「radiation irradiation」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

The reader for glass dosimeter is a device for reading a dose of radiation emitted on a fluorescence glass element 10, and includes an irradiation section 20 for irradiating the element 10 with ultraviolet rays, a fluorescence amount varying section 30, a photomultiplier tube 40, a photon counting section 60, a fluorescence amount control section 70 and a dose calculation section 80.例文帳に追加

ガラス線量計読取装置は、蛍光ガラス素子１０に照射された放射線線量を読み取る装置であり、素子１０に紫外線を照射する照射部２０、蛍光量可変部３０、光電子増倍管４０、光子計数部６０、蛍光量制御部７０および線量算出部８０を備えている。 - 特許庁

To provide an inkjet-recording ink curing by the irradiation of a radiation in a high sensitivity, capable of forming an image having a high image quality and having a good preservation stability, and a method for producing a lithographic printing plate capable of forming the image having the high quality prepared by the ink composition and excellent in resistance to printing.例文帳に追加

放射線の照射に対して高感度で硬化し、高画質の画像を形成することができ、保存安定性の良好なインクジェット記録用インク組成物、及び、該インク組成物により作製された高画質の画像の形成が可能であり、耐刷性に優れた平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyamic acid used as a raw material for an organic semiconductor material capable of changing the surface free energy of a film with radiation in a reduced amount of irradiation energy when forming a line for electrodes on a film by irradiating with energy rays to change the surface free energy of the film, coating the changed portion with a sliver nanoink and sintering.例文帳に追加

エネルギー線を照射し、膜の表面自由エネルギーを変化させ、該変化した部分に銀ナノインクを塗布し、焼成して、電極用ラインを形成する時、少ない照射エネルギーの照射線で膜の表面自由エネルギーを変化させることが可能な有機半導体材料の原料となるポリアミド酸の提供。 - 特許庁

A synthetic resin film 1 added with an antistatic agent is allowed to pass through an irradiation apparatus 3, and thereby the synthetic resin film 1 is irradiated with a radiation dosage of 30 kGy or more, preferably, 250 kGy or more, to thereby perform the crosslinking of the synthetic resin film 1 and impart antistatic properties and the organic solvent-resistance to the film.例文帳に追加

静電防止剤を加えたポリオレフィン系の合成樹脂フィルム１を放射線の照射装置３に通すことによって合成樹脂フィルム１に３０ＫＧｙ以上、好ましくは２５０ＫＧｙ以上の線量の放射線を照射し、合成樹脂フィルム１を架橋することによって、静防性と耐有機溶剤性を与える。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（１）（Ａ）イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains an acid generating agent by light having a specific structure which generates an acid by the irradiation with active light or radiation and a polymer having a repeating structural unit of a specific structure, a repeating structural unit of a specific structure having an alicyclic ring in the main chain and a group decomposing by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物、特定の構造の繰り返し構造単位と主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し構造単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This evaluation is executed by using a device including irradiation sources 3, 4 capable of irradiating radiation rays with sufficient energy for emitting photoelectrons 8 from the protection film of the sample 1 of the recording medium and work function measurement means 6, 7 for detecting the photoelectrons 8 from the sample 1 and for outputting them as the work function.例文帳に追加

この評価は、記録媒体試料１の保護膜から光電子８を放出させるのに十分なエネルギーの放射線を照射可能な照射源３、４と、試料１からの光電子８を検出し仕事関数として出力する仕事関数測定手段６、７とを含む装置を用いて実施できる。 - 特許庁

In the radiation image conversion panel that has a phosphor layer 12 where stimulate phosphors are scattered in the bonding agent and a protective layer 13 on a support 11, the bonding agent in the phosphor layer 12 contains a resin cured by ultraviolet rays or an electron beam and the phosphor layer 12 is cured through the irradiation of it with ultraviolet rays or an electron beam.例文帳に追加

支持体11上に、結合剤中に輝尽性蛍光体を分散した蛍光体層12と保護層13を有する放射線像変換パネル10において、蛍光体層12の結合剤を紫外線または電子線硬化樹脂を含むものとし、かつ蛍光体層12を紫外線または電子線の照射によって硬化する。 - 特許庁

To provide a servo motor with reduction gear, in which major components are all formed of high radiation resisting material which is resistive to the exposure does of 100 MGy(Mega-Gray) or higher under the γ-ray exposure dose rate of 10 KG y/h(Killo-Gray/h) and enables application under the temperature of 100°C or higher and under irradiation of neutrons.例文帳に追加

主要部品のすべてを高耐放射線性材料で構成した減速機付きサーボモータに関するもので、１０ＫＧｙ／ｈ（キログレイ毎時）のガンマ線量率下で１００ＭＧｙ（メガグレイ）以上の照射線量に耐えると共に、１００℃以上の高温下をはじめ、中性子照射下でも使用可能なものである。 - 特許庁

In the method for treating the strongly oxidizing metal ion-containing aqueous solution, the solid material dispersed and the supported with noble metal is added in the little quantity, and the strongly oxidizing metal ion is reduced into a low oxidizing state and made to harmless by utilizing the reduction to be induced in the aqueous solution and on the surface of the solid material, with the irradiation from the radiation.例文帳に追加

強酸化性金属イオン含有水溶液の処理方法については、貴金属分散・担持固体材料を少量添加し、放射線照射により前記水溶液中および固体材料表面に誘起される還元反応を利用して、強酸化性金属イオンを低い酸化状態に還元して無害化する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin of which the solubility in an alkali developer increases under the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (C) a resin having a specific structure and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) a crosslinked resin having a specified crosslinked repeating unit as at least one of repeating units and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）繰り返し単位の少なくとも１種として、特定の架橋繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する架橋樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has a repeating unit of a specified norbornane structure having a hetero atom in the side chain and of which the solubility to an alkaline developing solution increases by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖にヘテロ原子を有する特定のノルボルナン構造をもった繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an ink composition which excels in the dispersibility of a fine pigment and its stability, can form a high quality image having a bright color tone and high coloring power, can be curable by irradiation with active radiation and is suitably used in inkjet recording, and an inkjet recording method using the above ink composition.例文帳に追加

微細な顔料の分散性及びその安定性に優れ、鮮明な色調と高い着色力を有する高画質の画像を形成することができ、活性放射線の照射により硬化しうる、インクジェット記録用として好適なインク組成物、及び、前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法の提供。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble and becomes alkali- soluble under the action of an acid and (D) a chain compound having three or more hydroxyl groups or substituted hydroxyl groups.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、（Ｄ）少なくとも３つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有する鎖状化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition for immersion exposure contains a resin component (A), whose alkali solubility is varied by the action of an acid, wherein the resin component (A) contains a high-molecular compound (A1) having a constitutional unit (a0) having an acid generating group which generates acid by irradiation with radiation.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、放射線の照射により酸を発生する酸発生基を有する構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁

There are provided a cross-linked polyamide resin molded product formed of a polyamide resin composition prepared by mixing polyamide 46 and an aliphatic polyamide resin constituted of a bivalent group having 6-12 carbon-carbon bonds between amide bonds, and cross-linked by ionizing radiation irradiation, and a production process therefor.例文帳に追加

ポリアミド４６と、アミド結合間が６〜１２の炭素−炭素結合からなる２価基で構成されている脂肪族ポリアミド樹脂とを混合してなるポリアミド樹脂組成物から形成され、かつ、電離放射線により照射架橋されていることを特徴とする架橋ポリアミド樹脂成形品、及びその製造方法。 - 特許庁

To provide a flash discharge lamp lighting device and an radiation energy irradiation device using this in which a surface treatment or the like can be carried out with the minimum physical damage given to an irradiated material in irradiating the discharge energy by lighting the flash discharge lamp with a pulse power supply of a high voltage and a low capacity.例文帳に追加

閃光放電ランプを高電圧低容量のパルス電源により点灯して、放射エネルギーの照射の際に被照射物に与える物理的ダメージを最小限にして表面処理などを行える閃光放電ランプ点灯装置およびこれを用いた放射エネルギー照射装置を提供する。 - 特許庁

A preparation room 1 for setting a patient 15, a simulator room 12 for positioning the patient 15, and an irradiation room 13 for irradiating with corpuscular rays, are separately prepared, and the patient 15 is moved remaining on a bed 14 along conveying paths 16, 17 to execute radiation exposure.例文帳に追加

患者１５のセッティングを行なう準備室１１、患者１５の位置決めを行なうシミュレータ室１２および粒子線の照射を行なう照射室１３をそれぞれ分離して用意し、各部屋間を搬送路１６、１７に沿って患者１５をベット１４に乗せたまま移動させ放射線照射を実行する。 - 特許庁

The positive resist composition is characterised by containing: (A) a resin which has at least one kind of repeating unit having at least two groups of specified structures and which increases the solubility with an alkaline developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の基を少なくとも２つ有する繰り返し単位を少なくとも１種類有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation curable composition which is characterized in that a cured film thereof having a thickness of 100 μm, which is obtained by being irradiated with an ultraviolet light having a wavelength of 254 nm at an irradiation intensity of 1.0 J/cm^2 by using a high pressure mercury lamp, has a tensile modulus at 5°C of not less than 1,400 MPa.例文帳に追加

高圧水銀ランプにて、波長２５４ｎｍ、照射強度１．０Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化させた膜厚１００μｍの硬化物膜の５℃における引張弾性率が１，４００ＭＰａ以上であることを特徴とする光記録媒体背面層用放射線硬化性組成物に関する。 - 特許庁

This adamantane-based polymer obtained by polymerizing adamantane esters and ortho-ketals having a specific structure or polymerizing them with another monomer, and the photoresist composition containing the adamantane-based polymer as a film-forming component and also a compound producing an acid by the irradiation of a radiation are provided.例文帳に追加

特定の構造を有するアダマンタンのケタール類やオルトエステル類、又はそれらと他の単量体を重合させてなるアダマンタン系重合体、及び被膜形成成分として上記アダマンタン系重合体を含むと共に、放射線の照射により、酸を生成する化合物を含むフォトレジスト組成物である。 - 特許庁

To provide liposome improved in controlling release of active drugs by ionizing radiation irradiation, to provide liposome preparation including drugs in liposome, and to provide a method for preparing liposome and a method of releasing drugs from the liposome preparation by controlling the molar ratio of liposome membrane ingredients.例文帳に追加

電離放射線の照射による活性薬剤の放出の制御が改善されたリポソーム、リポソーム内に薬剤を含んでなるリポソーム製剤、リポソーム膜の成分のモル比を調整することによるリポソームの調整方法並びにリポソーム製剤から薬剤を放出する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having an organic group of a specified structure and having the solubility to an alkali developer solution increased by the effect of an acid; (B) a compound generating a fluorine-substituted alkane sulfonic acid having 2 or 3 carbon atoms upon irradiation with active rays or radiation; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の有機基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によりフッ素置換された炭素数２または３のアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A resist film 11 comprising a chemical amplification type resist material having a base resin containing at least one selected from a t-butyl group, a t-butyloxycarbonyl group and a t-butyloxycarbonylmethyl group as a protective group and an acid generator is formed and patternwise exposed by irradiation with extreme-ultraviolet radiation (13.5 nm band) 13.例文帳に追加

保護基として、ｔ−ブチル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基及びｔ−ブチルオキシカルボニルメチル基のうちの少なくとも１つを含むベース樹脂と酸発生剤とを有する化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１に極紫外線（１３．５ｎｍ帯）１３を照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

The resist composition contains: (A) a resin having an alicyclic structure and showing changes in a dissolving rate with a developing solution by an action of an acid; (B) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a compound expressed by general formula (EA).例文帳に追加

本発明に係るレジスト組成物は、（Ａ）脂環構造を備え且つ酸の作用により現像液に対する溶解速度が変化する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物と、（Ｃ）下記一般式（ＥＡ）により表される化合物とを含有したレジスト組成物。 - 特許庁

A dielectric film having light transmissivity and heat radiation effect can be made by using dielectric in which SiN and Al are mixed appropriately, and especially when the AlSiN is used as the dielectric film of the light incident side, heat generated by irradiation of a laser beam can be discharged also to the dielectric side, then, rewriting durability is improved.例文帳に追加

SiNと、Alを適度に混ぜ合わせた誘電体を用いることによって、光透過性と、放熱効果をもった誘電体膜となり、特に、このAlSiNを光入射側の誘電体膜として用いると、レーザー光の照射によって発生した熱は誘電体側にも逃げることができ、書き換え耐久性が向上する。 - 特許庁

Disclosed is the negative type resist composition containing (A) an alkali-soluble resin, (B) a cross-linking agent cross-linking the alkali-soluble resin through reaction of an acid, (C) a compound advancing cross-linking reaction by irradiation with an active light beam or radiation, and (D) a compound having a cation polymerizable group; and the pattern forming method.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an ink composition that forms an image having excellent blocking resistance and has high sensitivity to radiation irradiation and improved curability; to provide an inkjet ink composition having excellent ejection stability; and to provide an inkjet recording method that has high productivity and obtains an excellent image.例文帳に追加

耐ブロッキング性に優れた画像を形成しうるインク組成物を提供し、放射線の照射による感度が高く、硬化性が向上したインク組成物を提供すること、および吐出安定性に優れたインクジェット用インク組成物を提供し、生産性が高く、優れた画像を得ることができるインクジェット記録方法を提供すること。 - 特許庁

Preferably, when the glass is 10±0.1 mm thick, the glass has 80% transmittance for light at ≤420 nm wavelength, and the glass shows ≤3.0% deterioration rate in the transmittance by the irradiation of rays in a UV region and/or visible region at 2.2 W.cm^-2 radiation illuminance for 10 minutes.例文帳に追加

さらに、厚さ１０±０．１ｍｍである場合に、透過率８０％で透過する光の波長が４２０ｎｍ以下であり、紫外域および／または可視域の光線を２．２Ｗ・ｃｍ^-2の放射照度で１０分間照射することによる透過率の劣化率が３．０％以下であることが好ましい。 - 特許庁

An imaging operation that does not accompany radiation irradiation is performed in parallel with an output of the first image data, the control part 107 acquires second offset data on a condition almost similar to that of practical photographing, and the acquired second offset data is used to apply offset correction to the image data, outputting the second image data.例文帳に追加

この第一の画像データの出力と並行して、放射線照射を伴わない撮像動作を行い、実際の撮影と略同一条件の第二のオフセットデータを制御部１０７にて取得し、取得した第二のオフセットデータを用いて、前記画像データをオフセット補正し、第二の画像データを出力する。 - 特許庁

After the irradiation of the exposure light is stopped and idle reading is stopped, radiation Q is applied to the first conductivity layer 11 to record electrostatic latent images in the detector 10, while the recording voltage for generating avalanche amplification operation is being applied between the electrode of the first conductivity layer 11 and the stripe electrode 16.例文帳に追加

この前露光光の照射を停止させて空読みを停止させた後、第１導電層１１の電極とストライプ電極１６との間にアバランシェ増幅作用を生ぜしめる記録用電圧を印加した状態で第１導電層１１に放射線Ｑを照射して、検出器１０に静電潜像の記録を行う。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which contains a repeating unit having a -SO_2- structure in the side chain and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkali developer, and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に−ＳＯ_２−構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, (B) a resin showing an increase in dissolution rate with an alkali developing solution by an action of an acid, and (C) a hydrophobic resin.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The inkjet recording radiation curable ink composition is a radiation curable ink composition containing a polymerizable compound having a hydroxyl group and the hydroxyl number per gram of the irradiation curable ink composition is ≥1 and ≤200 [KOHmg/g], and the first polymerizable compound includes at least one selected from hydroxyalkyl (meth)acrylates, hydroxy (meth)acrylates having an alicyclic structure, and epoxy (meth)acrylates.例文帳に追加

本発明に係るインクジェット記録用放射線硬化型インク組成物は、水酸基を有する重合性化合物を含有する放射線硬化型インク組成物であって、前記放射線硬化型インク組成物１ｇにおける水酸基価が、１［ＫＯＨｍｇ／ｇ］以上２００［ＫＯＨｍｇ／ｇ］以下であり、前記第１の重合性化合物は、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、脂環式構造を有するヒドロキシ（メタ）アクリレート、およびエポキシ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種を含む。 - 特許庁

This leak test method for the hollow fiber membrane type medical instrument including a hollow fiber membrane 3 having a permselectivity includes: a step of coating the hollow fiber membrane 3 with coating liquid including radiation crosslinking hydrophilic polymer having a K value of 25 or more and less than 100 and polyalcohols; a leak test step of measuring the permeability of gas of the hollow fiber membrane 3, and an irradiation sterilization step of applying radiation to the hollow fiber membrane 3.例文帳に追加

選択透過性を有する中空糸膜３を具備する中空糸膜型医療用具のリークテスト方法であって、Ｋ値が２５以上１００未満の放射線架橋性親水性高分子と多価アルコール類とを含むコート溶液を前記中空糸膜３にコートする工程と、前記中空糸膜３の気体の透過性を測定するリークテスト工程と、前記中空糸膜３に放射線を照射する照射滅菌工程とを有する中空糸膜型医療用具のリークテスト方法。 - 特許庁

In the positive radiation sensitive composition containing (a) a polymer obtained by polyaddition of a polyhydric phenol compound having 2-7 phenolic hydroxyl groups and a vinyl ether compound and (b) an acid generator which generates an acid upon irradiation with a radiation, the vinyl ether compound is a mixture of a polyvalent vinyl ether compound having 2-4 vinyl ether groups and a monovalent vinyl ether compound having one vinyl ether group.例文帳に追加

（ａ）フェノール性水酸基を２〜７個有する多価フェノール化合物と、ビニルエーテル化合物とを重付加して得られる重合体、および（ｂ）放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物において、前記ビニルエーテル化合物が、ビニルエーテル基を２〜４個有する多価ビニルエーテル化合物と、ビニルエーテル基を１個有する１価ビニルエーテル化合物との混合物であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

The lithography equipment has an irradiation system for supplying a radiation projection beam and a parts retainer containing multiple projections defining a projection structure so arranged that a flat surface of a support to support substantially flat parts to be arranged in the beam path for the radiation projection beam, and this parts retainer contains at least one clamping electrode for generating an electrostatic clamping force so that parts may be clamped to the parts retainer.例文帳に追加

放射の投影ビームを供給するための照射システムと、前記放射の投影ビームのビーム経路中に配置すべき実質的に平坦な物品を支持するための支持体の平坦面を提供するように配置された突起構成を画定する複数の突起を含む物品保持器を備え、この物品保持器は、物品を物品保持器に対してクランピングするために、静電クランピング力を生成するための少なくとも１個のクランピング電極を含む、リソグラフィ投影装置。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a fluororesin which has a specified repeating unit and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (C) a solvent and (D) a compound having at least one carboxyl group.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素含有樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）少なくともひとつのカルボキシル基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains an acid generating agent by light having a specific structure generating an acid by the irradiation with active light or radiation, a polymer, which has a repeating structural unit having a specific structure having an alicyclic ring in the main chain and a group decomposing by the action of the acid, and a fluorine based and/or silicon based surfactant.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の光酸発生剤、主鎖に脂環式環を有する特定の構造の繰り返し構造単位を有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、及びフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (B) a resin comprising a repeating unit having a partial structure represented by formula (X) on a side chain and a repeating unit having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記の一般式（Ｘ）で表される部分構造を側鎖に有する繰り返し単位及び特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a compound (A) generating an acid by the irradiation with an active ray or radiation, a resin (B) having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure in the main chain or the side chain and increasing the solubility in an alkali developer by the decomposition with the action of the acid and a compound (C) expressed by a specific structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を、主鎖または側鎖に有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This invention relates to the nano-projection structure formed of a projection 2 grown by irradiation of a high energy beam to metal copper 3 under rough vacuum, and formed in a bent, curved, or spiral coil shape by a change in the radiation direction of the beam in the middle of the growth.例文帳に追加

金属銅３などに低真空下で高エネルギービームが照射されることにより成長された突起２からなるナノ突起構造体であって、当該ナノ突起構造体は、高エネルギービームの照射方向が成長途中で変更されて、屈曲状または湾曲状または螺旋コイル状に形成されていることを特徴とするナノ突起構造体。 - 特許庁

In the radiography recorder/reader 100, featured values of light emitting characteristics of instantaneous emitted light emitted from a plate 4 at the time of radiation irradiation are measured by an instantaneous light emitting characteristic measurement means 17, a result is stored, temperature near the plate 4 is measured by a temperature sensor 20 and a result is stored.例文帳に追加

本発明に係る放射線画像記録読取装置１００によれば、放射線照射時にプレート４から発光する瞬時発光光の発光特性の特徴量を瞬時発光特性測定手段１７により測定し、結果を記憶するとともに、プレート４近傍の温度を温度センサ２０により測定し、結果を記憶する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which has a cationic moiety having at least one phenolic hydroxyl group and a specified anionic moiety and which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）フェノール性ヒドロキシ基を少なくともひとつ有するカチオン部と特定のアニオン部とを有する活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁