例文 (999件) |
solution compositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3193件
SOLUTION COMPOSITION FOR CONTACT LENS例文帳に追加
コンタクトレンズ用液剤組成物 - 特許庁
METALWORKING OIL SOLUTION COMPOSITION例文帳に追加
金属加工用油剤組成物 - 特許庁
POWDER COMPOSITION FOR SOLUTION POLLINATION例文帳に追加
溶液授粉用粉体組成物 - 特許庁
ORGANIC POLYMER SOLUTION COMPOSITION例文帳に追加
有機重合体溶液組成物 - 特許庁
THERMOSETTING RESIN SOLUTION COMPOSITION例文帳に追加
熱硬化性樹脂溶液組成物 - 特許庁
PHOTORESIST RESIDUE REMOVING SOLUTION COMPOSITION例文帳に追加
フォトレジスト残渣除去液組成物 - 特許庁
SOLUBILIZING COMPOSITION FOR COSMETIC OIL SOLUTION例文帳に追加
化粧品油剤用可溶化組成物 - 特許庁
MULTICOMPONENT SOLUTION COMPOSITION MEASUREMENT METHOD例文帳に追加
多成分溶液組成測定方法 - 特許庁
PHOTOGRAPHIC PROCESSING AGENT COMPOSITION, COLOR DEVELOPING SOLUTION, BLEACHING SOLUTION, BLEACH FIXING SOLUTION, STABILIZING SOLUTION, FIXING SOLUTION, AMPLIFIER SOLUTION AND BACK-AND-WHITE DEVELOPING SOLUTION例文帳に追加
写真用処理剤組成物、発色現像液、漂白液、漂白定着液、安定液、定着液、アンプリファイアー液、黒白現像液 - 特許庁
RESIN COMPOSITION, RESIN COMPOSITION SOLUTION AND RESIN COMPOSITION DISPERSION例文帳に追加
樹脂組成物、樹脂組成物溶液、及び樹脂組成物分散液 - 特許庁
POLISHING SOLUTION COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板用研磨液組成物 - 特許庁
NONAQUEOUS ELECTROLYTIC SOLUTION COMPOSITION, AND NONAQUEOUS ELECTROLYTIC SOLUTION SECONDARY BATTERY例文帳に追加
非水電解液組成物及び非水電解液二次電池 - 特許庁
ALKALI DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性組成物用アルカリ現像液 - 特許庁
POLYMER REMOVING SOLUTION COMPOSITION FOR FINE PATTERN例文帳に追加
微細パターン用ポリマー剥離液組成物 - 特許庁
COMPOSITION OF POLISHING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板用研磨液組成物 - 特許庁
AROMATIC LIQUID CRYSTALLINE POLYESTER SOLUTION COMPOSITION例文帳に追加
芳香族液晶ポリエステル溶液組成物 - 特許庁
ETCHING SOLUTION COMPOSITION FOR METAL LAMINATE FILM例文帳に追加
金属積層膜用エッチング液組成物 - 特許庁
AQUEOUS SOLUTION COMPOSITION OF HYALURONIC ACID例文帳に追加
ヒアルロン酸化合物の水溶液組成物 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SOLUTION, POLYMER SOLUTION AND RESIST COMPOSITION例文帳に追加
溶液の製造方法、重合体溶液およびレジスト組成物 - 特許庁
BLACK INK BASE SOLUTION, INK COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING THE INK COMPOSITION例文帳に追加
ブラックインク原液、インク組成物、及びその製造方法 - 特許庁
AQUEOUS SOLUTION COMPOSITION OF HYALURONIC ACID COMPOUND例文帳に追加
ヒアルロン酸化合物の水溶液組成体 - 特許庁
PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS AND DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION例文帳に追加
フォトリソグラフィ方法および現像液組成物 - 特許庁
ALKALINE AQUEOUS SOLUTION COMPOSITION FOR SUBSTRATE PROCESSING例文帳に追加
基板処理用アルカリ性水溶液組成物 - 特許庁
SOLUTION COMPOSITION OF AROMATIC LIQUID CRYSTAL POLYESTER例文帳に追加
芳香族液晶ポリエステル溶液組成物 - 特許庁
POLYAMIC ACID SOLUTION COMPOSITION, AND POLYIMIDE FILM例文帳に追加
ポリアミック酸溶液組成物、及びポリイミド膜 - 特許庁
ALKALI DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND CONCENTRATED SOLUTION THEREOF例文帳に追加
感光性樹脂組成物用アルカリ現像液及びその濃縮液 - 特許庁
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