「radiation irradiation」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive photosensitive composition is characterized in containing (A) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or a radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer liquid, and (C) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in the molecule.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide an ink composition excellent in the dispersing property of a fine pigment and stability of the same, capable of forming a high picture quality image having a clear color tone and a high color-attaching power, curing by the irradiation of an active radiation and suitable for an inkjet recording, a method for inkjet-recording by using the ink composition and printed materials obtained from the same.例文帳に追加

微細な顔料の分散性及びその安定性に優れ、鮮明な色調と高い着色力を有する高画質の画像を形成することができ、活性放射線の照射により硬化しうる、インクジェット記録用として好適なインク組成物、該インク組成物を用いたインクジェット記録方法及び、それにより得られた印刷物を提供する。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin which has a partial structure having a hydroxyl group replaced with a hydrocarbon group, has 120 to 180°C glass transition temperature, is decomposed by an acid and has its dissolution rate in an alkaline developing solution increased, (B) a compound which generates an acid by irradiation with an active ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）水酸基が脂肪族環状炭化水素基に置換した部分構造を有し、ガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃である、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is characterized in that it contains (a) a polymer which has a silicon atom in a side chain, is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and has a specified phenacylsulfonium structure.例文帳に追加

(ａ) 側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリ水溶液に不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるポリマー、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のフェナシルスルホニウム構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a specified repeating unit expressed by general formula (I) and a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｃ）溶済を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The chemically amplified photoresist composition used for forming a thick film photoresist layer of 20-150 μm thickness on a support comprises (a) a resin whose alkali solubility is varied by the action of an acid and (b) an N-sulfonyloxyimide compound which generates an acid upon irradiation with a radiation.例文帳に追加

支持体上に、膜厚２０〜１５０μｍの厚膜ホトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物であって、（ａ）酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂及び（ｂ）放射線照射により酸を発生するＮ−スルホニルオキシイミド化合物を含有する厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物。 - 特許庁

A photocatalyst material such as n-type semiconductor 1 is adhered on metal parent material 2 such as stainless steel and welding material, inconnel, hydrogen concentration in rector water is raised if necessary, and current is caused in the metal parent material from the optical catalyst material by irradiation with light and radiation existing in the reactor to lower corrosion current.例文帳に追加

光触媒物質であるｎ型半導体１のような光触媒物質をステンレスや溶接材であるインコネルなどの金属母材２に付着させ、必要に応じて炉水中の水素濃度を高めて、原子炉内に存在する光や放射線の照射により光触媒物質から金属母材に電流を流して腐食電流を低減させる。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which is insoluble or hardly soluble with an alkali developer solution and becomes soluble with an alkali developer liquid by the effect of an acid; and (C) a compound having a group which reacts with an acid group to bond by the effect of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）酸の作用により酸基と反応して結合し得る基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The cationically polymerizable composition is a cationically polymerizable composition which is cured by irradiation with actinic radiation, wherein the cationically polymerizable composition comprises at least one compound having an oxirane ring and an oxetane ring in one molecule and a polymerization initiator being a triaryl sulfonium salt having at least one aryl skeleton having an electron-attracting group as a substituent.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射により硬化するカチオン重合性組成物において、該カチオン重合性組成物中に同一分子内にオキシラン環とオキセタン環を含む少なくとも１種の化合物と電子吸引性基を置換基として有するアリール骨格を１つ以上有するトリアリールスルホニウム塩重合開始剤を含有するカチオン重合性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and (C) a compound represented by a specified structure and containing a sulfonimide structure in its molecule.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の構造で表される分子内にスルホンイミド構造を含む化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having a specified repeating unit having a norbornane lactone structure and having the solubility with an alkaline developing solution increased by the effect of an acid; (B) a compound which generates specified sulfonic acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) solvent.例文帳に追加

（Ａ）ノルボルナンラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The ink composition comprises (a) a cationically polymerizable compound, (b) a compound which generates an acid by irradiation with radiation, and (c) a compound which undergoes addition reaction or polarity conversion by the action of an acid, and the inkjet recording method, the printed matter, the lithographic printing plate, and its manufacturing method use this ink composition.例文帳に追加

（ａ）カチオン重合性化合物、（ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｃ）酸の作用により付加反応もしくは極性変換する化合物、を含有することを特徴とするインク組成物、並びにこれを用いるインクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版及びその作製方法、により解決される。 - 特許庁

To provide an on-vehicle communication system by which communication can be performed without lowering irradiation efficiency of an antenna even when the communication is performed in a low frequency equal to or less than the cutoff frequency, and an allocation method of the antenna for disposing the antenna so that the radiation efficiency of the antenna is not lowered even when the communication is performed in low frequencies.例文帳に追加

遮断周波数以下の低い周波数で通信を行う場合であっても、アンテナの放射効率が低下させないで通信を行うことができる車載用通信システム及び低い周波数で通信を行う場合であっても、アンテナの放射効率が低下することがないようにアンテナを配置するためのアンテナの配置方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin insoluble or hardly soluble with an alkali developing solution and changed into soluble with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (C) a compound having at least one cyclic ether group and at least one alicyclic group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基と、少なくとも１つの脂環基とを有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern capable of effectively preventing occurrence of halation and stationary waves at the time of forming, on a highly reflective film like a metallic film, a positive chemically amplifiable resist having a fundamental composition comprising an acid generating compound by irradiation with radiation and a resin to be increased in solubility in an aqueous alkaline solution by action of an acid.例文帳に追加

放射線照射により酸を発生する化合物及び酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分から成る基本組成を有するポジ型化学増幅型レジストを金属膜などの高反射性膜に施す際に、有効にハレーション及び定在波の発生を防止してレジストパターンを形成しうる方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition for liquid immersion exposure comprises: (A) a resin having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having the solubility with an alkali developing solution which increases by the effect of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; (C) a nitrogen-containing compound having no hydroxyl group; and (D) solvent.例文帳に追加

（Ａ）単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）水酸基を含有しない含窒素化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an ink composition which combines the excellent storage stability, the excellent curing rate by the irradiation with an active radiation, the high quality of the image after cure, the excellent flexibility and scratch resistance, the high adhesion to a medium to be recorded and the stable inkjet dischargeabilty; and a method for inkjet recording using this ink composition.例文帳に追加

保存安定性が良好でありながら、活性放射線の照射に対する硬化速度に優れ、硬化後の画像が高画質で、優れた柔軟性、耐擦過性を有し、被記録媒体への高い密着性を示し、かつ安定したインクジェット吐出性を兼ね備えたインク組成物、及び、前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a repeating unit having a ring structure represented by formula (A1) in a backbone, and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) an acid generator that generates an acid upon irradiation of an active ray or radiation, (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) at least two basic compounds different from each other in structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）構造の異なる少なくとも２種類の塩基性化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

In a positive resist composition comprising (A) a resin component having solubility in an alkaline aqueous solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with a radiation, the component (B) is a mixture of (b_1) cyano-containing oximesulfonate compounds and (b_2) bissulfonyldiazomethanes and/or onium salts.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分及び（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、上記（Ｂ）成分が、（ｂ_1）シアノ基含有オキシムスルホネート化合物類と、（ｂ_2）ビススルホニルジアゾメタン類又はオニウム塩類、あるいはその両方との混合物であるポジ型レジスト組成物とする。 - 特許庁

The resist composition for negative development comprises (A) a resin which has an acid decomposable repeating unit and increases in polarity under the action of an acid to exhibit decreased solubility in a negative developer, (B) a photoacid generator which generates an acid having a specific structure upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、特定の構造を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 - 特許庁

A photosensitive composition contains (A) hollow or porous particles, (B) an alkali soluble particle dispersant having a group capable of chemically binding to the particles (A), (C) a compound which generates an active species upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (D) a binder of which solubility in an alkali developer is reduced by an action of the active species.例文帳に追加

（Ａ）中空又は多孔質粒子、（Ｂ）前記粒子（Ａ）に化学的に結合可能な基を有するアルカリ可溶性粒子分散剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び（Ｄ）前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーを含有する感光性組成物。 - 特許庁

The negative resist composition contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, and (C) a crosslinker which reacts under the action of an acid to form crosslink in the alkali-soluble resin with release of a ≥3C alcohol or a ≥7C carboxylic acid.例文帳に追加

(Ａ) アルカリ可溶性樹脂、(Ｂ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）酸の作用により反応して、炭素数３以上のアルコール又は炭素数７以上のカルボン酸の脱離を伴ってアルカリ可溶性樹脂に架橋を形成する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a specified group having a group which is decomposed by the action of an acid, a specified group having another group which is decomposed by the action of an acid, and a fluorine-containing resin having a structure with a substituted fluorine atom or a trifluoromethyl group in the main chain: and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用により分解する基を有する特定の基と、酸の作用により分解する基を有する特定の基と、主鎖にフッ素原子又はトリフルオロメチル基が置換した構造を有するフッ素含有樹脂及び（Ｂ）活性光線若しくは放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin which contains a repeating unit with a specified structure having a fluorine atom and a benzene ring having a -CONH- or -SONH- group and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＣＯＮＨ−基又は−ＳＯＮＨ−基を有するベンゼン環及びフッ素原子を有する特定の構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition for manufacture of an LCD comprises: (A) an alkali-soluble resin comprising a novolac resin having 100 to 400 nm/sec alkali solubility with a 2.38 mass% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide; (B) a compound which generates an acid by irradiation of radiation; and (C) a crosslinkable polyvinylether compound.例文帳に追加

（Ａ）２．３８質量％テトラメチルアンモニムヒドロキシド水溶液に対するアルカリ溶解性が１００〜４００ｎｍ／秒の範囲であるノボラック樹脂からなるアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）架橋性ポリビニルエーテル化合物を含有することを特徴とするＬＣＤ製造用のポジ型ホトレジスト組成物。 - 特許庁

In the printed matter printed with the ink, which is discharged from a recording head having at least one nozzle capable of controlling the selective ink drop discharging and cures either through radiation irradiation or under heat, the ratio of the total ink film thickness by the total base material film thickness lies within the range of 0.40 to 0.05.例文帳に追加

選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも１つのノズルを有する記録ヘッドで吐出された放射線照射及び熱から選ばれる少なくともいずれかにより硬化するインクにより印刷された印刷物において、総インク膜厚を総基材膜厚で割った比が、０．４０〜０．０５の範囲にあることを特徴とする印刷物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (a) a resin in which a group which is released by decomposition by the action of an acid contains at least one fluorine atom and a cyclic structure and which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an aqueous alkali solution, (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (c) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸の作用による分解で離脱する基が、少なくとも１つのフッ素原子と環状構造とを含有する、酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解性が向上する樹脂、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a vehicular LED lamp capable of securing a predetermined quantity of irradiation light by suppressing temperature rise of an LED light source by enhancing heat radiation capability against self-heating of the LED light source, and thereby reducing deterioration of emission efficiency of the LED light source, in a vehicular LED lamp using LEDs for a light source.例文帳に追加

ＬＥＤを光源とする車両用ＬＥＤ灯具において、ＬＥＤ光源の自己発熱の放熱性を高めることによってＬＥＤ光源の温度上昇を抑制し、よってＬＥＤ光源の発光効率の低下が低減されて所定の照射光量を確保することが可能となる車両用ＬＥＤ灯具を提供することにある。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises a resin which is decomposed by the action of an acid having a specified structure to increase solubility in an alkali developer, a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and a solvent prepared by blending one or more solvents having one or more fluorine atoms per molecule.例文帳に追加

特定の構造を有する酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により、酸を発生する化合物及び分子内にフッ素原子を１つ以上有する溶剤を少なくとも１種以上配合してなる溶剤を含有する感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin having a specific repeating unit and solubility in an alkali developer increased by the action of an acid, and (C) a low molecular lactone compound represented by a general formula (1) and/or a general formula (2).例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂（Ｃ）特定の一般式で表される低分子ラクトン化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a repeating unit having a partial structure containing a specified alicyclic hydrocarbon and which is changed into alkali soluble by the effect of an acid; and (C) a compound having at least one of hydroxyl group or substituted hydroxyl group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂及び（Ｃ）水酸基又は置換された水酸基を少なくともひとつ有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition for negative development includes (A) a resin which has an acid decomposable repeating unit and exhibits increased polarity and decreased solubility in a negative developer under the action of an acid, (B) a photoacid generator which generates an acid having one or two fluorine atoms upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、１個または２個のフッ素原子を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which is insoluble or hardly soluble in an alkali developer solution and becomes soluble in an alkali developer solution by the action of an acid; and (C) a basic compound having at least one cyclic ether group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In the protective layer transfer sheet wherein at least one protective layer is provided on a base material easy to thermoform, the protective layer mainly comprises a resin curable by the irradiation with ionizing radiation and a photoinitiator having an absorbing peak in a light wavelength range of 350-450 nm is contained in the protective layer.例文帳に追加

熱成型が容易な基材上に少なくとも１層の保護層を設けた保護層転写シートにおいて、その保護層が主に電離放射線照射による硬化が可能な樹脂からなり、保護層中に光の波長が３５０〜４５０ｎｍの範囲に吸収ピークを有する光開始剤を含有することを特徴とする保護層転写シートである。 - 特許庁

The negative resist composition contains (A) copolymers of alkali-soluble hydroxyl styrene and styrene, (B) halogen-containing triazine compounds which generate acids by irradiation of radiation and (C) at least one kind of crosslinking agent selected from melamine resin and urea resin in which the N-site atoms are substituted with methylol groups or alkoxy methyl groups or both of the groups.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性のヒドロキシスチレンとスチレンとの共重合体、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生するハロゲン含有トリアジン化合物及び（Ｃ）Ｎ位がメチロール基又はアルコキシメチル基あるいはその両方で置換されたメラミン樹脂及び尿素樹脂の中から選ばれた少なくとも１種の架橋剤を含有してなるネガ型レジスト組成物とする。 - 特許庁

After a resin composition containing a resin and a crosslinking aid for the resin is molded and the required surface of the resin molded product is treated, a metal layer is formed at least to a part of the surface of the resin molded product and the resin is crosslinked by the irradiation with radiation to obtain a crosslinked resin molded product which is, in turn, heat-treated and annealed to manufacture the metal/resin complex.例文帳に追加

樹脂と該樹脂の架橋助剤を含む樹脂組成物を成形し、該樹脂成型品の所要の表面を表面処理した後、表面の少なくとも一部に金属層を形成し、ついで、放射線照射により前記樹脂を架橋させて架橋樹脂成型品とし、その後、加熱処理してアニールして金属樹脂複合体を製造している。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer and (C) an oligoalkyleneglycol dialkylether compound expressed by a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表されるオリゴアルキレングリコールジアルキルエーテル化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

There are provided a UV irradiation unit which has a UV lamp 2 and a filter 4 for removing the visible light of the wavelength 380 to 2,000 nm and the IR light component and irradiates the top of a cylindrical base body (photoreceptor drum) 5 with the light transmitted through the filter 4 out of the radiation light from the UV lamp 2, and a filter cooling unit which cools the filter 4.例文帳に追加

ＵＶランプ２と、波長３８０ｎｍ〜２０００ｎｍの可視光及びＩＲ光成分を除去するフィルタ４とを有し、ＵＶランプ２からの放射光のうち、フィルタ４を透過した光を円筒基体（感光体ドラム）５上に照射する紫外線照射ユニットと、フィルタ４を冷却するフィルタ冷却ユニットを備える。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having at least one repeating unit having a group -SO_2-O-, further having at least one repeating unit having a fluorine atom and an acid-decomposable group, and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＳＯ_2−Ｏ−基を有する繰り返し単位を少なくとも１種有し、更にフッ素原子と酸分解性基とを有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The device 10 for ultraviolet ray irradiation comprises the light emitting diode 23 which irradiates an adhesive sheet S, having an ultraviolet curing type adhesive layer A stuck on a semiconductor wafer W, as a body to be irradiated with ultraviolet radiation, a temperature sensor 27 which detects the temperature of the light emitting diode 23, and a control means 28 of controlling a current value I of the light emitting diode 23.例文帳に追加

半導体ウエハＷに貼付された紫外線硬化型接着剤層Ａを有する接着シートＳを被照射体として紫外線を照射する発光ダイオード２３と、当該発光ダイオード２３の温度を検知する温度センサ２７と、前記発光ダイオード２３の電流値Ｉを制御する制御手段２８とを備えて紫外線照射装置１０が構成されている。 - 特許庁

The preparation is used for stimulating hematopoiesis, protecting hematopoietic cells from damage caused by radiation or chemotherapy, or potentiating the stimulatory action of one or a combination of cytokines on colony formation by hematopoietic progenitor cells, protecting a patient from a destructive effect of a chemotherapeutic agent or irradiation, or potentiating the effect of a chemotherapeutic agent.例文帳に追加

造血を刺激する；放射線または化学療法によって引き起こされた損傷から造血細胞を保護する；または造血先祖細胞によるコロニー形成における１種もしくは組合せのサイトカインの刺激作用を増強する；化学療法剤または放射線照射の破壊効果から患者を保護する；または化学療法剤の効果を増強するためのそれらの使用。 - 特許庁

In this phase change recording medium for using thermal action (quenching and slow cooling) by light irradiation to perform transfer between a crystal condition and an amorphous condition, a layer (corrosion resistance protective layer) 8 inactive to oxygen, sulfur or halogen is disposed closely contactly between the reflection heat radiation layer 6 made of Ag or an Ag alloy and a protective layer 7 made of a high polymer resin (1).例文帳に追加

（１）光の照射による熱的な作用（急冷・徐冷）を利用して、結晶状態と非結晶状態の転移を行う相変化記録媒体において、Ａｇ又はＡｇ合金からなる反射放熱層６と高分子樹脂からなる保護層７との間に、酸素、硫黄又はハロゲンに対して不活性な層（耐食性保護層）８を密着して配置した相変化記録媒体。 - 特許庁

To provide an ink composition that is cured with high sensitivity by irradiation with an active radiation, can form an image of high image qualities, hardly causes corrosion of an inkjet head or peripheral components when used and exhibits excellent jetting stability from an inkjet head and excellent adhesion to a recording medium and good preservation stability, and an inkjet recording method using the ink composition.例文帳に追加

活性放射線の照射により高感度で硬化し、高画質の画像を形成することができ、且つ該インク組成物を使用したときのインクジェットヘッドや周辺機器の腐蝕が少なく、インクジェットヘッドからの吐出安定性が優れ、被記録媒体上への密着性が優れ、且つ、保存安定性の良好なインク組成物、及び、該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which contains a specified repeating unit, which is insoluble or hardly soluble with an alkali developing solution and changed into soluble with an alkali developing solution by the effect of an acid; and a compound which generates sulfonic acid by irradiation of active rays or radiation by 5 to 20 mass% with respect to the whole solid content of the positive resist composition.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液には不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物を、ポジ型レジスト組成物の全固形分を基準として、５〜２０質量％含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁