「projection formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

On the other hand, when the images are determined to be favorable ones, the image formation section 20 forms a reconstruction image from the projection data by three-dimensional reconstruction and the formed reconstruction image is displayed on the display section 22.例文帳に追加

一方、良好な撮影であると判断された場合には、画像形成部２０は、３次元画像再構成により投影データから再構成画像を形成し、形成された再構成画像が表示部２２に表示される。 - 特許庁

To prevent formation of an angular projection in a welding part when a terminal fitting attached to a lid of a battery jar of a lead-acid battery and an electrode pole inserted into its hollow part are welded to each other by heating them with a burner.例文帳に追加

鉛蓄電池の電槽の蓋に取り付けられた端子金具とその中空部内に挿入された極柱とをバーナにより加熱して溶接する際に、溶接部に角張った突起が形成されるのを防ぐ。 - 特許庁

The manufacture is carried out by using pattern rollers for the respective surfaces and hardening postpatterned layers nearby the contact between both the rollers and thus the precision of the formation positions of the lenticular lens and projection streak parts is secured.例文帳に追加

製造は、各々の面について、型ローラを用いて逐次行ない、両型ローラの接点近傍で、後に付型された層を硬化させることにより、レンチキュラーレンズと凸条部との形成位置の精度を確保した。 - 特許庁

Then, by utilizing a detected result of the veltex, a formation condition of an image in the segmented area is detected by a technique of image processing, to find the optical characteristics of the projection optical system based on the detected result.例文帳に追加

次に、頂点の検出結果を利用し、前記区画領域における像の形成状態を、画像処理の手法により検出し、その検出結果に基づいて投影光学系の光学特性を求める。 - 特許庁

The projection part 22's reaching the formation position of a housing part 77 for the sensor element 6 to be housed in the housing part 77 brings the contact part 219 and the electrode part 75 into contact with each other to achieve an electrical connection.例文帳に追加

そして突出部２２がセンサ素子６の収容部７７の形成位置に達して収容部７７内に収容されることで、接触部２１９と電極部７５とが接触して電気的な接続がなされる。 - 特許庁

In formation, the tip of the first reverse diaphragm piece R and the tip of the first diaphragm piece S are overlapped to each other in the axial projection, while other diaphragm pieces and other reverse diaphragm pieces are prevented from overlapping mutually.例文帳に追加

そして、第１逆絞り片Ｒの先端と第１絞り片Ｓの先端部とが軸方向の投影において重なるように形成し且つ、他の絞り片および逆絞り片は互いに重ならないようにする。 - 特許庁

The positions relative to the developed images of both marks Mip and Mop are detected by a wafer alignment microscope and the image formation characteristics including various aberrations of the projection optical system are measured on the basis of the result of the detection.例文帳に追加

そして、現像された両マークＭｉｐ，Ｍｏｐの像の相対位置をウエハアライメント顕微鏡で検出し、その検出結果に基づいて投影光学系の諸収差を含む結像特性を計測する。 - 特許庁

The focusing means sets the segments of the image planes of the projection optical modules adjacent to each other, which segments contribute to the formation of partly superposedly exposed regions of their image planes with each other at nearly the same positions in the focusing direction.例文帳に追加

合焦調整手段は、互いに隣合った投影光学モジュールの像面における一部重複露光領域の形成に寄与する部分同士を、合焦方向においてほぼ同じ位置に設定する。 - 特許庁

To provide a projection optical system of charged particle beam capable of obtaining good image formation performance, by optimizing a deflection orbit even in the case that an image rotation angle is other than a non-rotated inverted image in a deflection optical system.例文帳に追加

偏向光学系において、像の回転角が無回転倒立像以外の場合でも偏向軌道を最適化し、良好な結像性能を得ることの可能な荷電粒子線投影光学系を提供する。 - 特許庁

To provide a cap having a novel structure which prevents formation of a dent, a projection or the like in a sealand made of a thermoplastic elastomer in a place where the body is exposed on a surface, and a medical container using the same.例文帳に追加

熱可塑性エラストマーからなる封止体が表面に露出する箇所において、当該封止体に窪みや突起等を生じることのない新規な構造のキャップと、それを用いた医療用容器とを提供する。 - 特許庁

To provide a projection display device which allows high light use efficiency to be obtained by accurately positioning an illuminating light area to an image formation area of an image display element and facilitates work for adjustment.例文帳に追加

照明光領域を画像表示素子の画像形成領域に正確に位置させることにより高い光利用効率が得られ、かつ調整のための作業が容易な投写型表示装置を提供する。 - 特許庁

This rear projection optical system projecting a picture on a panel display surface (I1) onto a screen surface (I2) is equipped with a positive- power image formation optical system (PT) including plural lenses and a negative-power curved surface mirror (M2) as a member having optical power.例文帳に追加

パネル表示面(I1)の画像をスクリーン面(I2)上に投影するリアプロジェクション光学系であって、光学的なパワーを有する部材として、複数のレンズを含む正パワーの結像光学系(PT)と、負パワーの曲面ミラー(M2)とを備える。 - 特許庁

Since the base 11 has such recess or projection on its sides, mere printing a conductor paste on projected side surfaces 13b of the base 11 enables formation of a radiation conductor having a predetermined shape at a predetermined location.例文帳に追加

基体１１の側面がこのような凹凸形状を有することから、基体１１の側面に形成された凸面１３ｂに導体ペーストを印刷するだけで所定の位置に所定の形状の放射導体を形成することができる。 - 特許庁

A plurality of parallel luminous flux projection means from the oblique direction are added thereto, and an image formation position of luminous flux from them when the thick lens is put is compared with that when the thick lens is not put to calculate a real focal length in order to constitute this lens meter.例文帳に追加

これに複数の斜め方向からの平行光束投光手段を付加し、そこからの光束の結像位置が、厚みあるレンズを置いた時と、置かない時とを比較することにより、真の焦点距離を計算するレンズメータ。 - 特許庁

This scanning projection aligner is provided with a function for correcting the zero point position of a focus detection system and the running direction of a wafer stage for setting the running surface of the wafer stage at the time of scanning and the image formation surface of a reticle image to parallel positions.例文帳に追加

スキャン時のウエハーステージの走り面とレチクル像の結像面を平行な位置に設定できるフォーカス検出系の原点位置とウエハーステージの走り方向を補正する機能を設けたことを特徴とする走査型露光装置。 - 特許庁

The method includes a lens formation step in which a high refractive index is imparted only to an In ion implantation region by implanting In ions from the surface side of a first planarization layer 11, and a projection-shaped in-layer lens 12 is formed only on the underside.例文帳に追加

第１平坦化層１１の表面側からＩｎイオンを注入することにより、Ｉｎイオンの注入領域のみを高屈折率化して、下にのみ凸形状の層内レンズ１２を形成するレンズ形成工程を有している。 - 特許庁

This reduces the effect of defocusing of line widths or the like in the line pattern to be imaged on the wafer and also decreases the effect of reticle formation errors or the like, and enables a high-precision measurement of projection optical system imaging characteristics.例文帳に追加

このようにすれば、ウエハ上に形成されるラインパターンの像の線幅等のサイズへのデフォーカス量、レチクル製造誤差等の影響を少なくすることができ、高精度に投影光学系の結像特性を計測することができる。 - 特許庁

To obtain a liquid-crystal device which can has the formation area of a seal material set within a specific range by making use of a wire passing through the lower-layer side area of the seal material and the projection type display device using it.例文帳に追加

シール材の下層側領域を通る配線を利用して、シール材の形成領域を所定の範囲内に設定することのできる液晶装置、およびそれを用いた投射型表示装置を提供することにある。 - 特許庁

When the projection 52 is detected in the first process, an interface part between the transparent substrate 54 and the opaque film 56 is observed from the opposite surface side opposite to the film-formation surface by the second camera 16.例文帳に追加

第１工程で突起５２が検出された場合に、その突起５２の位置において、第２カメラ１６により、成膜表面とは反対の反対面側から透明な基板５４と不透明な膜５６との界面部を観察する。 - 特許庁

Further, an angle of emergence from the multibeam formation part changing following the beam alignment can be detected without being shielded in the downstream projection optical system, by adjusting the aligner such that a scanned image substantially comes to the center of a field.例文帳に追加

また、ビームアライメントに伴い変化するマルチビーム形成部からの射出角度は、走査像が視野略中心にくるようにアライナを調整することで、下流の投影光学系内で遮蔽されることなく検出できる。 - 特許庁

To provide a projection optical system which can obtain pattern images of a desired line width over an effective image formation area without being substantially affected by scattered lights caused by the surface roughness, etc. of a refraction face or reflection face, for example.例文帳に追加

たとえば屈折面や反射面の表面粗さなどに起因する散乱光の影響を実質的に受けることなく、有効結像領域の全体に亘って所望線幅のパターン像を得ることのできる投影光学系。 - 特許庁

By so doing, a water drop contacted on a conductor in rain is immediately repelled, and dispersed or slipped without staying on the smooth surface of the conductor so as to protect formation of a water drop projection on the surface of the conductor.例文帳に追加

これにより、降雨時、導体に接触した水滴をはじき、滑らかな導体の表面にとどまらせることなく接触後ただちに散乱または滑落させ、導体の表面に水滴突起物が形成されるのを常に防止する。 - 特許庁

In the heat sink 109, the combination structure of a recess 109a composed of a tabular member and formed by indenting a part of the tabular member more than other regions and a projection 109b formed to one surface by the deformation of the tabular member together with the formation of the recess 109a and formed by the projection more than other regions of one surface is formed.例文帳に追加

放熱板１０９は、板状部材により構成され、板状部材の一部を他の領域よりも窪ませて形成した凹部１０９ａと、凹部１０９ａの形成とともに板状部材が変形することにより一面に形成され、当該一面の他の領域よりも突出して形成された凸部１０９ｂとの組合せ構造が形成されている。 - 特許庁

In the image forming apparatus carrying out image formation by consecutively reading a plurality of paper sheets of originals, a detecting means detecting whether or not it is an original with a projection or an original without the projection and a setting input means to set the image inputting condition for each group of originals between the separating paper are provided.例文帳に追加

複数枚の原稿を連続的に読み取って画像形成を行う画像形成装置において、突起部のある原稿か突起部の無い原稿かを検知する検知手段と、しきり紙間の原稿毎に画像入出力条件を設定することができる設定入力手段とを備えたことを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

In this manufacturing method of this inspection probe substrate for forming projections and a wiring pattern connected to the projections on a substrate equipped with a copper foil, formation of the projection is performed by bonding an Au ball and then moving a capillary on which an Au wire is clamped, and thereafter, first plating and second plating are applied onto the projection.例文帳に追加

銅箔を備えた基板に突起と該突起に接続する配線パターンとを形成する検査用プローブ基板の製造方法において、前記突起の形成は、Ａｕボールをボンディングした後にＡｕワイヤをクランプしたキャピラリを移動することにより行ない、その後前記突起の上に第１のめっき及び第２のめっきを施したことにある。 - 特許庁

A first engagement projection 14 of the adhesion member 4 is engaged with the visor body 2, and a second engagement projection 15 of the adhesion member 4 is engaged with inside at the edge of the ornament mall 3 covered with a mall end covering part 8 at a formation portion of a notch 9, so as to adhere the edge of the ornament mall 3 to the visor body 2.例文帳に追加

そして、固着部材４の第一係合突起１４をバイザー本体２に係合させるとととに、固着部材４の第二係合突起１５を、切り欠き９の形成部位において、モール端被覆部８によって被覆された装飾モール３の端縁の内側に係合させることによって、装飾モール３の端縁がバイザー本体２に固着されている。 - 特許庁

To provide an impeller of high reliability with any unwelded portion eliminated capable of effectively relieving a stress concentration simply at a low cost, compared with a conventional method including a projection on a rounded part, fillet welding and formation of rounded part by finishing with a grinder.例文帳に追加

応力集中を緩和する有効な手段であり、R部の突起、すみ肉溶接とグラインダ仕上げによるR部形成と比較して簡易に低コストで応力集中を緩和でき、未溶着部を無くし、高信頼性の羽根車を提供する。 - 特許庁

The projection-like parts 20 collide with the sliding surfaces 33a-33c of the guide plate 12 during non-formation of a hydrostatic fluid thin film between the sliding surfaces 14a-14c, 33a-33c, thereby securing a clearance gap between the sliding surfaces 14a-14c and 33a-33c.例文帳に追加

突状部２０は、摺動面１４ａ〜１４ｃ，３３ａ〜３３ｃ間において静圧液体薄膜の非形成時に、ガイドプレート１２側の摺動面３３ａ〜３３ｃに突き当たることで、摺動面１４ａ〜１４ｃ，３３ａ〜３３ｃ間に間隙を確保する。 - 特許庁

To provide a photomask for alignment control projection formation for forming a branch rib 84 which has a uniform width to its overall length even when the branch rib 84 is extended from on a colored pixel to on a colored pixel above a black matrix.例文帳に追加

着色画素上からブラックマトリックス上方の着色画素上にまで延長された枝リブ８４であっても、枝リブの全長にわたり、均一な幅を有する枝リブを形成する配向制御突起形成用のフォトマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which can shorten a dimension L_21 of chamfering portion 21a while preventing or suppressing a formation of projection made from nitride in a boundary portion between a rolling/sliding surface 19 and the chamfering portion 21a following soft nitriding treatment.例文帳に追加

軟窒化処理に伴って、転がり摺動面１９と面取り部２１ａとの境界部分に窒化物製の突条が生成されるのを防止若しくは抑制しつつ、この面取り部２１ａの寸法Ｌ_21を短くできる製造方法を実現する。 - 特許庁

The shield gas atmosphere G1 shields the circumference of the uranami B and pushes up the keyhole against the pressure of the shield gas S in the laser beam irradiation side, so that the droop of the molten metal (bead) is prevented and the formation of projection caused by the droop is prevented.例文帳に追加

シールドガス雰囲気Ｇ１は、裏波Ｂを含む周辺をシールドし、キーホールをレーザ照射側のシールドガスＳの圧力に抗して押し上げるので、溶融金属（ビード）の垂れ下がりが防止され、垂れ下がりに起因した突起の形成が防止される。 - 特許庁

To provide an image formation optical system which has the number of apertures with a sufficient size, also satisfactorily undergoes aberration correction, secures a conjugate relation between an incident pupil of an illumination system and an incident pupil of a projection optical system and has an easy configuration, and to provide an exposure device.例文帳に追加

十分な大きさの開口数を有すると共に良好に収差補正され，照明系の射出瞳と投影光学系の入射瞳との共役関係を確保し，構成が容易な結像光学系および露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a formation method of a silicon oxide film in which, upon forming a round shape at a corner of silicon at an upper end of a projection of a pattern, the silicon oxide film can be formed at a uniform film thickness without causing a film thickness difference by a nondense and dense state of the pattern.例文帳に追加

パターンの凸部上端のシリコンのコーナーに丸み形状を形成した上で、パターンの疎密による膜厚差を生じさせずに均一な膜厚でシリコン酸化膜を形成することが可能なシリコン酸化膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

The electroplating is performed by repeating an energizing cycle comprising a projection nuclei formation treatment of increasing plating current, a normal plating treatment of holding the increased plating current, and a posttreatment of lowering the held plating current for a plurality of times.例文帳に追加

この電気めっきは、めっき電流を上昇させる突起核の生成処理と、上昇させためっき電流を保持する本めっき処理と、保持しためっき電流を低下させる後処理とを有する通電サイクルを複数回繰り返して行なう。 - 特許庁

Then optical characteristics of the projection optical system are found on the basis of the detection result of a formation state of an image of the pattern formed in the respective regions on the wafer through exposure under the finely adjusted exposure conditions (steps 436, 438).例文帳に追加

そして、その微調整された露光条件の下での露光によってウエハ上の各領域に形成された前記パターンの像の形成状態の検出結果に基づいて、投影光学系の光学特性が求められる（ステップ４３６、４３８）。 - 特許庁

Also, since erosive bodies 2 are very small when compared with projection and recession by conventional photolithograph formation and the like and they are scattered on the dummy substrate 1, a flat main substrate 5 can be prepared in a short time, even it is an AlN slow in the growth in the lateral direction.例文帳に追加

また、浸食体２は、従来のフォトリソ形成などによる凹凸に比べて極微小で、ダミー基板１上に分散するので、横方向の成長の遅いＡｌＮであっても、平坦なメイン基板５を短時間で作成することができる。 - 特許庁

To provide an electro-optic device, a projection type display device, and an electronic appliance, in which the deterioration in amount of emission light of display light and disorder of potential distribution in the vicinity of an end part of a pixel electrode are difficult to occur even when a formation region of a storage capacitor is expanded.例文帳に追加

蓄積容量の形成領域を広げても、表示光の出射光量の低下や画素電極の端部付近での電位分布の乱れが発生しにくい電気光学装置、投射型表示装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.例文帳に追加

そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して傾斜した方向から基板Ｗ上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板Ｗ上に、投影光学系ＰＬを介してパターンが転写される。 - 特許庁

Formation of seventeen pieces of projection parts 14b are carried out at the portions in the vicinity of the outer periphery of a reflection surface 14a of a reflector 14 at equal intervals mutually in the circumference direction regarding the optical axis Ax, the light-emitting diodes 12 are respectively arranged at the rear in the vicinity of these.例文帳に追加

リフレクタ１４の反射面１４ａにおける外周縁近傍部位に、１７個の突出部１４ｂを、光軸Ａｘに関して周方向に互いに等間隔をおいて形成し、その後方近傍に発光ダイオード１２をそれぞれ配置する。 - 特許庁

When a coincidence with a character forming pixel position and a white defective pixel position is not solved, even if pixel positions shifts by 10 pixels to the right and the left, respectively, a character formation pixel position on the liquid crystal panel 122, that minimizes the number of matching pixels, is decided as a pixel position at character projection.例文帳に追加

左右それぞれに１０画素分シフト処理してもキャラクタ形成画素位置と白欠陥画素位置との合致が解消しない場合は、合致する画素数を最小とする液晶パネル１２２上のキャラクタ形成画素位置をキャラクタ投影時の画素位置とする。 - 特許庁

The projection electrode formation face of the semiconductor device 1 sandwiches the under-fill resin 4 to be opposed to the wiring board 3, and the radiating plate 5 is arranged on the wiring board 3 so that the radiating plate 5 sandwiches the under-fill resin 4 to be opposed to the wiring board 3.例文帳に追加

半導体素子１の突起電極形成面がアンダーフィル樹脂４を挟んで配線基板３に対向すると共に放熱板５がアンダーフィル樹脂４を挟んで配線基板３に対向するように、放熱板５を配線基板３上に配置する。 - 特許庁

A brightness and darkness boundary formation board 41 of plate shape extending from near the rear focus F2 toward the rear slanted downward is arranged between a projection lens 18 and a light source 12a arranged at the rear side of the rear focus F2.例文帳に追加

投影レンズ１８とこの投影レンズ１８の後方側焦点Ｆ２よりも後方に配置された光源１２ａとの間には、後方側焦点Ｆ２の近傍から後方へ向けて斜め下方へ延びる板状の明暗境界形成板４１を配置する。 - 特許庁

A display panel forms projection patterns having the equivalent layer structure to the inside of a display region on a region opposed to the outer edge of an opposite substrate sealing the formation face of a pixel circuit out of the display panels having a panel structure compatible with an active matrix drive system.例文帳に追加

アクティブマトリクス駆動方式に対応したパネル構造を有する表示パネルのうち、画素回路の形成面を封止する対向基板の外縁と対向する領域部分に、表示領域内と同等の層構造を有する突起パターンを形成する。 - 特許庁

In an electron beam delineating system 1 at a low acceleration voltage, illumination conditions of electron beams EB on a second formation aperture 89 are adjusted so that diameters of crossovers 9a, 9b of the electron beams EB in a reduction projection optical system 120 is made larger than an aperture size.例文帳に追加

低加速電圧の電子ビーム描画システム１において、縮小投影光学系１２０内での電子ビームＥＢのクロスオーバ９ａ，９ｂの径がアパーチャサイズよりも大きくなるように、第２成形アパーチャ８９への電子ビームＥＢの照明条件を調整する。 - 特許庁

To provide a spin coat apparatus capable of reducing nonuniformity of a film thickness generated when a viscosity of a used solution is low and increasing the film thickness without nonuniformity of the film thickness even in a solution of a low concentration in a spin coat film formation on a substrate having a recession/projection, and a spin coat method.例文帳に追加

凹凸を有する基板上へのスピンコート成膜において、使用溶液の粘度が低い場合に生じる膜厚ムラを低減し、また低濃度の溶液でも膜厚ムラの無く膜厚を増加できるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。 - 特許庁