
The method includes steps for: determining a function for generating a simulated image, where the function accounts for process variations associated with the lithographic process; and optimizing a target gray level for each evaluation point in each OPC iteration based on this function.例文帳に追加
この方法は、シミュレート像を生成するための、リソグラフィプロセスに関連するプロセス変動を説明する関数を決定するステップと、この関数に基づいて各OPC反復において各評価点に関するターゲットグレーレベルを最適化するステップとを含む。 - 特許庁
A material quantity flow evaluation section 3 specifies a treating method corresponding to kind and quantity of the waste, concentration and level of harmful substances by using waste attribute data in a waste database 1 and waste treating process specification data in a waste treating process database 2, and evaluates a process in which the waste is treated and an amount by which the waste is treated.例文帳に追加
物量フロー評価部3は、廃棄物データベース1の廃棄物属性データ、廃棄物処理プロセスデータベース2の廃棄物処理プロセス仕様データを用いて、廃棄物の種類、量、有害物の濃度およびレベルに応じた処理方法を特定し、どのプロセスでどのくらいの量を処理するかを評価する。 - 特許庁
An evaluation method has a process obtaining correlation of parameter indicating irradiation damage and hardness of a material identical to a member receiving irradiation, a process measuring the hardness of the member after exposed to radiation, and a process obtaining a parameter value of the member from the hardness of the member after exposed to the radiation and the correlation.例文帳に追加
照射を受ける部材と同等の材料について、照射損傷を表すパラメータと硬さとの相関関係を求める工程と、部材の放射線照射後の硬さを測定する工程と、部材の放射線照射後の硬さと相関関係とから当該部材のパラメータの値を求める工程と、を有する。 - 特許庁
A method of manufacturing an optical flat plate member includes a product molding process S200 of molding a light diffusion plate and a product inspection process S300 of inspecting an optical property of the light diffusion plate molded by the product molding process using an inspection device including an inspection light source and an imaging device on the basis of an evaluation criterion obtained in advance.例文帳に追加
光拡散板を成形する製品成形工程S200と、製品成形工程により成形された光拡散板の光学特性を予め取得した評価基準に基づいて、検査用光源および撮像装置を備える検査装置を用いて検査する製品検査工程S300とを備えている。 - 特許庁
To solve the problem that it is difficult to efficiently process information including sensitivities or ideas of related individuals when extracting the sensitivities or ideas by use of questionnaires without consideration of details of an evaluation for an evaluation object, especially when both sides do not have concrete images.例文帳に追加
関連するアンケートを用いる手法では、関連する個人の感性や意見を抽出する技術や方法を用いても、評価対象への評価の内訳を考慮できず、特に双方が具体的なイメージを描ききれていない状況などで、有効な処理を行えない。 - 特許庁
The optical disk device has such a constitution that: an light spot is positioned on a predetermined interlayer interference evaluation area on the disk to detect the tracking error signal in this area; and the quality of the tracking error signal is evaluated by a process to perform a predetermined signal processing and calculate an interlayer interference evaluation value.例文帳に追加
ディスク上の所定の層間干渉評価領域に光スポットを位置づけ、当該領域においてトラッキング誤差信号を検出し、所定の信号処理を行って層間干渉評価値を演算する手順によってトラッキング誤差信号の品質を評価する構成とする。 - 特許庁
A system includes an evaluation component for facilitating an application of an evaluation metric to each node in the data structure, a selection component for selecting a node for a naming process, and a naming component for generating a name for the node for the user by receiving selected node information from the selection component.例文帳に追加
システムはデータ構造の各ノードに評価メトリックスを適用することを容易にする評価コンポーネント、命名プロセス用のノードを選択する選択コンポーネント、選択されたノード情報を選択コンポーネントから受信してユーザのためのノード用の名前を生成する命令コンポーネントを含む。 - 特許庁
To make good use of experiential knowledge which is not always correct by performing a pruning process through total evaluation of intermediate evaluation values based upon the experiential knowledge and priority based on genetic algorithm.例文帳に追加
経験的知識に基づいた探索によって組み合わせ最適化問題を解く場合において、その知識が、効率的な探索を行う上で十分ではなく、しかも常に適応可能とは限らない場合でも、ユーザと対話しつつ問題の緒条件に適応して、効率的に解を求めることを目的とする。 - 特許庁
To provide a computer-aided language listening and speaking teaching method wherein the language listening and speaking ability of a learner is improved through iterative listening, shadowing and evaluation by combining the listening and speaking teaching and the ability evaluation accompanied by a condition teaching process.例文帳に追加
リスニングおよびスピーキング教示と、状況教示過程を伴う能力評価とを組み合わせ、反復リスニング、シャドウイングおよび評価を通じて、学習者の言語リスニングおよびスピーキング能力を向上させることができるコンピュータ援用の言語リスニングおよびスピーキング教示方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor-device damage evaluation method capable of statistically evaluating the damage of a constitution layer caused by etching, by a nondestructive manner with a small number of man-hours during the manufacturing process of the semiconductor device, to provide a manufacturing method for the semiconductor device, and to provide a damage evaluation apparatus for the semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造過程において、エッチングによる構成層のダメージを、非破壊に、且つ、少ない工数を以って統計的に評価することができる半導体装置の損傷評価方法および製造方法と、半導体装置の損傷評価装置を提供する。 - 特許庁
A page state storage part 10h manages the page states of homepages in a file management table, a page state evaluation part 10i evaluates the managed page states, and a page state reflection part 10k performs a reflecting process for data for displaying the homepages according to the evaluation contents.例文帳に追加
ページ状態記録部10hは、ホームページのページ状態をファイル管理テーブル上で管理し、ページ状態評価部10iは管理されているページ状態を評価し、ページ状態反映部10kはその評価内容に従ってホームページを表示するためのデータに反映処理を施す。 - 特許庁
To provide a quality evaluation method for a degreasing/cleaning liquid for metal surface treatment where quality can be evaluated by a simple process, further, the reliability in the evaluation is sufficiently high, and a degreasing/cleaning liquid for metal surface treatment can be efficiently and correctly evaluated.例文帳に追加
簡便な工程で品質を評価することができ、しかもその評価の信頼性が十分に高く、金属表面処理用脱脂洗浄液を効率よく且つ正確に評価することが可能な金属表面処理用脱脂洗浄液の品質評価方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a system for calculating a workpiece transportation time evaluation value for calculating a workpiece transportation time evaluation value which can be used as an indicator for evaluating a workpiece transportation time as a contributing factor of the bottleneck that a device in a process is in a standby state in a production line composed of a plurality of processes.例文帳に追加
複数の工程で構成される生産ラインにおいて、工程の装置が待機状態となるボトルネックの要因としてのワーク搬送時間を評価するのに、指標として使用可能なワーク搬送時間評価値を演算するワーク搬送時間評価値演算システムを提供する。 - 特許庁
To provide a tolerance determination device, method, program and recording medium capable of increasing the efficiency of a trial-and-error process for determining tolerance by providing an evaluation value of a performance distribution that varies according to tolerance, and performing optimization to minimize the evaluation value using the tolerance as a variable.例文帳に追加
公差により変化する性能分布の評価値を設け、公差を変数として評価値を極小化する最適化を行うことにより、試行錯誤的な公差決定過程を効率化することが可能な公差決定装置、公差決定方法、プログラム、および記録媒体を提供する。 - 特許庁
To extract a component of spatial frequency which particularly needs evaluation in formation of a device or in analysis of a material or process of edge roughness on a micro line pattern, and express it by an index.例文帳に追加
微細ラインパターン上のエッジラフネスのうち、デバイスの作成上あるいは材料やプロセスの解析上特に評価が必要となる空間周波数の成分を抽出し、指標で表す。 - 特許庁
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