「reaction formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To produce a dialkanolamine selectively, efficiently and at a low cost by preventing a temperature increase in a reactor even in an adiabatic one-stage reaction of an alkylene oxide with ammonia while restraining the formation of triethanolamine.例文帳に追加

アルキレンオキシドとアンモニアとの反応によって断熱１段反応でも反応器内の温度上昇を抑え、かつ、トリエタノールアミンの副生を抑えながらジアルカノールアミンを選択的に、効率よく、安価に製造する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a PZT film made mainly of Pb, Zr and Ti that is unnecessarily deposited in a reaction chamber on a fixture and so on, in a film formation device or the like in a semiconductor field.例文帳に追加

半導体分野における成膜装置等において、反応室内、治具等に堆積した不要なPｂ、Ｚｒ、及びＴｉを主成分とするＰＺＴ膜をクリーニング除去する方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method capable of industrially advantageously producing an aromatic cyanocarboxamide with high selectivity at a high space-time yield by suppressing the formation of the by-product of the aromatic dicarboxamide in the hydration reaction of an aromatic dinitrile.例文帳に追加

芳香族ジニトリルの水和反応において、芳香族ジカルボン酸アミドの副生を抑制し、芳香族シアノカルボン酸アミドを高選択率で、且つ高空時収率で製造できる工業的に有利な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a crucible for drawing-up single crystal comprising a C/C material, restraining the generation of SiO gas and SiC formation by preventing the reaction with a quartz crucible, long in the period of durability, and excellent in durability, and its manufacturing method.例文帳に追加

石英ルツボとの反応を抑止してＳｉＯガスの発生およびＳｉＣ化を抑制し、耐用寿命が長く、耐久性に優れたＣ／Ｃ材からなる単結晶引き上げ用ルツボとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a supramolecular self-supported membrane by aromatic ring formation of a polyphenylacetylene membrane, which has a rapid reaction rate, and produces a supramolecular self-supported membrane constituted completely only by an aromatic ring product.例文帳に追加

反応速度が速く、完全に芳香環生成物のみからなる超分子自立膜を製造することのできる、ポリフェニルアセチレン膜の芳香環形成による超分子自立膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing device and a method of manufacturing a semiconductor device for inhibiting formation of a reaction by-product around a rotary shaft to suppress particle generation and to prevent a failure in rotary drive.例文帳に追加

回転軸周囲への反応副生成物形成を抑制し、パーティクル発生を抑えると共に回転駆動の異常を防止する半導体製造装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reaction solution, which improves the indistinctness of an outline and eliminates the development of a color bleeding and further makes the formation of an image excellent in scratch resistance and fixing properties possible, an inkset, an inkjet recording method and a recorded matter.例文帳に追加

輪郭部の不明瞭性の改善及びカラーブリードを生じることがなくなり更に耐擦過性及び定着性に優れた画像を形成することが可能となる反応液、インクセット、インクジェット記録方法、記録物を提供する。 - 特許庁

Hence, the flow of the hot oxidizing agent, that is the reaction flow, can enclose the flow of the metal reactant sufficiently for preventing the metal reactant from coming into contact with the wall of the above reactant contact region and from resultant formation of scale on the wall.例文帳に追加

それにより反応流の熱い酸化剤の流れは、金属反応物が反応物の接触領域の壁に接触して壁にスケールを形成することを妨げるのに十分に、金属反応物の流れを囲むことができる。 - 特許庁

Then formation of a reaction product with the crucible 3 by the local heating of the magnetic material 9 is suppressed and the generation of the splash is also suppressed and the magnetic layer having the uniform film thickness is stably formed on the medium side.例文帳に追加

このため、磁性材料が局部的に加熱されてルツボ３との反応生成物を生成するのを抑制でき、スプラッシュの発生を抑えることができ、均一な膜厚の磁性層を安定して媒体側へ形成することができる。 - 特許庁

To provide a new method for producing a 15-ketoprostaglandin E derivative, comprising such a hydrolyzing (deprotecting) reaction process using a phosphoric acid compound as to be extremely slight in the formation of byproduct prostaglandin A and industrializable under mild conditions.例文帳に追加

１５-ケトプロスタグランジンＥ誘導体の新規製造法であって、プロスタグランジンＡ類の副生が極めて少なく、穏和な条件で、工業化可能な、リン酸化合物を用いた加水分解（脱保護）反応工程を含む方法を提供する。 - 特許庁

In film formation, the first valve 251 and the second valve 252 are opened, the third valve 253 and the fourth valve 254 are closed, and a reaction by-product of the gas exhausted from the treatment chamber 201 by the vacuum pump 246 is trapped by the trap 250.例文帳に追加

成膜時には第一バルブ２５１と第二バルブ２５２を開き、第三バルブ２５３と第四バルブ２５４を閉じ、真空ポンプ２４６によって処理室２０１から排気されたガスの反応副生成物をトラップ２５０によってトラップする。 - 特許庁

Disclosed is a polysilicon film production method where a polysilicon film is formed on a substrate within a pressure-reduced reaction tube 3 by a vapor growth process, wherein the film formation is performed while feeding moisture by a moisture feeding means.例文帳に追加

減圧した反応管３内で気相成長法により基板上にポリシリコン膜を成膜するポリシリコン膜製造方法であって、水分供給手段によって水分を供給しつつ、上記成膜を行うことを特徴とする。 - 特許庁

A film forming zone 1 and an annealing zone 2 are adjacently set horizontally in the same reaction vessel 9 at intervals with a barrier 3, and a wafer 4 reciprocates between the film forming zone 1 and the annealing zone 2, by which film formation and annealing are alternately executed.例文帳に追加

成膜ゾーン１とアニールゾーン２を障壁３を隔てて同一の反応容器９内に水平に隣接して設置し、ウェーハ４は成膜ゾーン１とアニールゾーン２の間で往復移動することにより成膜とアニールを交互に行う。 - 特許庁

To provide a method of firing a formed body by which the degradation of a firing tool caused by the formation of a reaction product of the firing tool with zinc oxide does not occur in the firing of the formed body of raw material powder containing zinc oxide.例文帳に追加

酸化亜鉛を含有する原料粉末の成形体を焼成するに際し、焼成用治具と酸化亜鉛との反応物形成による焼成用治具の劣化が生じることのない成形体の焼成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for obtaining information on the formation of a double-stranded nucleic acid by detecting fluorescence, which is simple and is therefore applicable to various reaction systems, and can achieve high detection sensitivity with reduced background signals.例文帳に追加

蛍光を検出することによって二本鎖核酸の形成に係る情報を得る方法であって、簡便で様々な反応系に適用することができ、かつ、バックグラウンドシグナルを減少させた高検出感度の方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an organic oxide that achieves a good formation rate of the organic oxide particularly in the latter half of the reaction and a good yield in the production of the organic oxide and is simple and highly efficient.例文帳に追加

有機酸化物を製造するに際し、特に反応後半における有機酸化物の生成速度を良好なものとし、収率を良好なものとし、簡便でかつ高効率な有機酸化物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an amide compound which can produce the amide compound in a high yield by inhibiting the formation of by-products in the method for producing the amide compound by subjecting an oxime compound to the Beckmann rearrangement reaction.例文帳に追加

オキシム化合物をベックマン転位反応させることによりアミド化合物を製造する方法において、副生成物の生成を抑制して高収率でアミド化合物を製造できるアミド化合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since a tar-like substance is not formed in the raw material gas supply pipe and the raw material gas is blown over an intermediate temperature on the catalyst at a stroke, reaction probability increases and the formation yield of the carbon nanostructure increases.例文帳に追加

原料ガス供給管の中ではタール状物質は生成されず、中間温度を跳び越して原料ガスを一気に触媒体に吹き付けるから、反応確率が増大してカーボンナノ構造物の生成収率が増大する。 - 特許庁

To provide an AC type plasma display element capable of effectively restraining formation of hydrate and carbonate caused by reaction between a protective film and moisture and a carbon dioxide gas flowed from an atmosphere at a sealing and exhaust process.例文帳に追加

保護膜と封着及び排気工程で大気中から流入した水分及び二酸化炭素ガスとの反応による水和物とカーボネートの形成を効果的に抑制することができる交流型プラズマディスプレイ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a rubber composition for treads, which can improve the reaction efficiency of a silane coupling agent, when kneaded, can control the production of ethanol to prevent the formation of bubbles, and can improve the rolling resistance and abrasion resistance of the treads.例文帳に追加

混練り時のシランカップリング剤の反応効率を高め、エタノールの発生を抑制することで気泡の発生を抑制し、さらに、転がり抵抗特性および耐摩耗性をともに向上させることができるトレッド用ゴム組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which a high-quality silicon oxide film can be formed by intentionally controlling the quantity of specific species, such as the excitation oxygen molecules, excitation oxygen atoms, etc., in the course of remote plasma CVD film formation using a vapor phase chemical reaction.例文帳に追加

気相化学反応を用いるリモートプラズマＣＶＤ成膜において、励起酸素分子や励起酸素原子といった特定種の量を意図的に制御して、高品質の酸化シリコン膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly, it becomes possible to realize the high throughput plasma CVD apparatus, with which the formation of foreign matters during depositing the film is suppressed, and deposits formed on the inner wall or the like in the reaction chamber can be effectively removed, and thereby, the operation rate is increased.例文帳に追加

したがって、成膜時の異物発生が少なく、反応室の内壁面などに生ずる堆積物を効果的に除去して稼働率を高めることのできる高スループットのプラズマＣＶＤ装置を実現することができる。 - 特許庁

To obtain a fuel oil composition capable of sufficiently maintaining performances of additives, scarcely causing the formation of deposites insoluble in the fuel oil by reaction of the mutual additives, and excellent in preventing oxidative deterioration especially for a long period.例文帳に追加

添加剤の性能が十分に維持され、かつ添加剤同士の反応による燃料油に不溶な沈殿物の生成も生じにくく、特に長期間の酸化劣化防止機能に優れた燃料油組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a film-forming apparatus which forms a compact film consisting of particles that are mutually combined through a mechanochemical reaction with an AD method, by removing particles that have not contributed to the formation of the film, and has a simple structure.例文帳に追加

ＡＤ法において、成膜に寄与しなかった粒子を除去することにより、メカノケミカル反応によって粒子が互いに結合した緻密な膜を形成することができ、且つ、構成の簡単な成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a (meth)acrylic ester by transesterification reaction by which the precipitation of a solid is hardly caused even if the temperature is lowered, and the formation of byproducts is little.例文帳に追加

本発明は、エステル交換反応による（メタ）アクリル酸エステルの製造方法であって、温度が低下しても固体の析出がなく、また副生成物の生成が少ない（メタ）アクリル酸エステルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Generation of particles in the vicinity of the rotary electrode causing a trouble in forming an excellent thin film and formation of the thin film on the rotary electrode RE are suppressed by ejecting the purge gas which does not affect the chemical reaction.例文帳に追加

そこから前記化学反応に影響しないパージガスを噴出させることにより、良好な薄膜形成の障害となる回転電極近傍でのパーティクル発生や回転電極ＲＥ上への薄膜形成を抑止する。 - 特許庁

By executing film formation in such a manner that the value of the self-bias applied to the high-frequency feeding electrode at the time of the plasma reaction is controlled to the range of -350 to -450 V to the ground potential, a hard carbon thin film having good film quality can be obtd.例文帳に追加

プラズマ反応時において高周波給電電極に加わる自己バイアスの値を接地電位に対して、-350〜-450Ｖの範囲として成膜を行うことによって、良好な膜質を有する硬質炭素薄膜を得る。 - 特許庁

To provide a catalyst reclaimer for reclaiming used catalyst by an improved light olefin FCC (fluidized catalytic cracking) method and devices therefor and for obtaining required reaction heat from a reactor by treating light feed raw materials causing improper coke formation.例文帳に追加

不適切なコークス形成を生じる軽質供給原料を処理し、反応器で必要な反応熱を得る改良された軽質オレフィンＦＣＣ法及び装置で、使用済み触媒を再生するための触媒再生器を提供する。 - 特許庁

The reduction decomposition reaction of the lithium tetrafluoroborate is retarded by the vinylene carbonate derivative, the formation of a film on the surface of the carbon material is retarded, and thereby the cycle characteristic can be enhanced.例文帳に追加

係るリチウム二次電池によれば、炭酸ビニレン誘導体によって４フッ化ホウ酸リチウムの還元分解反応が抑制され、炭素材料表面での皮膜の生成が抑えられるので、サイクル特性を向上させることが可能になる。 - 特許庁

To provide a production method, in which an esterified material can efficiently be produced by preventing the formation of hydrolysis products in the treatment process after an esterification reaction using an acid catalyst.例文帳に追加

酸触媒を使用するエステル化物の製造方法におけるエステル化反応後の処理工程において、加水分解生成物の発生を抑制することにより、効率よく製造することのできるエステル化物の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for raising catalyst density to reduce vacant spaces between fine catalyst particles and to make bridge formation to minimum, and packing the fine catalyst particles into a reaction tube like a tubular flow improver.例文帳に追加

高い触媒密度を生じ、それによって触媒微粒子の空隙とブリッジ形成を最小限に抑える、管状流れ改質装置のような反応管に微粒子触媒材料を充填するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink for ink-jet recording and an ink container for ink-jet recording, both suppressed in formation of substances by a chemical reaction in the ink, and an ink-jet recording method which permits ink-jet recording stably for a long period of time.例文帳に追加

インク中での化学反応による物質の生成を抑えたインクジェット記録用インク、インクジェット記録用インク容器及び長期間安定したインクジェット記録を行うことができるインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for recovering particulate from light FCC (fluidized catalytic cracking) effluent by improved light olefin FCC method capable of obtaining reaction heat required for a reactor by treating light feed raw materials causing improper coke formation.例文帳に追加

不適切なコークス形成を生じる軽質供給原料を処理し、反応器で必要な反応熱を得る改良された軽質オレフィンＦＣＣ法で、軽質ＦＣＣ流出物から微粒物を回収する方法を提供する。 - 特許庁

In formation of the gate insulation film formed of high dielectric metal silicate, ALD deposition is carried out by using a time for saturating a film formation rate owing to a surface adsorption reaction for an exposure time of a precursor containing a metal and the like, and using a time for setting the composition of the metal oxide film 97% or more of a stoichiometric value for an exposure time of an oxidizer.例文帳に追加

高誘電体金属シリケートからなるゲート絶縁膜の形成において、金属等を含む前駆体の暴露時間には、表面吸着反応により成膜レートが飽和する時間を用い、酸化剤の暴露時間には、金属酸化膜の組成が化学量論値の９７％以上となる時間を用いてＡＬＤ堆積を行う。 - 特許庁

Regarding the method for forming a thin film, in a formation method of forming a tin oxide film on a substrate utilizing a chemical vapor deposition reaction, the substrate is heated during the formation, and simultaneously, the substrate is irradiated with ultraviolet rays having an ultraviolet irradiation intensity of 0.03 to 1 mW/cm^2.例文帳に追加

気相化学成長反応を利用して酸化錫膜を基体上に形成する形成方法において、形成中に基体を加熱すると同時に、紫外線の紫外線照射強度が０．０３ｍＷ／ｃｍ^２以上１ｍＷ／ｃｍ^２以下の紫外線を基体に照射することを特徴とする薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

The reaction gas passages 4c are formed on the surface of the porous separator 3c contacting an electrode 2c, and the water passages 7 are formed on the other surface 20s thereof by combining first groove passages 5 and second groove passages 6 in contact with a water passage formation plate 8 and formed on joining surfaces 20 of the porous separator 3c and the water passage formation plate 8, respectively.例文帳に追加

ポーラスセパレータ３ｃの電極２ｃに接触する面には反応ガス流路４ｃを形成し、他面２０ｓには水流路形成プレート８と接触し、ポーラスセパレータ３ｃと水流路形成プレート８の合わせ面２０にそれぞれ形成された第一溝路５と第二溝路６を組み合わせることにより、水流路７を形成する。 - 特許庁

By introducing a chelating functional group in polyelectrolyte material having the chemical structure in which electrolyte group has been introduced into a hydrocarbon skeleton part, metal ions (mixed from the fuel pipe line system or the like) that cause radical formation from peroxides such as hydrogen peroxide generated by cell reaction are captured by chelating functional groups, and the formation of peroxide radicals is inhibited.例文帳に追加

炭化水素骨格部に電解質基が導入された化学構造の高分子電解質材料中にキレート性官能基を導入することにより、電池反応により発生する過酸化水素のような過酸化物をラジカル化する金属イオン（燃料の配管系などより混入）をキレート性官能基により捕捉し、過酸化物ラジカルの生成を抑制する。 - 特許庁

A monohydric alcohol is reacted with carbon dioxide in the presence of a solid catalyst and a nitrile compound to form a carbonic acid ester and water, an amide compound is formed by a hydration reaction between the nitrile compound and the formed water, and the formed water is removed from the reaction system or reduced to promote the formation of the carbonic acid ester.例文帳に追加

固体触媒とニトリル化合物の存在下で、一価アルコールと二酸化炭素を反応させて、炭酸エステルと水を生成し、前記ニトリル化合物と前記生成した水との水和反応によりアミド化合物を生成して、前記生成した水を反応系から除去又は低減することにより、前記炭酸エステルの生成を促進させる。 - 特許庁

The powder formation step C consists of: a decomposition step C-1 of decomposing the composite metal complex by the action of subcritical water or supercritical water; and a crystallization step C-2 of crystallizing ions of the decomposed composite metal complex to barium titanate fine particles in the reaction environment in the state of subcritical water or supercritical water as a reaction field.例文帳に追加

粉体生成工程Ｃは、亜臨界水または超臨界水により複合金属錯体を分解する分解工程Ｃ−１と、分解された複合金属錯体のイオンを亜臨界水または超臨界状態の反応環境を反応場としてチタン酸バリウム微粒子に結晶化する結晶化工程Ｃ−２とからなる。 - 特許庁

To provide a method of forming wirings of a semiconductor element which enables prevention of contamination by the aging of wiring materials resulting from ordinary high temperature surface reaction and thermal diffusion by reducing or substantially eliminating chemical reaction with the circumferential atmosphere and/or movement by thermal diffusion of atoms of wiring materials after formation of electronic circuit wirings.例文帳に追加

電気回路配線形成後の配線材料構成原子の周囲雰囲気との化学反応、及び又は、熱拡散による移動を低減又は、事実上阻止し、通常の高温表面反応や熱拡散に起因する配線材料の経時的な劣化を防止することを可能とする半導体素子の配線形成方法を提供する。 - 特許庁

In the formation of plasma by mounting a substrate, on which a deposited film is to be formed, in a reaction vessel permitting evacuation, introducing a gas in the reaction vessel and applying at least two high frequency powers each having different frequency to the same high frequency electrode, a plurality of plasma blocking means are provided between the substrate and an exhausting means.例文帳に追加

減圧可能な反応容器内に堆積膜が形成される基体を設置し、該反応容器内にガスを導入し、同一の高周波電極に少なくとも2つの異なる周波数の高周波電力を印加することによって、プラズマを形成するものにおいて、基体と排気手段との間に複数のプラズマ遮断手段を設ける。 - 特許庁

The method includes in a first reaction chamber converting at least a part of the copper containing surface layer 4 into a copper halide surface layer 5 and in a second reaction chamber removing at least a part of the copper halide surface layer 5 by exposing it to a photon atmosphere 6, thereby initiating formation of volatile copper halide products 8.例文帳に追加

この方法は、第１反応チャンバ中で、銅含有表面層４の少なくとも一部を、ハロゲン化銅表面層５に変える工程と、第２反応チャンバ中で、光子含有雰囲気６に晒して、ハロゲン化銅表面層５の少なくとも一部を除去して、揮発性のハロゲン化銅生成物８の形成を始める工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for producing a hydroxy group-containing vinyl compound, with which a high reaction rate and a high reaction yield are achieved and formation of by-product is controlled in producing a hydroxy group-containing vinyl compound by reacting an acrylate compound with an aldehyde-based compound in the presence of a tertiary amine compound as a catalyst and water.例文帳に追加

アクリレート化合物とアルデヒド系化合物を、触媒として三級アミン化合物と水の存在下に反応させて水酸基含有ビニル化合物を製造するに際して、高い反応速度と高い反応収率を達成し、かつ副生成物の生成を抑制した水酸基含有ビニル化合物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a set of an ink and a reaction liquid that can obtain and form a high-density image to be suppressed from being transferred to the other recording medium even if only a short time passes after image formation, and to provide an image forming method using the set.例文帳に追加

高い画像濃度の画像が得られ、かつ、画像形成後の短時間においても別の記録媒体への転写が抑制された画像を形成することができるインクと反応液とのセット、該セットを用いた画像形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a silicon CVD device by which the formation of hydrogen chloride or the like caused by the reaction of moisture and a gaseous starting material, craking of a gaseous starting material caused by moisture or the like is suppressed, and a thin film of high quality can economically and efficiently be produced.例文帳に追加

水分と原料ガスとの反応や水分に起因する原料ガスの分解等による塩化水素等の生成を抑制し、高品質な薄膜を経済的に効率よく製造することができるシリコンＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁