「projection formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To more reliably perform control of liquid (for example, formation or removal of a liquid film) in the space under a projection optical system.例文帳に追加

投影光学系の下方の空間における液体の制御（例えば、液膜の形成または液膜の除去）をより確実に行う。 - 特許庁

INSPECTION DEVICE AND INSPECTION METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, MASK FOR MEASURING IMAGE FORMATION CHARACTERISTICS WHICH IS USED FOR THAT, ALIGNER AND EXPOSURE METHOD THEREOF例文帳に追加

投影光学系の検査装置及び検査方法、それに用いられる結像特性計測用マスク、並びに、露光装置及び露光方法 - 特許庁

On the surface of the projection 3 a formation of irregularities 3a or treatment through coating with fluororesin are preferable to prevent the adhesion of boiled rice grains thereto.例文帳に追加

前記突起３の表面には、ごはんの付着を防止する凹凸3aを形成したり、フッソ樹脂コーティング加工をすることが好ましい。 - 特許庁

The cutting surface formation part 40 has a root part 50, a projection blade 52 projected from the root part 50, and an overhang part 54.例文帳に追加

切削面形成部４０は、付根部５０と、付根部５０から突出している突出刃５２と、張出部５４とを有している。 - 特許庁

Through subsequent high fusing point metal film formation and silicide formation steps, CoSi_2 formed on the polycrystalline silicon control gate 7 is made into a flat film without including any projection toward a gate oxide film 4.例文帳に追加

その後の高融点金属膜形成工程,シリサイド形成工程により、多結晶シリコン制御ゲート７上に形成されたＣｏＳｉ_２は、ゲート酸化膜４に向う突起を有さず平坦な膜となる。 - 特許庁

Similarly, the radial formation width t of the third and the forth engagement projection 22g and 22h is set smaller than the radial formation width w of the third and the forth engagement recess 23g and 23h.例文帳に追加

同様に第３及び第４係合凸部２２ｇ，２２ｈの半径方向の形成幅ｔを第３及び第４係合凹部２３ｇ，２３ｈの半径方向の形成幅ｗよりも小さくする。 - 特許庁

The semiconductor element 10 for formation of an electrode 11 and the fitting recess 12 thereon is positioned to be opposed to the wiring circuit board 13 for formation of the bump 14 and the fitting projection 15 ((b) in the drawing).例文帳に追加

表面に電極１１と嵌合用凹部１２を形成の半導体素子１０と、バンプ１４と嵌合用凸部１５を形成の配線基板１３を相対させて位置合せをする(図２(ｂ))。 - 特許庁

To excellently restrain influence exerted on image-formation performance such as deformation by the gravity of a lens component while securing large-size projection field in one direction in a cata-dioptric type projection optical system.例文帳に追加

反射屈折型の投影光学系において、一方向に沿って大きな寸法の投影視野を確保しつつ、レンズ成分の自重による変形などの結像性能への影響を良好に抑える。 - 特許庁

The streak 26 is formed on a back surface of the base material 12 simultaneously with formation of the base material 12 by a formed projection piece provided on a base forming mold.例文帳に追加

条痕２６は、基材成形型に設けた成形突片により、基材１２の成形と同時に該基材１２の裏面に形成される。 - 特許庁

The projection blade 52 is arranged so as to be positioned in a hole of the shaped raw material when the groove is formed on the cutting surface by the groove formation part 42.例文帳に追加

突出刃５２は、溝形成部４２によって切削面に溝を形成する際に素形材の孔の中に位置するよう設けられている。 - 特許庁

Thereafter the cutting blade 10 is moved along a direction 11b parallel to the projection formation surface A and vertical to the direction 11a to form a groove.例文帳に追加

その後、突起形成面Ａに平行かつ方向１１ａに垂直な方向１１ｂに沿って切削刃物１０を移動させ、溝を形成する。 - 特許庁

Penetration electrodes are set immediately below a plane of projection of the heater, whereby the heat radiation performance from the heater is made good and also high-density formation is enabled.例文帳に追加

貫通電極をヒーターの投影面直下に配置して、ヒーターからの放熱性を良好にすると共に、高密度化にも対応する。 - 特許庁

The radial formation width t of the first and the second engagement projection 21g and 21h is set smaller than the radial formation width w of the first and the second engagement recess 23c and 23d of the spacer 23.例文帳に追加

そして、前記第１及び第２係合凸部２１ｇ，２１ｈの半径方向の形成幅ｔを、スペーサ２３の第１及び第２係合凹部２３ｃ，２３ｄの半径方向の形成幅ｗよりも小さくする。 - 特許庁

To obtain an optical device in which an image is formed by focusing at a predetermined position and the focusing is performed while the center of an projection is fixed in the image formation of a center projection system.例文帳に追加

焦点合わせを行って定位置に物体の像を結ばせる光学装置であって、中心投影方式の像生成において投影の中心を固定したまま焦点合わせを行うことができる光学装置を得る。 - 特許庁

A process for manufacturing the force detection sensor includes: a recess formation process for forming the recess on the pressure reception surface 13a of a material 13 that becomes a diaphragm; and a projection completion process for completing the projection inside the formed recess.例文帳に追加

力検知センサの製造する工程では、ダイアフラムとなる素材１３の受圧面１３ａに凹部を形成する凹部形成工程と、形成された凹部の内部に凸部を完成させる凸部完成工程を備えている。 - 特許庁

Therefore, counter surface can be prevented from wearing caused by this projection by preventing or suppressing the formation of the above-mentioned projection in such a way that the boundary portion between the rolling/sliding surface 19 and the chamfering portion 21a is formed near 180 degrees in angle.例文帳に追加

転がり摺動面１９と面取り部２１ａとの境界部分の角度を１８０度に近くできて、上記突条の生成を防止若しくは抑制し、この突条により相手面が摩耗する事を防止できる。 - 特許庁

To provide a method for forming a spigot projection of a pipe wherein a spigot ring having one inside diameter is fitted certainly on a spigot even if the spigot diameter varies according to the dimensional tolerance when the ring is fitted on the spigot for formation of the spigot projection.例文帳に追加

挿口の外周に挿口リングをはめ合わせて挿口突部を形成する際に、寸法公差によって挿口の外径が変化しても、一種類の内径寸法の挿口リングを確実に挿口の外周にはめ合わせる。 - 特許庁

The exposure heat status of a reduction projection lens is measured, and the rate (irradiation rate) of an irradiation time occupying a unit time is controlled at the highest speed within a range where the image formation characteristics of the reduction projection lens do not exceed an allowable value.例文帳に追加

縮小投影レンズの露光熱状態を計量し、縮小投影レンズの結像特性が許容値を越えない範囲で、単位時間に占める照射時間の割合（照射率）を最速に制御する。 - 特許庁

This vibrating massager features the formation of vibrating projections or vibrating projection portions at one side of a vibrating member driven by a source of vibration and action of spring on the vibrating projections or the vibrating projection portions.例文帳に追加

振動源によって駆動される振動部材の一面側に振動突起又は振動突起部を形成し、振動突起又は振動突起部にばね力を作用させることを特徴とする振動マッサージ器を提供する。 - 特許庁

In the projection unit 11b, a first center line 1, which extends to a side of the bonding unit 11a, at the tip of the projection unit 11b is dislocated in formation from a second center line 2 of the bonding unit 11a.例文帳に追加

突き出し部１１ｂは、該突き出し部１１ｂの先端部におけるボンディング部１１ａ側に延びる第１の中心線１がボンディング部１１ａの第２の中心線２とずれるように形成されている。 - 特許庁

A projection part formation step for forming a projection part on a rear side face of the substrate, and an electron element forming step for forming the electron element on the surface of the substrate while the substrate is supported by the projection part are included in a process for forming the semiconductor device, in which the electron element is formed on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面上に電子素子が設けられた半導体装置を製造する工程中に、基板の裏面側に凸部を形成する凸部形成ステップと、凸部により基板を支持した状態で、基板の表面上に電子素子を形成する電子素子形成ステップとを設けた。 - 特許庁

Then, size at a side in contact with the resin projection 20 is larger than that at a side opposing the side in contact with the resin projection 20 in the sectional shape of the external connection section 42 in a direction orthogonally crossing the formation direction of the wiring 40 formed in the resin projection 20 from the electrode pad 14.例文帳に追加

そして、電極パッド１４から樹脂突起２０に形成される配線４０の形成方向と直交する方向の外部接続部４２の断面形状において、樹脂突起２０と接触された側の大きさが、それと対向する側の大きさよりも大きく形成されている。 - 特許庁

The extension part 7 does not make deformation downward at the time of engaging the projection 11 with the hole 6 owing to formation of a projection 12 abutting from below to the extension part 7, and the engagement of the projection with the hole 6 can be performed still more certainly.例文帳に追加

上端部９に、延長部７に対して下側から当接する突起部１２を形成したため、係合突起１１を係合孔６に係合する際に、延長部７が下方へ変形せず、係合突起１１の係合孔６に対する係合をより確実に行える。 - 特許庁

Therefore, at least a part of the formation of a projection is suppressed by absorbing a portion corresponding to the projection of the connecting electrode 15 closer to the outer circumference of a print film thickness by the recess 14 and damming of the adhesive 16 used for sticking the piezoelectric element 30 caused by the projection is prevented.例文帳に追加

従って、接続電極１５の印刷膜厚の外周寄りの盛り上がりに相当する部分が凹部１４に吸収されて盛り上がりの少なくとも一部の発生が抑制され、圧電素子３０の貼り合わせに用いる接着剤１６の前記盛り上がりによるせき止めが防止される。 - 特許庁

A light intensity distribution of a projection image of a mask pattern is simulated, the area of a projection image satisfying specified light intensity on a substrate is calculated according to the light intensity distribution obtained by the simulation, and pattern formation conditions are adjusted according to the area of the projection image.例文帳に追加

マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整するように構成する。 - 特許庁

To provide a light diffuser with high transmissivity which is used for a back projection type display, a backlit image formation medium, a liquid crystal display component, a device, etc.例文帳に追加

背面投射ディスプレイ、背面照明画像形成媒体、液晶ディスプレイ部品および装置等に用いられる、高い透過率の光拡散体を提供する。 - 特許庁

The film thickness measuring instrument uses a support roll 11 with grooves for supporting a film formation base sheet material 19 and provided with the grooves 21a, 21b, etc. in its periphery of a position corresponding to the light projection point while measuring.例文帳に追加

成膜ベースシート材１９を支持し、測定時に投光点に対応する位置に溝２１ａ，ｂ・・・が周設された溝付支持ロール１１を用いた。 - 特許庁

Then, a notch part 18 is formed to the base of the groove part of the terminal 17a of the boundary groove part 17 to avoid the formation of the projection (a) turned toward the panel.例文帳に追加

そして、境界溝部１７における端末１７ａの溝部底面に切欠部１８を形成することで、パネル側に向く突起ａの形成を回避する。 - 特許庁

Since the deformed projection 72 is made to retreat to the image formation surface side, the lens unit is miniaturized in the optical axis direction.例文帳に追加

これにより、変形した突起７２を結像面側に退避させることができるので、レンズユニットの光軸方向における小型化を図ることができる。 - 特許庁

To provide exposure apparatus that adjusts the image-forming status of light-passing projection optical systems (e.g., aberrations) with high accuracy, and realizing superior image formation characteristics.例文帳に追加

投影光学系を通過する光の結像状態（例えば、収差など）を高精度に調整して優れた結像特性を実現する露光装置を提供する。 - 特許庁

To prevent formation of a welding projection in a penetration welding, by a high density energy beam, of welded members comprising aluminum or aluminum alloy with each other.例文帳に追加

高密度エネルギービームによるアルミニウム又はアルミニウム合金から成る被溶接部材同士の貫通溶接において、裏波の突起の形成を防止する。 - 特許庁

The formation of the projection 13 is carried out simultaneously with the crimping of the terminal 11 by using a pressing die used in crimping the terminal 11 to the conductor 10.例文帳に追加

突起部13の形成は、導体部10に端子部11を圧着する際に用いるプレス加工用の金型を用いて、端子部11の圧着と同時に行う。 - 特許庁

To provide a projection device which unnecessitates the adjustment between reflective optical elements to each other after assembling the reflective optical elements which constitute an image formation optical system.例文帳に追加

結像光学系を構成する反射光学素子の組立て後に反射光学素子相互間の調整を不要とした投写装置を提供する。 - 特許庁

In the light-sensitive polyimide, a mask process due to a projection aligner can be made as in resist, and film thickness formation of 10 to 40 μm can also be made easily.例文帳に追加

この感光性ポリイミドは，レジストと同様露光装置によるマスクプロセスが可能であり，１０〜４０μｍの厚膜形成も容易に行うことができる。 - 特許庁

A door knob indicates information with the braille formed by stamping rivets 3 for projection formation on the knob at a portion touched by hand when a knob handle 1 is grasped.例文帳に追加

把手のハンドル１を握ったときに手に触れる部位に突起形成用の鋲３を打刻した点字４で情報を表示した扉の把手である。 - 特許庁

The detection gear 85 of the developing cartridge 32 is provided with an abutting projection 94 selectively on an upper side or a lower side in accordance with the largest number of sheets of image formation.例文帳に追加

現像カートリッジ３２の検出ギア８５に、当接突起９４を、最大画像形成枚数に対応させて上側または下側に選択的に設ける。 - 特許庁

To provide a projection optical system capable of securing a sufficient image side working distance while obtaining an image formation region with a sufficient size on an image surface.例文帳に追加

像面上で十分な大きさの結像領域が得られるとともに十分な像側作動距離を確保できるような投影光学系を提供する。 - 特許庁

The thickness of the projection part (40) is thinner than a distance (D) between a flow rate detection part formation surface (21b) of the sensor chip (20) and a rear surface (31b) of the fixing part (31).例文帳に追加

突起部（４０）の厚さは、センサチップ（２０）の流量検出部形成面（２１ｂ）と固定部（３１）の裏面（３１ｂ）との距離（Ｄ）よりも薄くなっている。 - 特許庁

In the case of using an off-axial reflection image formation system, a high elevation angle unattained in a refractive system can be designed, and oblique direction projection is made possible when the image formation system is turned around an incident light axis (panel center perpendicular).例文帳に追加

ＯｆｆーＡｘｉａｌ反射結像系を使用した場合、屈折系では不可能な高仰角が設計可能、入射光軸（パネル中心垂線）廻りに該結像系を回動すれば斜め方向投射可能となる。 - 特許庁

In the case where the projection 52 is detected, when an abnormality is detected on the interface part, it can be determined that the projection 52 is caused by an abnormality generated on the transparent substrate 54, and that the abnormality is generated before film formation.例文帳に追加

突起５２が検出された場合において、前記界面部に異常が検出されたときに突起５２の原因が透明な基板５４上に生じた異常にあると判定でき、その異常が成膜前に生じたと判断できる。 - 特許庁

The manufacturing method includes: a projection part formation stage of forming a projection part at least at a portion of a non-display area on at least one surface of the electrooptical panel; and an assembling stage of assembling the constituent article of the electrooptical devices in the electrooptical panel on the basis of the projection part of the electrooptical panel.例文帳に追加

電気光学パネルの少なくとも一方の面の非表示エリアにおいて、少なくともその一部に突起部を形成する突起部形成工程と、前記電気光学パネルの前記突起部を基準にして、前記電気光学パネルに電気光学装置の構成物品を組み付ける組み付け工程と、を含むものである。 - 特許庁

An exposure method for transferring an exposure light pattern to an object surface includes: a pattern formation step of forming a pattern; a projection step of projecting the pattern on the object surface using a projection optical system; and an adjustment step of dividing the pattern according to the shape of the projection region on which the pattern is projected on the object surface.例文帳に追加

露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、パターンを形成するパターン形成ステップと、投影光学系を用いてパターンを対象面に投影する投影ステップと、対象面のうちパターンが投影される投影領域の形状に応じて、パターンを分割する調整ステップとを含む。 - 特許庁

Then, a notch part 18 is formed to the bottom surface of the groove part of the terminal 17a in the boundary groove part 17 to avoid the formation of the projection (a) turned toward the panel.例文帳に追加

そして、境界溝部１７における端末１７ａの溝部底面に切欠部１８を形成することで、パネル側に向く突起ａの形成を回避する。 - 特許庁

In order to reduce vortex formation, at least one projection 30 is arranged on a rear edge 20 usually composed to be flat or oval of the hydrofoil 100.例文帳に追加

渦の形成を削減するために、水中翼１００の、通常、扁平又は扁円に構成されている後縁２０に少なくとも１つの、突起体３０を配置する。 - 特許庁

Further, the retaining hook 5 can be arranged by aligning a plurality of retaining projections in a formation direction of the duct by the retaining projection projected/formed from the duct side wall constituting the duct 3.例文帳に追加

また、保持フック５は、ダクト３を構成するダクト側壁から突出形成してなる保持突起部により、ダクト３の形成方向に複数並べて配設することもできる。 - 特許庁