意味 | 例文 (999件) |
radiation irradiationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1142件
The active light sensitive or the radiation sensitive resin composition contains (A) a resin that has a repeating unit including structure represented by general formula (1) and a repeating unit including structure represented by general formula (I) and increases solubility in an alkali developing solution by the action of an acid, and (B) a compound that produces an acid by active light or radiation irradiation.例文帳に追加
(A)下記一般式(1)で表される構造を含む繰り返し単位及び下記一般式(I)で表される構造を含む繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
The film for producing semiconductor devices is used in producing the semiconductor devices and comprises a base layer, a first adhesive layer provided on the base layer, a radiation-curing type second adhesive layer provided on the first adhesive layer and cured by radiation irradiation in advance and an adhesive layer provided on the second adhesive layer.例文帳に追加
半導体装置の製造の際に用いる半導体装置製造用フィルムであって、基材層と、基材層上に設けられた第一粘着剤層と、第一粘着剤層上に設けられており、かつ、放射線の照射により予め硬化された放射線硬化型の第二粘着剤層と、第二粘着剤層上に設けられた接着剤層とを有する半導体装置製造用フィルム。 - 特許庁
The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition comprises: a low molecular weight compound (1) having a molecular weight of 500 to 5,000 containing an acid-decomposable group (G) that is decomposed by an action of an acid to accelerate the dissolution in an alkali developing solution; and a compound (2) capable of generating an acid of 305 Å^3 or more in volume upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加
酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を促進させる酸分解性基(G)を有する分子量500〜5000の低分子化合物(1)および、活性光線又は放射線の照射により体積305Å^3以上の酸を発生する化合物(2)を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性組成物。 - 特許庁
This radiation sensitive positive composition contains a polymer having structural units each represented by formula I and an acid generator to be induced to produce an acid by irradiation with radiation, and in formula I, A is an organic group to be decomposed by action of the acid and to produce an alkali soluble group and has at least ≥1 silyl group, and X is a halogen atom or a cyano group.例文帳に追加
下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有し、該重合体中のAが酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生成する有機基でかつシリル基を1つ以上含むことを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法。 - 特許庁
The fluororesin molded product partially modified by radiation comprises a fluororesin molded product obtained by molding a fluororesin into a specified shape, where a part of the fluororesin molded product is modified by irradiation with ionizing radiation at a temperature not lower than the melting point of the fluororesin in an atmosphere of an oxygen concentration of 100 Torr or less.例文帳に追加
ふっ素樹脂を所定形状に成形して成るふっ素樹脂成形体において、該ふっ素樹脂成形体の一部分はふっ素樹脂の融点以上の温度下で、且つ酸素濃度100torr以下の雰囲気下において電離性放射線の照射により改質されていることを特徴とする放射線により一部を改質したふっ素樹脂成形体にある。 - 特許庁
An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin that has a repeating unit having a specific lactone structure and a repeating unit having a specific monoalicyclic structure and whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid and (B) a compound having a specific structure which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加
(A)特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定の単環脂環構造を有する繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造を有する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
To provide a hollow thread type blood treatment device which accommodates a bunch of hollow treads made of the hollow threads comprising polysulfone series resin which includes hydrophilic resin to perform radiation sterilization, wherein an eluting material from the hollow threads by damage of the radiation is less, and an aseptic packaging method with which the hollow threads in the above blood treatment device is less damaged by the irradiation.例文帳に追加
内部に親水性樹脂を含むポリスルホン系樹脂からなる中空糸から形成された中空糸束を収容し放射線滅菌が施される中空糸型血液処理器において、放射線のダメージによる中空糸からの溶出物の少ない血液処理器を提供し、該血液処理器の中空糸が放射線照射によるダメージを受けにくい滅菌包装方法を提供する。 - 特許庁
The resist pattern forming method comprises the steps of forming a resist film on a substrate, exposing the resist film so as to form a pattern, developing the resist film, applying radiation to the whole surface or part of the surface of the resist pattern after developed, and baking the resist pattern after the radiation irradiation to vary a size of the pattern.例文帳に追加
本発明は、基板上にレジスト膜を形成する工程と、パターンを形成するように該レジスト膜を露光する工程と、レジスト膜を現像する工程と、該現像後のレジストパターンの全面または一部面に放射線を照射する工程と、該放射線照射後のレジストパターンにベークを施して該パターンの寸法を変化させる工程とを包含する、レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To permit correction so as to quickly and accurately remove an offset component of an image signal in a method and device for detecting radiographic information which record image information for every picture element in response to the irradiation with radiation carrying the image information and detect the radiographic information from a radiation solid detector which outputs an image signal showing the recorded image information.例文帳に追加
画像情報を担持する放射線の照射を受けて前記画像情報を画素毎に記録し、記録した前記画像情報を表す画像信号を出力する放射線固体検出器から放射線画像情報を検出する放射線画像情報検出方法および装置において、高速かつ正確に画像信号中のオフセット成分を除去するように補正できるようにする。 - 特許庁
The resist pattern forming method includes: at least a resist film forming step of forming a resist film by applying and heating the resist composition on a surface to be processed; an irradiation step of selectively irradiating the resist film with ionizing radiation; a heating step of hating the resist film irradiated with the ionizing radiation; and a development step of developing the resist film.例文帳に追加
本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工面上に、本発明の前記レジスト組成物を塗布し加熱してレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、該レジスト膜に対して、電離放射線を選択的に照射する電離放射線照射工程と、電離放射線が照射された該レジスト膜を加熱する加熱工程と、現像する現像工程とを少なくとも含む。 - 特許庁
The radiation sensitive resin composition contains (A) polysiloxane obtained by poly-condensing (a-1) 50-99 wt.% of an alkoxy silane compound having an aryl group, (a-2) 1-45 wt.% of a silane compound having an alkyl group, and (a-3) 0-5 wt.% of the other alkoxy silane compound, and (B) a compound generating acid by receiving irradiation of radiation.例文帳に追加
上記感放射線性樹脂組成物は、(A)(a−1)アリール基を有するアルコキシシラン化合物50〜99重量%、(a−2)アルキル基を有するシラン化合物1〜45重量および(a−3)その他のアルコキシシラン化合物0〜5重量%を重縮合してなるポリシロキサンならびに(B)放射線の照射を受けて酸を発生する化合物を含有する。 - 特許庁
A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.例文帳に追加
(ア)活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物(A)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁
Then a light radiation force of continuous wave laser beam LB2 is applied to the adherents H separated from the surface of the object W by irradiation of the pulse laser beam LB1 for guiding the adherents H to a position where the flow of ambient gas effectively acts.例文帳に追加
そして、パルスレーザ光LB1の照射により被処理体Wの表面から離脱した付着物Hに対し、連続波レーザ光LB2による光放射圧を与えて、雰囲気ガスの流れが有効に作用する位置まで付着物Hを誘導する。 - 特許庁
The negative resist composition contains a compound (A) which produces an acid by the irradiation of active light rays or radiation, a cross-linking agent (B) which cross-links by the use of acid and an alkali-soluble resin (C) having at least two kinds of specified repeated units as constitutional components.例文帳に追加
(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(B)酸により架橋する架橋剤、及び(C)少なくとも2種の特定の繰り返し単位を構成成分として有するアルカリ可溶性樹脂を含有するネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
The photosensitive conductive paste contains, as essential components, a binder 1 which is insolubilized in a developer upon irradiation with ultraviolet radiation, a binder 2 whose thermal decomposition temperature is higher than that of the binder 1 by ≥50°C, and metal particles whose fusion start temperature by thermomechanical analysis is ≤300°C.例文帳に追加
紫外線の照射により現像液に対して不溶化するバインダー1と、バインダー1の熱分解温度よりも50℃以上熱分解温度が高いバインダー2と、熱機械分析の融着開始温度が300℃以下の金属粒子とを必須成分とする。 - 特許庁
The positive resist composition contains: a resin which has a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and which increases the solubility rate in an alkali developer solution by the effect of an acid; and a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加
イソソルバイド(メタ)アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
As an interface part 4A for transmitting a signal for exposure to irradiation for a radiation irradiating part 3 from a photographing part 4 is arranged below the photographing part 4, a controlling apparatus 2 provided in an operating room OR can be simplified and for example, it can be constituted by using a general-purpose computer.例文帳に追加
撮影部4から、放射線照射部3用の爆射信号を伝達するインタフェース部4Aを、撮影部4の下方に設けているので、操作室ORに備えた制御装置2を簡素化でき、例えば汎用のパソコンを用いて構成することができる。 - 特許庁
To enable placement of a computerized tomographic (CT) apparatus or the like and accurate alignment of a target (1) by reducing the volume occupied by an apparatus for irradiation used for particle radiation therapy and (2) by creating a large space around a table for a patient.例文帳に追加
粒子線治療の(1)照射装置の占有容積を小さくすると共に、(2)患者治療台の周囲に広い空間を作ることにより、コンピューター断層撮影(CT)装置その他を置けるようし、照射の際の標的の照準を正確にする。 - 特許庁
The positive resist composition contains: (A) a resin which has a specific repeating unit having a norbornene structure at its side chain and is increased in solubility in an alkaline developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active light or radiation.例文帳に追加
(A)特定の繰り返し単位と、特定の繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
This resin composition for irradiation with radiation is prepared by adding at least one of either 2-[2-hydroxy-3-(3,4,5,6-tetrahydrophthalimide- methyl)-5-octylphenyl]benzotriazole or 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5,- triazine-2-yl]-5-(octyloxy)phenol as an ultraviolet absorbent to a thermoplastic resin.例文帳に追加
熱可塑性樹脂に、紫外線吸収剤として、2−[2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,6−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル)−5−オクチルフェニル]ベンゾトリアゾール、及び、2−[4,6−ビス(2,4ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−5−(オクチルオキシ)フェノールの少なくとも一方を添加する。 - 特許庁
The positive resist composition contains: (A) a resin the solubility of which with an alkali developing solution is increased by an action of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation; and (F) a surfactant having a basic group.例文帳に追加
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(F)塩基性基を有する界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The positive resist composition is decomposed by (A) the action of an acide of a specific structure expressed in a general formula and contains a compound generating the acid by a resin increasing solubility to an alkali developer and by (B) irradiation of an active light beam or radiation.例文帳に追加
(A)下記一般式(A)で表される特定構造の、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The resist composition contains (A) a resin increasing a dissolution speed to an alkali developer due to the action of an acid having a repeating unit expressed by a general formula (I), and (B) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation.例文帳に追加
(A)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するレジスト組成物。 - 特許庁
The positive resist composition is decomposed by (A) the action of an acid having a specific structure expressed in general formula (A), and contains a compound generating the acid by a resin increasing solubility to an alkali developer and by (B) irradiation of an active light beam or radiation.例文帳に追加
(A)下記一般式(A)で表される特定構造の、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及びを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
To provide a method of printing and after-treating the printed image, which realizes various adjustments of glossiness by forming at least one printed image including irradiation-curing pigment on a substrate and improving an radiation-curing method.例文帳に追加
印刷像を印刷して後処理する方法であって、被印刷物に、放射硬化性の色料を有する少なくとも1つの印刷像を形成し、印刷像を放射で硬化する方法を改良して、光沢の様々な適合を実現するようなものを提供する。 - 特許庁
The coating material for sliding use contains 1-90 wt.% of a modified fluororesin which has been modified by irradiating to a fluororesin an ionizing radiation in an irradiation dose of 1 kGy-10 MGy in an oxygen concentration of 100 torr or lower and at a temperature of the melting point or higher.例文帳に追加
この摺動用塗料材は、酸素濃度が100torr以下、融点以上の温度の下で、ふっ素樹脂に照射線量1kGy〜10MGyの電離性放射線を照射して改質された改質ふっ素樹脂1〜90wt%を含む。 - 特許庁
The light signal, emitted by the specimen 12' corresponding to irradiation with the radiation beam 64', is transmitted to the emission side opening 52' by the optical paths to be sensed in the emission side opening 52' by a photosensor 90' and is processed by a processor 80' to form an image the specimen 12'.例文帳に追加
輻射ビーム64’の照射に応じ標本12’が発した光信号を、その光路によってその出射側開口52’まで伝送し、出射側開口52’にて光検知器90’により検知し、プロセッサ80’により処理して、標本12’を画像化する。 - 特許庁
To provide an ink composition suitable for inkjet recording applications that is excellent in dispersibility and dispersion stability of fine pigments, can form an image of high image quality having clear color tones and high coloring power and is curable by irradiation with an active radiation.例文帳に追加
微細な顔料の分散性及びその安定性に優れ、鮮明な色調と高い着色力を有する高画質の画像を形成することができ、活性放射線の照射により硬化しうる、インクジェット記録用途に好適なインク組成物の提供。 - 特許庁
The positive resist composition contains an acid decomposable resin and a compound generating an acid by irradiation with active rays or radiation, wherein a positive resist composition is used which contains at least two kinds of acid decomposable resins polymerized by different polymerization initiators.例文帳に追加
酸分解性樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、異なる重合開始剤で重合した少なくとも2種の酸分解樹脂を含有させたポジ型レジスト組成物を用いる。 - 特許庁
The positive resist composition comprises a compound which has a specified structure and generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and a polymer which is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of an acid.例文帳に追加
特定の構造を有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
This blood treating device has the hollow yarn membrane consisting of the polysulfone resin and the hydrophilic resin as the main part and the moisture content of the hollow yarn membrane subjected to the irradiation sterilization by the radiation is ≤5% and the relative humidity in the ambient atmosphere of the hollow yarn membrane is ≤40%.例文帳に追加
ポリスルホン系樹脂及び親水性樹脂からなる中空糸膜を主要部とし、かつ放射線で照射滅菌された、中空糸膜の含水率が5%以下、かつ中空糸膜周辺雰囲気の相対湿度が40%以下の血液処理器。 - 特許庁
To provide a particle beam radiation system and its control method, which are capable of accurately detecting and evaluating actual exposure dose in a therapy using charged particle beams by appropriately executing a beam emission in abnormal conditions during spot irradiation.例文帳に追加
スポット照射中における異常発生時のビーム出射処理を適切に行うことにより、荷電粒子ビームを用いた治療における実照射線量の検出および評価を正確に行うことができる粒子線照システムおよびその制御方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for easily reducing the background noise, when detecting the radiation light emitted when a carrier is irradiated with an irradiation light, and when a substance is carried for detecting the substance carried by the carrier.例文帳に追加
本発明は、担持体に担持されている物質を検出するために、照射光を担持体に照射して、物質が担持されている場合に放射される放射光を検出する際、簡便にバックグラウンドノイズを減少させる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A non-welded part 26 is formed by temporally interrupting the radiation of the energy beam during the welding, the trace 24 made by irradiation with the energy beam and the non-welded part 26 are photographed, and the deviation amount between the non-welded part 26 and the trace 24 is derived by observing the photographed data.例文帳に追加
溶接中にエネルギービームの照射を一時的に中断して未溶接部26を形成し、エネルギービームの照射瘢痕部24と、未溶接部26を撮像し、該撮像データの観察により未溶接部26と照射瘢痕部24とのずれ量を求める。 - 特許庁
The calcium fluoride single crystal characterized in that the decreasing rate of transmittance based on 30 mm thickness at 140 and 190 nm wavelengths after irradiation with γ-rays at 1×10^6 R/h radiation dose for 1 h is ≤7% of the transmittance before being irradiated is provided.例文帳に追加
線量1×10^6R/時間のガンマ線を1時間照射した後の波長140nm及び190nmにおける厚さ30mm当たりの透過率の減少量が、照射前に対して7%以下であるフッ化カルシウム単結晶を提供する。 - 特許庁
The positive resist composition is decomposed by (A) the action of an acid of a specific structure expressed in general formula (A), and contains a compound generating the acid by a resin increasing solubility to an alkali developer and by (B) the irradiation of an active light beam or radiation.例文帳に追加
(A)下記一般式(A)で表される特定構造の、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The positive resist composition contains a compound which generates a specified acid, having a plurality of sulfonic acid groups by irradiation with active rays or radiation; and an amine compound, having at least one aliphatic hydroxyl group and/or an ether bond in a molecule.例文帳に追加
活性光線または放射線の照射によりスルホン酸基を複数有する特定の酸を発生する化合物と、分子内に少なくともひとつの脂肪族性水酸基及び/またはエーテル結合を有するアミン化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
A second inspection set is equipped with an electric field radiation type annular electron emitter which annularly surrounds radially outside of an anode leading end part and the electron cutting-off members arranged at the positions on both sides of the X-ray irradiation direction of the annular electron emitter and used in X-ray inspection.例文帳に追加
第2の検査セットは、陽極先端部の半径方向外側を環状に囲む電界放射型の環状電子エミッタと、環状電子エミッタのX線照射方向両側位置に配置された電子遮蔽部材と、を備え、X線検査に用いる。 - 特許庁
The coated article is equipped with the transfer toner layer 4A which is composed of a toner transferred onto an article 1, and the top coat 5 which is provided on the layer 4A; and the top coat 5 is composed of an electron radiation curing type coating material which is cured by electron beam irradiation.例文帳に追加
塗装物品は、物品1上に転写されたトナーからなる転写トナー層4A、および転写トナー層4A上に設けられた上塗り層5を備えており、この上塗り層5が、電子線照射によって硬化した電子線硬化型塗料からなる。 - 特許庁
A control means 22 of the radiographic apparatus 1 generates feature amount data related to an object transmitted radiation rate according to an irradiation start information and irradiation stop time information detected based on a current flowing through a bias line by current detecting means 24A, 24B and proper dosage information, and transmits the feature amount data accompanied by read image data to a console C.例文帳に追加
電流検出手段24A、24Bによりバイアス線を流れる電流に基づいて検出される照射開始時情報及び照射停止時情報と、適正線量情報とに基づいて、放射線画像撮影装置1の制御手段22が、被写体透過放射線量に関する特徴量データを生成し、この特徴量データを読取画像データに付帯させてコンソールCに送信する。 - 特許庁
To provide an active radiation curing type ink composition in which curing sensitivity is high to irradiation of an active energy ray, excels in discharge property at the time of recording an image by an inkjet method, and is suitable for an inkjet recording application excellent in adhesion and blocking resistance to the recording medium of a recorded image.例文帳に追加
活性エネルギー線の照射に対して硬化感度が高く、インクジェット法により画像を記録する際の吐出性に優れ、記録した画像の記録媒体への密着性及び耐ブロッキング性に優れたインクジェット記録用途に好適な活性放射線硬化型インク組成物を提供する。 - 特許庁
The respective Fresnel lenses 3 use a plurality of radiation directions inclined from the optical axis of the light emitting diode 1 as their optical axis directions and form a light distribution pattern F of desired illuminance on the irradiation surface, and are so arranged as to surround the light emitting diode 1 on the front side of the light emitting diode 1.例文帳に追加
各フレネルレンズ3は、発光ダイオード1の光軸から傾いた複数の照射方向それぞれを光軸方向とし照射面へ所望の照度の配光パターンFを形成するレンズであり、発光ダイオード1の前方側で発光ダイオード1を囲むように配置する。 - 特許庁
To obtain a material classified into a low-level radioactive waste material (LLM) which means that spent reactor structural materials can be buried shallowly by reducing the yield of carbon 14 generated through radiation irradiation in steel or ferritic steel, a reactor structural material of a nuclear fusion reactor.例文帳に追加
核融合炉の炉構成材である鋼またはフェライト鋼において、放射線照射によって生ずる炭素14の生成量を減らし、使用済みの炉構成材を浅地埋設可能な低レベル放射性廃棄物(LLM、low level material)に分類される材料を得る。 - 特許庁
The sample container is constituted of an element other than those which are considered to be objects of a fluorescent X-ray analysis in general and a mask 60 is made of a carbonaceous material or a polymer material such as polybenzimidazole which is a radiation-resistant macromolecule not undergoing decomposition even in the case of irradiation with a primary X-ray.例文帳に追加
一般的に蛍光X線分析の分析対象外である元素により構成されており、かつ一次X線が照射された場合においても分解しない耐放射線性高分子であるポリベンゾイミダゾールなどの高分子材料または炭素材料でマスク60を構成する。 - 特許庁
To be concrete, preferably the mixture is subjected to the pressure forming or extrusion molding while heating at ≥55-65°C being the gelatinization temperature of the starch or the starch derivative and ≤100°C and then irradiated with the ionizing radiation having ≥1kGy and <200 kGy irradiation dose.例文帳に追加
具体的には、デンプン及びデンプン誘導体のアルファ化温度である55〜65℃以上で100℃以下の温度で加熱しながら上記加圧成形あるいは押出成形し、その後、上記電離性放射線を1kGy以上200kGy未満の照射量で照射しているのが好ましい。 - 特許庁
To secure a prescribed irradiation light amount by suppressing temperature rise of LEDs by increasing heat radiation property of self heat generation of the LEDs in a vehicular LED lighting fixture with the LEDs as a light source, and provide the vehicular LED lighting fixture having high reliability.例文帳に追加
LEDを光源とする車両用LED灯具において、LEDの自己発熱の放熱性を高めることによってLEDの温度上昇を抑制して所定の照射光量を確保すると共に、信頼性の高い車両用LED灯具を提供することにある。 - 特許庁
The positive photosensitive composition contains (A) a resin which has a repeating unit having a specific group and increases its solubility in an alkaline developer under the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation.例文帳に追加
(A)特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
This aromatic polycarbonate composition is provided by blending (A) 100 pts.wt. aromatic polycarbonate, (B) 0.01-5 pts.wt. sulfide compound and a coloring agent, and showing ≤2 b-value by a Hunter's Lab method of a color tone at 7 days after the irradiation of the ionizing radiation on a 3 mm thickness molded piece.例文帳に追加
芳香族ポリカーボネート(A)100重量部に、スルフィド化合物(B)0.01〜5重量部および着色剤を配合し、電離放射線照射後7日目の3mm厚成形片の色調が、ハンターのLab法におけるb値で2以下であるポリカーボネート樹脂組成物。 - 特許庁
To provide a package for a light emitting element preventing degradation of light reflectivity due to high temperature or ultraviolet irradiation, having high heat radiation capability, and preventing thermal expansion difference stress from being imposed on a semiconductor chip in temperature rise; and a manufacturing method of a light emitting element high in productivity.例文帳に追加
高温や紫外線照射によって光反射率の劣化がなく、また放熱性がよく、温度上昇時に半導体チップに熱膨張差応力がかからない発光素子用のパッケージを提供するとともに、生産性の高い発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To solve dose insufficiency caused by that a diagnosis object region becomes out of a sensor disposition range by controlling the amount of the radiation irradiation in response to the output of each sensor in radiographic photographing equipment having a plurality of sensors for automatic exposure control.例文帳に追加
自動露出制御用の複数のセンサを備えた放射線画像撮影装置において、個々のセンサの出力に応じて放射線照射量を制御することにより、診断対象領域がセンサ配置領域外となることによる線量不足を解消できるようにする。 - 特許庁
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