「solution composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photocrosslinkable resin composition hardly receiving influence of polymerization impediment due to oxygen even while a resin layer surface is uncovered after film-thinning an photocrosslinkable resin layer in a method of manufacturing a circuit board for forming the photocrosslinkable resin layer on a substrate putting a conductive layer on the surface, and performing exposure of a circuit pattern and development treatment after performing film-thinning treatment of the photocrosslinkable resin layer with aqueous alkali solution.例文帳に追加

表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

The solution offers a material with a new function mechanism which is equipped with improved skin barrier function through the function of production promotion of antimicrobial peptide by establishing a differentiation method for appropriate materials to be prescribed for external application in which production promotion function of antimicrobial peptide, in particular, production promotion function of the gene which engenders beta-defensin 1 (hBD1mRNA), is adopted as an indicator; and composition comprised of the material.例文帳に追加

外用で投与すべき素材の鑑別方法において、抗菌ペプチド産生促進作用、取り分け、β−ディフェンシン１産生遺伝子（hBD1mRNA）発現促進作用を指標とする外用で投与すべき素材の鑑別方法を確立することにより、皮膚バリア機能向上用に好適な、新規な作用機序を有する抗菌ペプチド産生促進作用による皮膚バリア機能向上作用を有する素材、当該素材を含有してなる組成物。 - 特許庁

In the method for producing a polyimide film composition, a polyimide precursor solution is applied to the surface of a substrate and dried or half-cured to form a polyimide precursor resin layer, a metallic layer is formed on the surface of the polyimide precursor resin layer and the polyimide precursor resin layer is heat-cured after or during the formation of the metallic layer to form a polyimide resin layer.例文帳に追加

基体表面にポリイミド前駆体溶液を塗布して乾燥もしくは半硬化してポリイミド前駆体樹脂層を形成し、ポリイミド前駆体樹脂層表面に金属層を形成した後或いは形成途中に、ポリイミド前駆体樹脂層を加熱硬化してポリイミド樹脂層を形成するポリイミド被膜組成物の製造方法、並びに、それにより得られるポリイミド被膜組成物、無端ベルト、定着ベルト、及び、電子写真感光体である。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing acid decomposable alicyclic olefin repeating units with a specified structure, anhydride repeating units with a specified structure and acid decomposable acrylic repeating units with a specified structure and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a nitrogen-containing basic compound having no aromatic ring.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び芳香族基を有さない含窒素塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

In the method for producing the hydrocarbon hydrogenation treatment catalyst composition in which a hydrogenation active component is carried on a carrier made of a crystalline aluminosilicate zeolite and/or a porous inorganic oxide, the carrier is impregnated with a hydrogenation active component-containing aqueous solution containing at least one kind of metal selected from noble metals of the eighth group of the periodic table, and then a microwave is applied thereto.例文帳に追加

結晶性アルミノシリケートゼオライトおよび／または多孔性無機酸化物からなる担体に水素化活性成分を担持した炭化水素の水素化処理触媒組成物の製造方法に於いて、該担体に周期律表第VIII族貴金属から選ばれた少なくとも一種の貴金属を含有する水素化活性成分含有水溶液を含浸した後、マイクロ波を照射することを特徴とする炭化水素の水素化処理触媒組成物の製造方法。 - 特許庁

This decomposition method for halogenated organic compound is characterized in contacting and heating a solution of a composition formed by containing a proteolytic substance produced by enzymatic or acid treatment of a protein or a sugar, or containing the proteolytic substance and simultaneously one or more compounds selected from a compound group composed of sugars and transition metal salts with halogenated organic compounds or contaminants containing the halogenated organic compound.例文帳に追加

蛋白質の酵素処理若しくは酸処理により製造されてなる蛋白質分解物又は糖類、或いは前記蛋白質分解物と同時に、糖類及び遷移金属塩よりなる化合物群から選ばれる１種又は２種以上の化合物を含んでなる組成物の溶液を、ハロゲン化有機化合物若しくはハロゲン化有機化合物を含む汚染物と接触させ、加熱処理することを特徴とするハロゲン化有機化合物の分解方法。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units including a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generated the acid when irradiated with active light or radiation, an organic solvent which dissolves the above components, an organic basic compound and at least one selected from a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定の構造を含有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、上記成分を溶解する有機溶剤、有機塩基性化合物、並びにフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a compound which generates an acid upon exposure to actinic rays or radiation, (B) a resin of which solution rate in an alkali developer increases by an action of acid, and (C) a hydrophobic resin which contains a repeating unit derived from a monomer represented by the following general formula (1).例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin which is decomposed by the action of acids and increases its solubility in an alkali developing solution, a compound having an oxime sulfonate structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation and at least one selected from the group comprising compounds each represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、特定の構造で表されるオキシムスルホネート構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の構造で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の群から選択される少なくとも１種、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A photosensitive planographic printing plate obtained by coating the top of an aluminum substrate with a photosensitive composition containing a high molecular compound having a urea bond in a side chain and a positive working photosensitive compound is imagewise exposed and developed with a developing solution of pH 9.0-13.5 containing at least one nonreducing sugar and at least one base to produce the objective planographic printing plate.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に側鎖に尿素結合を有する高分子化合物とポジ型に作用する感光性化合物とを含む感光性組成物を塗布してなる感光性平版印刷版を画像露光した後、非還元糖から選ばれる少なくとも一種の糖類及び少なくとも一種の塩基を含有し、ｐＨが９.０〜１３.５の範囲である現像液により現像することを特徴とする、平版印刷版の作成方法。 - 特許庁

The thermal transfer image receiving sheet is manufactured by forming a base sheet like a sheet by using a composition made by mixing a resin soluble in a specific solvent and a resin insoluble in the specific solvent, immersing the formed sheet in the specific solution elute the resin soluble in the specific solvent, then drying to make many pores as microvoids formed in the formed sheet and, after that, forming a dye absorbing layer on the base sheet.例文帳に追加

本発明の熱転写受像シートは、基材シートとして、特定の溶媒に可溶な樹脂と、該特定溶媒に不溶な樹脂を混合した組成物を用いて、シート状に成形し、その後に得られた成形シートを前記の特定溶媒に浸漬することにより、特定溶媒に可溶な樹脂を溶出させ、その後に乾燥して、成形シートに微細な空隙である多孔を形成し、その後に該基材シート上に染料受容層を設けて製造するものである。 - 特許庁

The polarizing plate provided with at least one or more layers formed by curing a high polymerizable resin composition on a polarizing element film formed by treating a hydrophilic high polymer adsorbing a dichroic dye and boric acid with a solution having pH of 1.0-6.0 has durability, particularly remarkably improved wet heat durability and does not cause the change in color even in a dry heat durable state.例文帳に追加

本発明は、二色性色素およびホウ酸を吸着し延伸された親水性高分子を、ｐＨが１．０乃至６．０である溶液で処理されてなる偏光素膜であって、該偏光素膜に重合性樹脂組成物を硬化させた層を少なくとも１層以上を設けられていることを特徴とする偏光板は、耐久性、主に湿熱耐久性が大きく向上し、かつ、乾熱耐久性においても色変化の起こらない偏光板が得られる。 - 特許庁

In the positive type electron beam or X-ray resist composition containing (a) a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays and (b) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid and increases solubility in an alkali developing solution, the compound (a) contains a specified sulfonic ester and a specified onium sulfonate.例文帳に追加

（ａ）電子線又はＸ線の照射により酸を発生する化合物、（ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物において、電子線又はＸ線の照射により酸を発生する化合物が、特定のスルホン酸エステルと特定のオニウムスルホン酸塩を含有することを特徴とするポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) an acid generating sulfonium slat compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される酸を発生するスルホニウム塩化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This artificial superlattice nanoparticle is made by alternately laminating not less than two oxides of different chemical compositions on the concentric circle of a spherical nucleus by epitaxially growing not less than two oxides of different chemical compositions on a particle of different chemical composition in a solution, and the oxides contain barium titanate or strontium titanate, and diisopropoxide diacetylacetonate (Ti(iPrO)2(AcAc)2, TPA) is used as the source of titanium of the oxides.例文帳に追加

２種類以上の化学組成の異なる酸化物を溶液中で、化学組成の異なる粒子上にエピタキシャルに成長させることにより、球状の核の同心円上に化学組成の異なる酸化物の２種類以上を交互に積層し、球状とした人工超格子ナノ粒子であり、前記酸化物はチタン酸バリウム、またはチタン酸ストロンチウムを含み、前記酸化物のチタン源として、ジイソプロポキシドジアセチルアセトナート（Ti(iPrO)2(AcAc)2、TPA）を用いる。 - 特許庁

The optical compensation film comprises an optical anisotropic layer, made of a composition containing at least a liquid crystalline compound on a plastic film, wherein both the change amounts of in-plane retardation Re and retardation Rth in the thickness direction of the optical anisotropic layer, after dipping the optical compensation film in an aqueous solution of sodium hydroxide 1.5 mol/L at 55°C for two min are smaller than 5 nm.例文帳に追加

プラスチックフィルム上に、少なくとも液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該光学補償フィルムを、１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中に５５℃で２分間浸した後に、該光学異方性層の面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈのいずれの変化量も５ｎｍ未満であることを特徴とする光学補償フィルムである。 - 特許庁

This method for producing a hydroxyalkylacrylic ester or methacrylic acid ester modified with caprolactone comprises a process 1 for subjecting lactone and a hydroxyalkylacrylic ester or a hydroxyalkylmethacrylic acid ester to an addition reaction in the presence of an organometallic compound catalyst, a polymerization inhibitor and an antioxidant at 70-120°C and a process 2 for removing the residual organometallic compound catalyst from the reaction product solution obtained by the process 1 by using a composition composed of an inorganic compound.例文帳に追加

ラクトンとヒドロキシアルキルアクリル酸エステル又はヒドロキシアルキルメタクリル酸エステルとを、有機金属化合物触媒、重合防止剤および抗酸化剤の存在下、７０℃〜１２０℃で付加反応させる工程１、及び工程１で得られた反応生成液から残留する該有機金属化合物触媒を、無機化合物からなる組成物を用いて除去する工程２よりなるカプロラクトン変性ヒドロキシアルキルアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの製造方法。 - 特許庁

This positive photoresist composition contains (A) a sulfonic acid generating compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant with a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表されるスルホン酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive material is provided with a positive photosensitive composition layer containing a photothermoconverting substance for absorbing light from an image exposure light source and converting it into heat, and an alkali-soluble organic polymer compound having a phenolic hydroxyl group, and this photosensitive material is imagewise exposed and developed with the alkaline developing solution containing an alkali metal hydroxide and an alkali metal silicate and silicones and having a pH of ≥12.例文帳に追加

画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光熱変換物質、及び、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性有機高分子物質を含有するポジ型感光性組成物層を画像露光したポジ型感光体を、アルカリ金属の水酸化物とアルカリ金属の珪酸塩とを含有し、ｐＨが１２以上で、かつ、シリコーン類を含有するアルカリ現像液で現像するポジ型感光体の現像方法、及びそれに用いる現像液。 - 特許庁

A photosensitive planographic printing plate with a photosensitive layer of a photopolymerization type photosensitive composition containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a polymer binder on an aluminum substrate is imagewise exposed and developed with a developing solution of pH 10.0-12.5 having 3-30 mS/cm electric conductivity and containing an inorganic alkali agent and a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group.例文帳に追加

アルミニウム支持体上にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、光重合開始剤、及び、高分子結合剤からなる光重合型感光性組成物の感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光した後、無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤を含有し、ｐＨ１０．０〜１２．５、導電率３〜３０ｍＳ／ｃｍの現像液で現像することを特徴とする。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, a resin having the residue of a compound having a smaller ionization potential than p- ethylphenol in a group which is released by the action of the acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one acetal compound having a specified structure.例文帳に追加

電子線またはＸ線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により脱離する基の中に、ｐ−エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び特定の構造のアセタール化合物のうち少なくとも一種を含有することを特徴とする電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for producing a diaminodiphenyl ether in a high yield with stable high quality via a stepwise producing process which uses an aminophnol and a chloronitrobenzene as starting materials and comprising an etherification process, a hydrogen addition process and a distillation purifying process, by quickly and accurately measuring a solution composition in each reaction process and reflecting the results of measurement to the automatic control of the process.例文帳に追加

アミノフェノールとクロロニトロベンゼンとを原料とし、エーテル化反応工程、水素添加反応工程、蒸留精製工程の各工程を逐次的に通過させることによってジアミノジフェニルエーテルを製造プロセスにおいて、各工程の溶液組成を迅速、かつ正確に測定し、更に得られた測定結果をプロセス自動制御に反映させることで、安定した高品質を有するジアミノジフェニルエーテルを高収率で製造する方法を提供すること。 - 特許庁

The resist composition is obtained by dissolving a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, in an organic solvent (S).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、−ＳＯ_２−を含む環式基が側鎖に存在する構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、有機溶剤（Ｓ）が５〜７員環を有する環式ケトン若しくは一般式：［式中、Ｒ^４は炭素数１〜５のアルキル基、Ｒ^５は炭素数１〜３のアルキル基、ｎは０〜２の整数である。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, (B) a resin showing an increase in dissolution rate with an alkali developing solution by an action of an acid, and (C) a hydrophobic resin.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The method for producing a conjugated diene polymer composition comprises processes for: adding a specific coupling agent A to a solution containing a polymer, which has an active terminal and is obtained by polymerizing a monomeric mixture containing a conjugated diene monomer or a conjugated diene monomer and an aromatic vinyl monomer, in an inactive solvent with a polymerization initiator; and adding a denaturant B to generate a denatured polymer.例文帳に追加

共役ジエン単量体または共役ジエン単量体と芳香族ビニル単量体とを含有する単量体混合物を、不活性溶媒中で重合開始剤により重合して得られた活性末端を有する重合体を含有する溶液に、（Ａ）特定のカップリング剤を添加し、カップリング重合体を生成させる工程と、（Ｂ）変性剤を添加し、変性重合体を生成させる工程と、を含んでなる共役ジエン重合体組成物の製造方法。 - 特許庁

To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.例文帳に追加

本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁

This silver halide photographic sensitive material, having at least one antistatic layer containing hydrophilic colloid and an electrically conductive composition prepared by mixing and heat-treating fine particles of a polymer having a functional group and a water-soluble polymer on the substrate and a hydrophilic colloidal layer on the antisatic layer, is processed with a fixing solution which does not substantially contain boron compounds using an automatic processing machines.例文帳に追加

支持体上に、官能基を有するポリマー微粒子と水溶性ポリマーとを混合後、加熱処理して製造した導電性組成物と親水性コロイドを含有する帯電防止層を少なくとも１層有し、該帯電防止層の上に親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料を、自動現像機を用いて、実質的にホウ素化合物を含有しない定着液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

A planographic printing original plate with a photosensitive composition layer containing at least a phohothermal conversion material which absorbs light and converts it to heat and an alkali-soluble organic high-molecular substance on the substrate is produced by following steps, (a) imagewise exposure, (b) developing with an alkaline developing solution and (c) washing with water containing a chelate forming material.例文帳に追加

支持体上に、光を吸収して熱に変換する光熱変換物質、およびアルカリ可溶性有機高分子物質を少なくとも含有する感光性組成物層を具備する平版印刷版の製版方法において、前記製版方法が少なくとも(a) 画像様露光工程、(b) アルカリ性現像液を用いた現像工程及び、(c) 水洗工程を含み、かつ、前記水洗工程で用いる水洗水がキレート形成性物質を含有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

When the electrophotographic toner is manufactured by dissolving or dispersing a toner composition comprising at least resin and a colorant in an organic solvent, dispersing the resulting solution or dispersion in an aqueous medium to prepare an emulsified dispersion and removing the organic solvent form the emulsified dispersion, a solid particulate dispersant freed of fine particles having extremely high oil droplet stabilizing ability by partial dissolution is allowed to exist in the aqueous medium.例文帳に追加

少なくとも樹脂及び着色剤を含むトナー組成物を有機溶剤に溶解または分散して得られる溶解物または分散物を水系媒体中で分散して乳化分散液とし、この乳化分散液から有機溶剤を除去して電子写真用トナーを製造するに際し、該水系媒体中に、予め部分的な溶解処理を施して一部の極端に油滴安定化能力の高い微粒子を除去した固体の微粒子分散剤を存在させる。 - 特許庁

Furthermore, the method of manufacturing optical compensation element, having the optical anisotropic layer formed from the composition which contains at least the liquid crystalline compound, comprises a process of changing at least one of the in-plane retardations Re and the retardations Rth in the thickness direction of the optical anisotropic layer by 5 nm or larger, by making a part of liquid crystalline molecules in the optical anisotropic layer elute according to the solution treatment.例文帳に追加

また、少なくとも液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償素子の製造方法であって、溶液処理によって、前記光学異方性層中の液晶性分子の一部を溶出させて、前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈのうち少なくとも一方を５ｎｍ以上変化させることを含む光学補償素子の製造方法である。 - 特許庁

The resist composition contains a base material component (A), which generates an acid by exposure and the solubility to a developing solution is changed by an action of an acid.例文帳に追加

露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される基を有する構成単位（ａ０−１）と、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

[2] The chemical amplification type positive resist composition contains the salt described in [1] and a resin becoming dissolvable in an aqueous alkaline solution by the action of an acid.例文帳に追加

（式中、Ｑ^1、Ｑ^2、Ｑ^3、Ｑ^4及びＱ^5は、互いに独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、シアノ基、スルフィド基、ヒドロキシ基、ニトロ基又は下式（Ｉ'）で示される基を表す。Ｑ^1、Ｑ^2、Ｑ^3、Ｑ^4及びＱ^5のうち少なくとも一つは、下式（Ｉ'）で示される基である。Ａ^＋は、対イオンを表す。式中、Ｘは、アルキレン基、エーテル結合を含むアルキレン基を表し、Ｃｙ^１は、脂環式炭化水素基を表す。）〔２〕酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び前記の〔１〕記載の塩を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The amylose film for a polarizing film is formed of an amylose composition containing amylose having a weight average molecular weight of ≥250 kDa and a transmission of a 3 mass% aqueous solution for light having a wavelength of 450 nm being ≥80% and a polyhydric alcohol plasticizer, wherein a content of the polyhydric alcohol plasticizer is 6-20 mass% based on the mass of the amylose.例文帳に追加

重量平均分子量が２５０ｋＤａ以上であり、３質量％水溶液の波長４５０ｎｍの光の透過度が８０％以上であるアミロースおよび多価アルコール系可塑剤を含有し且つ多価アルコール系可塑剤の含有量がアミロースの質量に基づいて６〜２０質量％であるアミロース組成物からなる偏光フィルム用のアミロースフィルム、並びに当該アミロースフィルムを、アルコールを１０〜３０質量％の割合で含有する水性処理液を用いて染色および一軸延伸して製造する方法することを特徴とする偏光フィルムの製造方法。 - 特許庁

The resist composition includes: a base component (A) the solubility of which with a developing solution changes by an action of an acid; and an acid generator component (B) which generates an acid by exposure, the acid generator component (B) including an acid generator (B1) having a group expressed by the formula (b1-1) in a cationic moiety.例文帳に追加

酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される基をカチオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ’は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基又はシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基であり、ｐは０〜４の整数である。 - 特許庁

In the course of examination the Patent Office shall: refuse to recognize the subject matter of the application as an invention, in particular where the Office reveals that it does not concern any tangible creation susceptible of application, determined by means of technical features relating to its structure or composition, nor any particular technical way in which it affects a material, nor new use of a substance comprised in the state of the art; (ii)refuse to recognize the subject matter of the application as a new invention, where it may prove that all the technical features of the technical solution or of a variation of the technical solution contained in the application, taken together, are comprised in the state of the art and are not characterized by the production of unexpected effects; recognize the claimed invention that meets the criterion of novelty as a technical solution not involving an inventive step, where the Office may cite those documents from the state of the art, on the basis of which it may reasonably claim that the invention's capability of being carried out or applied is clearly implied by that state of the art, when taking into account average skills of a person skilled in the art; refuse to recognize the subject matter of the application as a technical solution susceptible of industrial application, in particular when it finds that it is infeasible for that solution to be used for manufacturing of the product or for the claimed process to be used in a technical sense.例文帳に追加

特許庁は，審査の過程において次のことを行う。 特に出願の主題が，構造又は構成に関する技術的特徴から判断して，出願可能な実体的な創造物に関係しておらず，また物質に作用する特定の技術的方法にも，技術水準に含まれる物質の新たな用途にも関係していないことを庁が明らかにした場合は，発明としての出願の主題の認容を拒絶する。出願に含まれる，技術的解決方法又はその変種の技術的特徴のすべてが，全体として技術水準に含まれており，かつ，予期できない効果の出現によって特徴付けられていないことを特許庁が証明することができる場合は，出願の主題を新たな発明として認容することを拒絶する。特許庁が技術水準から書類を引用することができ，その書類を基礎として特許庁が，当該技術の熟練者の平均的熟練度を考慮に入れたときに，発明が実施され又は利用される可能性が当該技術水準に明瞭に示されていることを合理的に主張することができる場合は，新規性の基準に適合するクレームされた発明を，進歩性を含まない技術的解決方法として認容する。 特に，製品の製造のために当該解決方法が実施されること又はクレームされた方法が技術的な意味で実施されることが不可能であることを特許庁が認めたときは，出願の主題を産業上の利用可能性のある技術的解決方法として認容することを拒絶する。 - 特許庁

The photo-curing and thermosetting resin composition, capable of being developed by alkali aqueous solution, is composed of (A) an active- energy ray curing resin, (B) a photo-polymerization initiator, (C) a photosensitive (mth)acrylate, and (D) an epoxy resin.例文帳に追加

（Ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物（ａ）と１分子中に少なくとも２個以上の水酸基とエポキシ基と反応する水酸基以外の１個の反応基を有する化合物（ｂ）の反応物（Ａ−１）と、下記一般式（１）で示される多核エポキシ化合物（Ａ−２）との混合物に、不飽和基含有モノカルボン酸（ｃ）を反応させ、得られた反応物に多塩基酸無水物（ｄ）を反応させて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）感光性（メタ）アクリレート、（Ｄ）エポキシ樹脂を含有することを特徴とするアルカリ水溶液により現像可能な光硬化性熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains a base material component (A') which has high solubility against alkali developing solution by action of acid and generates acid by exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ’）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。 - 特許庁