「radiation-ray」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

In the modified substrate after radiation sterilization, the number of adhered human platelets is equal to or less than 20 platelets/(4.3×10^3 μm^2), and/or the relative adsorption ratio of fibrinogen is equal to or less than 90% after the modified substrate is irradiated with γ-ray at a dose of 25 to 35 kGy under a condition that the material is immersed in water.例文帳に追加

改質基材は、放射線滅菌後の改質基材において、水中に浸漬させて２５ｋＧｙから３５ｋＧｙのγ線線量を照射した後のヒト血小板付着数が２０個／（４．３×１０^３μｍ^２）以下および／またはフィブリノーゲンの相対吸着率が９０％以下である。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which is excellent in roughness performance such as line width roughness, local pattern dimension uniformity, and exposure latitude and capable of suppressing reduction in film thickness (so-called film reduction) at a pattern portion formed by development, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

An ultraviolet ray radiation part for carrying out the sterilization of raw water and concentrated circulating water is provided in a raw water flow-in passage and a concentrated circulating water passage of eth membrane filtration device using the internal pressure type cross flow filtration membrane or external pressure suction type dipping filtration membrane for filtering the raw water using the filtration membrane.例文帳に追加

ろ過膜を使用して原水のろ過処理を行う内圧式クロスフローろ過膜又は外圧吸引式浸漬型ろ過膜を使用した膜ろ過装置の原水流入経路及び濃縮循環水循環経路に、原水及び濃縮循環水の殺菌処理を行う紫外線照射部を設ける。 - 特許庁

This discharge tube is provided with electrode assemblies 10 having lead-in wires 1 and electrodes 3, a glass tube 7 for fixing the electrode assemblies 10 to both ends, and filling discharge gas inside, and a fluorescent screen 9 covered with an inside surface 7a of the glass tube 7, and emitting visible radiation by receiving irradiation of an ultraviolet ray generated by discharge between the electrodes 3.例文帳に追加

導入線(1)及び電極(3)を備えた電極組立体(10)と、電極組立体(10)が両端に固定され且つ内部に放電用ガスが充填されたガラス管(7)と、ガラス管(7)の内面(7a)に被覆され且つ電極(3)間の放電により発生する紫外線の照射を受けて可視光線を放出する蛍光膜(9)とを備える。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a pattern form, line edge roughness, resist temporal stability, and dry etching resistance, especially in lithography using electron beam, X-ray, or EUV light as a source of exposure light; and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。 - 特許庁

Thus, two or more different discharge media are excited within the discharge vessel in a manner uninfluenced by one another, and specific radiation ray of each of the two or more discharge media can be thereby produced with only a single dielectric barrier discharge lamp, consequently at the same time, and virtually at the same location.例文帳に追加

これにより、２種類またはそれ以上の放電媒体を放電容器内で互いに影響せずに励起し、これにより２種類またはそれ以上の放電媒体のそれぞれ特有の照射線を唯１つの誘電体バリア放電ランプで、従って同時にかつ実質的に同じ個所で発生させることを可能にする。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity while maintaining storage stability in a level suitable for practical use, and in particular, to provide a positive resist composition for electron beams, X-rays or EUV light, and a resist film formed of the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has high sensitivity, high dissolving contrast, sufficient pattern profile, and sufficient line edge roughness performance, reduces a standing wave, and does not generate a development defect, and also to provide a film formed using the composition and a pattern forming method using the film.例文帳に追加

高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics and stability with time, and can form a pattern in a favorable shape, and suppresses PEB (post exposure bake) temperature dependence, and to provide a resist film formed by using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成することができ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The pressing plate 34 has a rectangular bottom plate 46 (a pressing part) for pressing a mamma of the subject, four side walls 52a-52d standing toward the side of a radiation-ray-source container from the outer peripheral part of the bottom plate 46, and a connector 56 mounted on a proximal end 54 extending from the side wall 52a to a groove part 44.例文帳に追加

圧迫板３４は被検体のマンモを圧迫する矩形状の底板４６（圧迫部）と、該底板４６の外周部から放射線源収容部容器側に向かって立設する４つの側壁５２ａ〜５２ｄと、側壁５２ａから溝部４４側に延在する基端部５４に設けられたコネクタ５６を有する。 - 特許庁

To provide a plate material which has the high degree of freedom of design for a far infrared ray effect and a radiation hormesis effect, has little limitation of the size of a board to be produced and is not easily broken compared to a ceramic plate, and to provide its production method and a bedrock bath system using such a plate material.例文帳に追加

遠赤外線効果および放射線ホルミシス効果についての設計の自由度が大きく、製造する盤の大きさの制限が少なく、セラミック板に比して割れにくい板材およびその製造方法を提供すること、さらに、そのような板材を用いた岩盤浴システムを提供すること。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates a specified aromatic sulfonic acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has repeating units containing a specified group and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の芳香族スルホン酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の基を含有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

Thus, two incident angles different from each other by 90 degrees of monochro X-rays from the monochrometer for exciting the monochro radiation source are made to a sample, whereby the monochro X-ray to the sample can be easily switched between the ordinary incident direction and the Cartesian arrangement turned in a 90-degree arc from the incident direction.例文帳に追加

これによって、モノクロ線源励起用モノクロメータからのモノクロＸ線の試料に対して９０度異なる２つの入射角度とすることができ、試料に対してモノクロＸ線を通常の入射方向と、該入射方向から９０度回転させたカルテシアン配置との切替えを容易に行うことができる。 - 特許庁

A first detector group 1 and a second detector group 2, arranged opposite to each other for detecting a γ-ray pair by an electron-positron pair annihilation are composed of two two-dimensional radiation detectors 101, 102 and 201, 202 respectively and are set so that each gap of scintillator arrays 11 and 21 becomes a prescribed arrangement interval L2.例文帳に追加

電子・陽電子対消滅によるγ線対を検出する対向配置された第１検出器群１、第２検出器群２をそれぞれ２つの２次元放射線検出器１０_1及び１０_2、２０_1及び２０_2によって構成し、シンチレータアレイ１１、２１同士の間が所定の配列間隔Ｌ２となるように配列する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a repeating unit having a fluorine atom in the principal chain and a group having -NH- in a side chain and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）主鎖にフッ素原子、側鎖に−ＮＨ−を有する基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition comprises (A) an alkali-soluble polymer having a specified repeating unit, (B) a crosslinking agent which crosslinks with the alkali-soluble polymer (A) by the action of an acid, (C) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (D) a specified quaternary ammonium salt.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）酸の作用により（Ａ）のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｄ）特定の４級アンモニウム塩、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition has (A) a recurring unit derived from specific vinyl ether and a recurring unit derived from specific acrylamide, a resin which is increased in solubility in an alkaline developing solution by the effect of an acid and (B) a compound which generates the acid by irradiation of the resin with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定のビニルエーテルに由来する繰り返し単位と特定のアクリルアミドに由来する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A set area 25 is determined on the basis of the past radiographing data of the subject, and corresponded to an actually radiographed scanogram 27, whereby a concerned area 31 as an actual radiographing area is determined, and the radiation ray passing through the external of the actual concerned area 31 is limited by a limiting means in radiographing.例文帳に追加

被検体の過去に撮影された撮影データを基に設定領域２５を決定し、これを実際に撮影されたスキャノグラム２７と対応させ、実際の撮影範囲をである関心領域３１を決定し、撮影時に実際の関心領域３１の外部を通過する放射線を制限手段で制限する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution and a compound which generates an aliphatic or aromatic carboxylic acid substituted by at least one fluorine atom when irradiated with active light or radiation ray.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition comprises an alkali-soluble polymer, a crosslinker which crosslinks with the alkali-soluble polymer under the action of an acid and an onium salt compound which comprises a cationic moiety having at least one phenolic hydroxy group and a specified anionic moiety and generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

アルカリ可溶性ポリマー、酸の作用によりアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、フェノール性ヒドロキシ基を少なくともひとつ有するカチオン部と特定のアニオン部とを有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生するオニウム塩化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having a specified repeating unit having a ring hydrocarbon structure and a fluorine atom in a side chain and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に環状炭化水素構造とフッ素原子とを有する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: resin (A) capable of increasing the solubility with an alkali developing solution by an action of an acid; and resin (C) having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing repeating unit (c) having at least two polarity conversion groups.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、及び、少なくとも２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位（ｃ）を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（Ｃ）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (A) which has at least two polar conversion groups, includes a repeating unit (a) having at least either a fluorine atom or a silicon atom, and exhibits increased solubility in an alkali developer by the action of an acid.例文帳に追加

極性変換基を少なくとも２つ以上有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する繰り返し単位（ａ）を含有し、かつ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having high developability, exposure latitude and line edge roughness performance to solve a problem of an essential performance improvement technology of microphotofabrication using far-ultraviolet light, EUV, an electron beam, or the like, especially ArF excimer laser light.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決すべく、現像性に優れ、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and a specified fluorine-containing compound having no carboxyl group.例文帳に追加

特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、特定のフッ素原子を含有し、カルボキシル基を有しない化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal material photopolymerizes a composite material including a mother liquid crystal 3 being a nematic liquid crystal, a photopolymerization monomer aligning the mother liquid crystal 3 at random, a photopolymerization initiator accelerating photopolymerization, and a dichroism pigment 4 reinforcing scattering and absorption in specific wavelength with ultraviolet ray radiation.例文帳に追加

ネマチック液晶である母液晶３と、前記母液晶３をランダムに配向させる光重合性モノマと、光重合を加速させる光重合開始剤と、特定波長における散乱及び吸収を増強する二色性色素４とからなる複合材料を紫外線照射によって光重合させた。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a specified repeating unit derived from a vinyl ether having a fluorine atom or a fluoroalkyl group in the α-position and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）α位にフッ素原子又はフルオロアルキル基を有するビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The surface temperature of the stored milk is measured by using a radiation temperature detecting sensor that is set at the position higher than the highest liquid phase of the stored milk with the infrared ray energy from the milk surface in the non-contact method, or can be measured by detecting the temperature of a bar or plate dipped in the storage tank.例文帳に追加

貯蔵ミルクの表面温度の測定は、貯蔵ミルクの最大液面位より上方に位置させた放射温度検出センサを使用して、貯蔵ミルクの表面から放出される赤外線エネルギ量を非接触で計測する、或いは貯蔵タンクの中に差し込んだ棒状、又は板状の温度計により行うことができる。 - 特許庁

The phosphor having a main light emission component corresponding to, for instance, one emitted light color within a visible ray region and a sub-light emission component having the emitted light color different from that of the main light emission component and also having different light emission rate to the radiation of the same intensity from that of the main light emission component is used for the phosphor layer.例文帳に追加

蛍光体層には、例えば可視光領域内の1つの発光色に対応する主発光成分と、主発光成分と異なる発光色を有すると共に、同一強度の放射線に対する発光割合が主発光成分とは異なる少なくとも1つの副発光成分とを有する蛍光体が用いられる。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a resin having a repeat unit represented by general formula (I) and a repeat unit represented by general formula (II), and (B) a compound which generates an acid by irradiating with an active ray or radiation, and the pattern forming method using the positive photosensitive composition is also provided.例文帳に追加

（Ａ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位と一般式(II)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、並びに該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition is characterized in that it contains (a) a polymer which has a silicon atom in a side chain, is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a specified sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（ａ）側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリ水溶液に不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるポリマー、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定のスルホニウム塩化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The phosphor for the light emitting device is a blue phosphor which essentially comprises a Ce- and Na-activated thiogallate phosphor substantially represented by the formula: BaGa_2S_4:Ce, Na and emits a blue light when excited by an ultraviolet radiation (particularly a near-ultraviolet ray at a wavelength of 370-410 nm).例文帳に追加

本発明の発光装置用蛍光体は、化学式：ＢａＧａ_２Ｓ_４：Ｃｅ，Ｎａで実質的に表されるＣｅおよびＮａで付活されたチオガレート蛍光体を主体とし、紫外線（特に波長３７０〜４１０ｎｍの近紫外線）の放射により励起されて青色光を発光する青色蛍光体である。 - 特許庁

To provide an X-ray CT device and a method of controlling the device, with which the amount of additional radiation exposure can be minimized by devising a method of obtaining line data, and with which reconstruction is prevented from incorporating erroneous data by establishing a method for imposing restriction on a line data collecting condition and a method for managing data.例文帳に追加

ラインデータの取り方等を工夫して追加被曝を最小限に抑え、且つ、ラインデータの収集条件への制限の与え方、及びデータの管理方法を確立することにより、誤ったデータによる再構成を行うことのないＸ線ＣＴ装置及びその制御方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a stereo fluoroscopic device having superior versatility and handleability, capable of observing internal structure or detecting internal defects, or the like, regardless of the dimensions or the shape of a specimen by using a radiation transmissible through the specimen such as an X-ray, and of miniaturizing the device, using a simple structure that makes the specimen rotate.例文帳に追加

Ｘ線等の被検体を透過する放射線を用いることにより被検体の寸法や形状によらず内部構造の観察や内部欠陥等を検出することができ、被検体を回転させる簡素な構造で装置を小型化することができる汎用性、取扱い性に優れるステレオ透視装置の提供。 - 特許庁

The positive resist composition contains a compound of a specific structure containing a group which produces an alkali-soluble group by the action of an acid in an amount of ≥50 mass% based on the solid content of the resist composition, and also contains a compound which generates an acid by the action of an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性基を生じる基を含有する特定構造の化合物をレジスト組成物の固形分中、５０質量％以上含有するとともに、活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The control section 160 controls a high frequency supply means 40 based on the output from the infrared ray detection means when heating only the first material to be heated 11a, and controls a radiation heat supply means 20 based on the output from the temperature detection means when heating only the second material to be heated 11b.例文帳に追加

制御部１６０は、第１の被加熱物１１ａのみを加熱する場合は赤外線検出手段からの出力に基づき高周波供給手段４０を制御し、第２の被加熱物１１ｂのみを加熱する場合は温度検出手段からの出力に基づき輻射熱供給手段２０を制御する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（１）（Ａ）イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a servo motor with reduction gear, in which major components are all formed of high radiation resisting material which is resistive to the exposure does of 100 MGy(Mega-Gray) or higher under the γ-ray exposure dose rate of 10 KG y/h(Killo-Gray/h) and enables application under the temperature of 100°C or higher and under irradiation of neutrons.例文帳に追加

主要部品のすべてを高耐放射線性材料で構成した減速機付きサーボモータに関するもので、１０ＫＧｙ／ｈ（キログレイ毎時）のガンマ線量率下で１００ＭＧｙ（メガグレイ）以上の照射線量に耐えると共に、１００℃以上の高温下をはじめ、中性子照射下でも使用可能なものである。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin of which the solubility in an alkali developer increases under the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (C) a resin having a specific structure and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) a crosslinked resin having a specified crosslinked repeating unit as at least one of repeating units and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）繰り返し単位の少なくとも１種として、特定の架橋繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する架橋樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble and becomes alkali- soluble under the action of an acid and (D) a chain compound having three or more hydroxyl groups or substituted hydroxyl groups.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、（Ｄ）少なくとも３つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有する鎖状化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing an optical recording disk, capable of forming a good-surface light transmissive layer without involving air bubbles even when the light transmissive layer is formed by using a radiation curable resin such as the ultraviolet ray curable resin of high viscocity and spin-coating.例文帳に追加

粘度が高い紫外線硬化性樹脂などの放射線硬化性樹脂を用いて、スピンコーティングにより、光透過層を形成する場合にも、気泡の混入がなく、表面性に優れた光透過層を、所望のように、形成することができる光記録ディスクの製造方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an interior material (1) capable of preventing a temperature in an interior from rising by preventing heat ray due to heat transfer and heat radiation from a body skin heated by sunlight from entering into the interior and (2) providing the other functions such as sound absorbing and shielding functions and ventilation stopping function without obstructing the effect of (1) above.例文帳に追加

（１）太陽光線により加熱された車体外板からの熱伝達、輻射熱による熱線侵入を防いで車室内の温度上昇を防ぐことのできる内装材、および、（２）吸遮音機能や通気止め機能など他の機能を上記（１）の効果を妨げることなく付与された内装材を提供することである。 - 特許庁