「radiation irradiation」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

The resist composition contains (a) a resin which is decomposed by the action of an acid and ΔSP represented by the following equation (1) is equal or more than 2.5(MPa)^1/2; (b) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; and (c) a solvent.例文帳に追加

上記レジスト組成物は、（ａ）酸の作用により分解する樹脂であって、下記式（１）により表されるΔＳＰが２．５（ＭＰａ）^１／２以上である樹脂と、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（ｃ）溶剤とを含有している。 - 特許庁

As the photo-reactive onium group cation and the sulfonate group anion form crosslinking structures and turn into hydrophobic groups upon irradiation with actinic radiation, the cured coated film has none or few of hydrophilic groups, which gives excellent coated films.例文帳に追加

そして、光反応性オニウム基カチオンとスルホネート基アニオンは活性エネルギー線照射により架橋構造形成と同時に疎水性基に変換するために、得られた硬化塗膜には親水性基がないか、又は少なく、又架橋構造を形成するために、優れた塗膜を形成することができる。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a specified compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin having a specified repeating unit and solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This positive resist composition contains (A) a resin having at least a repeating unit represented by formula (A1) and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）少なくとも下記一般式（Ａ１）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a repeating unit having an adamantane structure in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖にアダマンタン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a particle dispersion exhibiting excellent particle dispersibility, an ink composition that is excellent in dispersibility and dispersion stability of fine pigments, can form an image of high image quality having clear color tones and high coloring power and is curable by irradiation with an active radiation, and the like.例文帳に追加

粒子の分散性に優れた粒子分散物、微細な顔料の分散性及びその安定性に優れ、鮮明な色調と高い着色力を有する高画質の画像を形成することができ、活性放射線の照射により硬化しうるインク組成物等の提供。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a specified group having -NH- and a fluorine atom and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子及び−ＮＨ−を有する特定の基を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a specified repeating unit having a fluorine atom and a polycyclic structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し多環構造をもつ特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The medical material is obtained by immersing the base material in the aqueous solution which contains a cationic water-soluble polymer and a chemical compound, having destabilizing energy accompanying a radical production of 99.5 kcal/mol or less, at a concentration of 0.0008 mol/L or more and 0.008 mol/L or less and by performing radiation irradiation.例文帳に追加

基材をカチオン性水溶性ポリマーおよびラジカル生成に伴う不安定化エネルギーが９９．５ｋｃａｌ／ｍｏｌ以下の化合物を０．０００８ｍｏｌ／Ｌ以上、０．００８ｍｏｌ／Ｌ以下の濃度で含有する水溶液に、基材を浸漬して、放射線照射することで得られる医療用材料。 - 特許庁

The facility comprises a vacuum chamber 110, a rigid-walled inlet tube 112, an impregnation chamber 120, rigid-walled transfer tube 119 between the vacuum chamber and the impregnation chamber, a sizing die 129, and an irradiation tube 131 provided downstream of the sizing die to emit a radiation (UV) in the ultraviolet-visible spectrum to at least prepolymerise the resin.例文帳に追加

真空チャンバ110と、剛体壁の入口管112と、含浸チャンバ120と、真空チャンバと含浸チャンバとの間の剛体壁の移送管119と、サイジングダイ129と、サイジングダイの下流に設けた樹脂を少なくとも予備重合するための可視紫外線スペクトルの放射線（ＵＶ）を出す電離管131とを有する設備。 - 特許庁

To provide an aromatic polyester crosslinked film, which is obtained by irradiation with ionizing radiation, having mechanical characteristics and heat resistance maintained at high levels by making the film have a high degree of crosslinking and simultaneously suppressing the lowering of the strength and elongation.例文帳に追加

電離放射線の照射によって得られる芳香族ポリエステルの架橋フィルムにおいて、高度な架橋度を有すると同時に強度および伸度の低下を抑制することによって力学特性や耐熱性等が高く保持された芳香族ポリエステル架橋フィルムを提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has at least one structural unit of a specified structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkali developer, (B) a compound which produces an acid by irradiation of active rays or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a scintillator plate which is improved in a light emitting brightness by improving a luminescent efficiency of light emission with irradiation of a radiation, while using CsI, that is a substance excellent as a scintillator material, as a base, and further is improved in moisture resistance without installing a moisture-proof barrier or the like.例文帳に追加

シンチレータ材料として優れた物質であるＣｓＩをベースとしながら、放射線照射による発光の発光効率を向上させることで発光輝度を向上し、さらに、防湿バリア等を設置しなくとも耐湿性を向上したシンチレータプレートを提供することである。 - 特許庁

A neck 1 and a stem 2 are heated, softened and welded by the infrared radiation being irradiated from an irradiation means 5 on the part to be welded of the neck 1 and the stem 2 supported on the same shaft line with a neck retaining jig 3 and a stem retaining jig 4, while being relatively rotated by a rotating means 8.例文帳に追加

ネック保持治具３とステム保持治具４で同一軸線上に保持されたネック１及びステム２の熔着箇所に赤外線照射手段５から赤外線を照射させて回動手段８で相対的に回動させながらネック１とステム２を加熱軟化させて熔着する。 - 特許庁

To provide a printed matter, an ink and an inkjet recording method, in which an ink film sufficiently follows up to a base material without impairing the volume of the printed matter even when the ink curing through radiation irradiation and/or under heat is applied by an inkjet recording method to any thin film base material.例文帳に追加

放射線照射及びまたは熱により硬化するインクをインクジェット記録方法によりあらゆる薄膜の基材に印字した場合にも、印刷物の質感を損なうことなく基材に十分インク膜が追従する印刷物、インク、インクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

Since irradiation of high stimulation ultraviolet rays is stopped, and an ultraviolet dose to plants is replenished by low stimulation ultraviolet rays, in a low solar radiation condition when the resistance of plants to ultraviolet rays becomes low, it is possible to prevent plant leaf scorch through the year, and decrease the occurrence of plant disease damage.例文帳に追加

植物の紫外線に対する耐性が低下する低日射時に、高刺激用紫外線の照射を停止させ植物への紫外線照射量を低刺激用紫外線により補うことができるので、年中を通じて植物の葉焼けを防ぎ、かつ、植物病害の発生を低減できる。 - 特許庁

A diamond wafer 13 is characterized in that a recess 17 formed by the irradiation of a gas cluster ion beam and having a bottom 17c with a surface roughness Rms of 0.1 to 10 nm is formed at a position where a absorber 16 for absorbing radiation light, etc., is arranged on the surface of a permeable membrane 12 facing a material to be transferred.例文帳に追加

ダイヤモンドウェハ１３は、透過膜１２の被転写体側の面であって照射光等の吸収体１６を配設する部位にガスクラスターイオンビームの照射によって表面粗さがＲｍｓ＝０．１〜１０ｎｍの底面１７ｃを有する凹部１７が設けられたことを特徴とする。 - 特許庁

The original plate is characterized in that it has a surface layer having hydrophilic graft chains directly bonded to the surface of a supporting body and an image forming layer successively layered on the supporting body, and reactive groups which can be bonded to each other by heat or irradiation of radiation are incorporated into the surface layer and the image forming layer.例文帳に追加

支持体上に、支持体表面と直接結合した親水性グラフト鎖が存在する表面層と、画像形成層とを順に有し、該表面層および画像形成層に、熱または輻射線の照射によりお互いが結合しうる反応基を含有させることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for efficiently producing a phnoxazine-based compound which sensitizes radiations in a wide range to develop a color and thereby makes it possible to visually confirm the irradiation of the radiations, to provide a new phenoxazine-based compound produced by the method, to provide a useful color former, and to provide a radiation-detecting label.例文帳に追加

広い幅で放射線に感応して発色し、放射線照射を目視で確認することが可能なフェノキサジン系化合物を効率良く製造する方法、この方法により製造される新規なフェノキサジン系化合物、有用なカラーフォーマー及び放射線検出ラベルを提供する。 - 特許庁

To compress efficiently and effectively a digital image obtained by an electronic image sensor having a fast pixel value generated from a fast photosite with a predetermined response to radiation and s low pixel value generated from a slow photosite with a slow response to the same irradiation.例文帳に追加

ある照射に対して所定の応答を備えた高速フォトサイトから生成された高速ピクセル値と、同じ照射に対して低速の応答を備えた低速フォトサイトから生成された低速ピクセル値を有する電子イメージセンサから得られるデジタル画像を効率的かつ効果的に圧縮する。 - 特許庁

The positive resist composition (A) comprises a resin having a repeating unit in which a sulfonium salt structure capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation is linked to a principal chain by a linking group which degrades under the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生するスルホニウム塩構造が、酸の作用により分解する連結基によって主鎖に連結されている繰り返し単位を有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit which has three or more flip-flop circuits holding the same data and a majority logic circuit, and in which a soft error hardly occurs even when a plurality of adjacent flip-flop circuits are simultaneously influenced by irradiation with radiation etc.例文帳に追加

同一のデータを保持する３個以上のフリップフロップ回路と多数決論理回路を備えた半導体集積回路において、放射線の照射等により隣接する複数のフリップフロップ回路が同時に影響を受けてもソフトエラーの発生しにくい半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

The waveguide 8 includes a first fixed waveguide 73 fixed to the support bodies 14 and 81, a second fixed waveguide 85 fixed to the treatment radiation irradiation device 16, and flexible waveguides 86 and 87 interposed between the first fixed waveguide 73 and the second fixed waveguide 85.例文帳に追加

導波管８は、支持体１４、８１に固定される第１固定導波管７３と、治療用放射線照射装置１６に固定される第２固定導波管８５と、第１固定導波管７３と第２固定導波管８５との間に介設されるフレキシブル導波管８６、８７とを備えている。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a specific acid generating agent generating an acid by the irradiation with active ray or radiation and (B) a resin having a single cyclic or polycyclic aliycyclic hydrocarbon structure, decomposed by the action of the acid and having solubility increased in an alkali developer.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which contains a specified repeating unit having hydroxyadamantyl groups and increases the dissolving rate with an alkali developer by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）ヒドロキシアダマンチル基を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified acid decomposable group and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の酸分解性基を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a specified resin which has aliphatic cyclic hydrocarbon groups and increases the dissolving rate with respect to an alkali developer by the effect of an acid and (B) a specified compound which produces an acid by irradiation with active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する特定の樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a fluorine-containing specified repeating unit and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有する特例の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The reactive hot-melt adhesive composition comprises a bisphenol-derived epoxy resin having a softening point of 50 to 180°C as measured by the ring and ball measurement method, an epoxy compound, and a cation polymerization initiator for polymerizing and curing a cationically polymerizable compound by irradiation with an actinic radiation.例文帳に追加

環球式測定法による軟化点が５０〜１８０℃であるビスフェノール型エポキシ樹脂と、エポキシ化合物と、活性エネルギー線の照射によりカチオン重合性化合物を重合し硬化させるためのカチオン重合開始剤とを含む反応性ホットメルト接着剤組成物。 - 特許庁

The resist composition contains a polymer having at least one kind of repeating unit derived from an acrylic ester derivative or the like and having an acid dissociable group which increases the solubility with respect to alkali developer, and an acid generator capable of generating an acid upon irradiation with light or radiation.例文帳に追加

レジスト組成物は、アクリル酸エステル誘導体等に由来する繰り返し単位を少なくとも１種類有し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸解離性基を有する重合体と、光又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤を含有している。 - 特許庁

The negative resist composition is characterized in that it contains (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or active radiation, (B) an alkali-soluble resin, (C) a crosslinking agent which crosslinks by an acid, and (D) a fluoro-aliphatic group-containing polymer having a specified repeating unit.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は活性放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）酸により架橋する架橋剤及び（Ｄ）特定の繰り返し単位を含有するフルオロ脂肪族基含有重合体を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

By scanning an electronic beam from the electron irradiation equipment 34 into radiated nozzles 35 in an alternate current magnetic field along conveying direction of a PET bottle 31, and segmenting it into radiation nozzles inner faces of a number of PET bottles 31 are sterilized by a single equipment 34 and the equipment can be miniaturized.例文帳に追加

電子線照射装置３４からの電子線を交流磁場でペットボトル３１の搬送方向に沿って走査し放射状ノズル３５で細分化することにより、一つの電子線照射装置３４で多数のペットボトル３１の内面の殺菌を行うことができ、装置全体を小型化できる。 - 特許庁

To provide a radiation-curable pressure-sensitive adhesive composition that permits ready peeling from an adherend with a lower irradiation amount and minimizes the transferred contamination amount to the adherend after peeling and to provide a pressure-sensitive adhesive sheet using the same.例文帳に追加

より少ない放射線照射量で被着体からの剥離を容易に行うことができ、かつ被着体への剥離転写汚染量を最小限に抑えることができる放射線硬化型粘着剤組成物及びそれを用いた粘着シートを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid crystal-aligning agent used for the formation of a liquid crystal-aligning membrane, imparting a liquid crystal-aligning capacity by irradiating polarized or non-polarized light irradiation without performing a rubbing treatment and also requiring less irradiating amount of the radiation for imparting a pre-tilt angle.例文帳に追加

ラビング処理を行わずに、偏光または非偏光の放射線照射によって液晶配向能を付与することが可能であり、しかもプレチルト角を付与するのに必要な放射線照射量が少ない液晶配向膜の形成に用いられる液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has a repeating unit having a side chain of a sulfonate structure and which increases the solubility with an alkali developer by the effect of an acid, and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active light rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）スルホネート構造の側鎖をもった特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an oxide glass emitting long afterglow and stimulable luminescence, capable of being excited with radiation such as α-rays, X-rays or UV light to store energy, continuously emitting the light for a long period also after the excitation is stopped, and further emitting stimulable luminescence by the irradiation of visible light and IR light.例文帳に追加

γ線、Ｘ線、紫外線等の放射線励起によりエネルギーを蓄え、励起をやめた後も長時間発光が続き、さらに、可視光線や赤外線照射により輝尽発光を呈する、長残光および輝尽発光を呈する酸化物ガラスを提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a norbornene-based repeating unit having a specified norbornane structure in the side chain and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に特定のノルボルナン構造をもったノルボルネン系繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an ink composition which is cured with high sensitivity by the irradiation with active radiation, can form images of high image quality, the images obtained by curing the ink having flexibility and high adhesion to a medium to be recorded, and an inkjet recording method using the ink composition.例文帳に追加

活性放射線の照射に対して高感度で硬化し、高画質の画像を形成することができ、インクが硬化して得られる画像が柔軟性および被記録媒体との高い密着性を有するインク組成物及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供すること。 - 特許庁

In the toner amount measuring device having a light irradiation means to radiate measuring light to a toner image adhering to an image carrier and a photodetector means to receive reflected light of the measuring light, the radiation angle of the measuring light is set to a Brewster's angle to the image carrier.例文帳に追加

像担持体上に付着したトナー像へ測定光を照射する光照射手段と、その反射光を受光する受光手段とを有するトナー量測定装置において、測定光の照射角度が像担持体に対するブリュースター角に設定されていることを特徴とする。 - 特許庁

A chemically amplified resist composition contains (A) a high molecular compound having a structure in which hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group is substituted for a group having a non-acid decomposable polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and (B) a compound generating acid by irradiation of an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound of a specified structure which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a stable chemically amplifying photoresist composition which does not change its alkali solubility before irradiation with radiation, to provide a photoresist laminate produced by laminating the above photoresist composition on a supporting body, to provide a method for manufacturing a photoresist pattern by the above body, and to provide a method for manufacturing a connecting terminal.例文帳に追加

放射線照射前にアルカリ溶解性が変化することのない安定な化学増幅型ホトレジスト組成物、該ホトレジスト組成物を支持体に積層させたホトレジスト層積層体、及びこれを用いたホトレジストパターンの製造方法、及び接続端子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit, specified molecular weight and a protection rate and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、特定の分子量・保護率を持つ、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The chemically amplified resist composition contains: (A) a resin which has a specified structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase its solubility with an alkaline developing solution; (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) a component having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する成分、を含有する化学増幅型レジスト組成物により達成される。 - 特許庁