「projection portion」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

A fixed spacer 4 is sandwiched and mounted between the printed board 1 and a module 2 mounted over the printed board 1 to close the through hole B12 with a solder wicking preventive projection portion 6 provided to the fixed spacer 4, and then fixed with a heat sink 3 and a screw A9 to prevent the solder wicking, thereby reducing the tape sticking to or tool attaching/detaching operation to/from the through hole B12.例文帳に追加

プリント基板１とそのプリント基板１から浮かして搭載するモジュール２の間に、固定スペーサ４を挟んで搭載し、かつ前記固定スペーサ４に設けたはんだ上がり防止突起部６にて貫通穴Ｂ１２を塞ぎ、放熱板３とビスＡ９にて固定することで、はんだ上がりを防ぎ、貫通穴Ｂ１２へのテープ貼付け或は冶具着脱作業を削減することができる。 - 特許庁

The electrooptical device including a 1st substrate and a 2nd substrate arranged opposite each other and an electrooptical substance sandwiched between the 1st substrate and 2nd substrate is characterized in that at least one of the 1st substrate and 2nd substrate is made a glass substrate and a projection part is formed of a portion of the glass substrate as a spacer for adjusting the cell gap.例文帳に追加

対向配置される第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置において、第１の基板及び第２の基板の少なくとも一方をガラス基板とするとともに、セルギャップを調整するためのスペーサとして、ガラス基板の一部で突起部を形成してあることを特徴とする。 - 特許庁

A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

The curved heat exchanger 3 consisting of a heat transfer fin 7 and a plurality of heat transfer tubes 6 penetrating the heat transfer fin 7 has rise parts 7b increasing the heat exchanging ability on the surface of the heat transfer fin 7 and a projection part for preventing flow of air on a portion with a larger area in the region without projecting of the heat transfer tubes 6 in the air flow direction.例文帳に追加

伝熱フィン７とこの伝熱フィン７を貫通する複数の伝熱管６とから構成されている湾曲した熱交換器３において、伝熱フィン７の表面に熱交換性能を向上させる切り起こし７ｂと、空気の流れる方向から伝熱管６の投影がない領域の面積が大きくなる部分に、空気の流れを妨げる突出部を設ける。 - 特許庁

In the method of manufacturing a piezoelectric element 300, a first electrode 132, a piezoelectric substance layer 135, a second electrode 136, and an insulating layer 138 are formed in this order above a first substrate 110, and the insulating layer 138 is etched so that at least a portion of the second electrode 136 is exposed and the insulating layer 138 has a projection 138x projected above relative to the second electrode 136.例文帳に追加

圧電素子３００の製造方法は、第１基板１１０の上方に第１電極１３２、圧電体層１３５、第２電極１３６および絶縁層１３８をこの順で形成し、第２電極１３６の少なくとも一部が露出し、かつ、絶縁層１３８が第２電極１３６に対し上方に突出する突出部１３８ｘを有するように、絶縁層１３８をエッチングする。 - 特許庁

A plurality of probes 11 for inspecting conduction of a pad 93 formed on a circuit board 90 are formed in a square pole shape, this outline size Lp is set to be intermediate size between an outline size D of a bonding portion and an outline size L of the pad 93, and a projection 11b with four edges as vertices 11a is formed under the probe 11.例文帳に追加

回路基板９０上に形成されたパッド９３の導通を検査する複数個のプローブ１１を四角柱形状に形成し、この外形寸法Ｌ_P をボンディング部の外形寸法Ｄとパッド９３の外形寸法Ｌとの中間の大きさに設定すると共に、プローブ１１の下部に４個の隅角部を頂点１１ａとする突起部１１ｂを形成させる。 - 特許庁

The base plate and case are bonded together in a state wherein the first hole for attachment formed in the base plate and the second hole for attachment formed in the case are engaged with a positioning pin which is suitable for the cure base plate movably in a direction parallel to an upper surface of the cure base plate and includes a projection portion protruding from the upper surface of the cure base plate.例文帳に追加

該キュアベース板の上面に対して平行方向に移動可能なように該キュアベース板に取り付けられ、該キュアベース板の上面から突出した部分である突出部分を有する位置決めピンに、該ベース板に形成された第１の取り付け穴と該ケースに形成された第２の取り付け穴とが嵌合した状態で該接着を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The projection aligner for projecting an energy ray 3 to bake a pattern is equipped with a pin hole 5 provided at one portion on the surface of an exposure stage 4 where the energy ray 3 is projected, a phosphor for converting the energy ray 3' passing through the pin hole 5 to a fluorescent ray 8 of a long wavelength, and a detector 9 for measuring the converted fluorescent ray 8.例文帳に追加

エネルギー線３を投影してパターンを焼きつける為の投影露光装置に於て、エネルギー線３が投影される露光ステージ４の表面の一部に設けられたピンホール５と、該ピンホール５を通して通過したエネルギー線３’を長波長の蛍光光線８に変換する蛍光体６と、変換された蛍光光線８を測光する検知器９を具備する投影露光装置。 - 特許庁

A color filter having at least a transparent colored pattern layer 3 sectioned into pixels with a black matrix pattern layer 2 on a transparent substrate 1 and a transparent common electrode layer 5 on the transparent colored pattern layer 3 is provided with a photospacer part 4 for cell gap adjustment, formed having a large layer thickness in a projection shape, at a portion of the transparent colored pattern layer 3.例文帳に追加

透明基板１上に少なくともブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３と、該透明着色パターン層３上に透明な共通電極層５とを備えたカラーフィルタにおいて、前記透明着色パターン層３の一部に、その層厚を突起状に厚く形成したセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４が設けられている。 - 特許庁

In the uniform joint, let a predetermined distance separated along the horizontal direction between a groove bottom of an engagement groove and the setting up portion of an inclined plane having an inclination angle θ be L2, and a predetermined distance separated between the top of an annular projection and the end surface of the boot along the horizontal direction be L1.例文帳に追加

係合溝の溝底と傾斜角度θからなる傾斜面の立ち上がり部位との間で水平方向に沿って離間する所定距離をＬ２とし、環状凸部の頂部とブーツの端面との間で水平方向に沿って離間する所定距離をＬ１と、前記Ｌ２とＬ１との差をＬとした場合（Ｌ＝Ｌ２−Ｌ１）、前記Ｌ（ｍｍ）及びθ（度）は、下記（１）〜（５）の関係式を充足する許容範囲Ｍに設定されるとよい。 - 特許庁

The apparatus further includes a polarization filter in the radiation beam path between at least part of the projection system and the substrate, such that only radiation corresponding to either the partial portions or the rest of the discrete areas is incident on the target portion of the substrate, where the polarization filter is configured to selectively transmit parts of the radiation beam having a polarization of only one of the first and second polarizations.例文帳に追加

この装置は、投影系の少なくとも一部と基板との間の放射ビームの経路に、分離した領域の一部分または残り部分のいずれか一方に対応する放射のみが基板のターゲット部分に入射するように、第１および第２偏光状態のうち一方のみの偏光状態を有する放射ビームの部分を選択的に通過させる偏光フィルタをさらに備える。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam; a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an elongate target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されたパターニング・デバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の細長い目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device (formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam); a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターニング・デバイス（パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されている）を支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

This helmet comprising a cap body 19 prepared by fitting an impact-absorbing liner 3 having a ventilation hole 5 formed at a position corresponding to an opening 4 into a vacuum-molded synthetic resin shell 2 having the formed opening 4 is characterized by forming a circular projection portion 12 projected from the periphery 9 of the opening 4 of the shell 2 in the outer direction of the cap body 19.例文帳に追加

開口４が形成されると共に真空成形されている合成樹脂製のシェル２に、この開口４に対応する位置に通風孔５を形成した衝撃吸収ライナ３が嵌装されている帽体１９から成るヘルメットであって、前記通風孔５の上開口部８に沿った衝撃吸収ライナ３の表面に、シェル２の開口４の開口縁９より帽体１９外方に突出した環状凸条部１２が形成されている。 - 特許庁

To provide a structure of hoop-shaped contact plate for use in movable contact of a pushbutton switch for preventing downward burr at the position of cutting as well as projection of the residuary portion from the outer circumference of disclike contact plate when the disclike contact part is severed from bridging part, which leads to the decrease of powdery chips or the like and the prevention of defective electric contact.例文帳に追加

押釦スイッチの可動接点に使用されるフープ状の接点板の構造で、円盤状の接点部を繋ぎ桟部から切断する時に、繋ぎ桟部の切断部に下側に向かう切断面の返り部が発生することがなく、切断残り部が円盤状の接点部の外周から突出することを防止すると共に、削れ粉などの発生を抑え、接触不良の発生を防止することができる接点板の構造を提供する。 - 特許庁

A semiconductor device comprising a thin film substrate, a pad connecting an electronic component formed on the thin film substrate, a projection portion provided to the pad and formed to suppress flowing of solder, and the electronic component disposed while soldered to the pad has a cut provided at a position corresponding to the top of the electronic component connected to the pad and at a periphery of the pad.例文帳に追加

薄膜基板と、この薄膜基板に形成された電子部品を接続するパッドと、このパッドに設けられ半田の流れを抑制するように形成された凸部と、前記パッドに半田付けされて配置された前記電子部品とにより形成される半導体装置において、前記パッドに接続される前記電子部品の頂点に対応する位置に設けられると共に、前記パッドの周辺部に設けられる切りかけとを具備することを特徴とする。 - 特許庁