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「species oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索
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species oxidationの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 65



例文

LIQUID PHASE OXIDATION REACTION BY USING TUNGSTEN SPECIES例文帳に追加

タングステン種を用いる液相酸化反応 - 特許庁

Active oxidation species may be adopted for oxidization.例文帳に追加

活性酸化種を用いて酸化処理を行っても良い。 - 特許庁

The plasma oxidation shortens ingress distance of oxidized species, and controls oxidation of a polysilicon film and a gate insulating film.例文帳に追加

プラズマ酸化により酸化種の侵入距離を短くし、ポリシリコン膜やゲート絶縁膜の酸化を抑制する。 - 特許庁

Hydroxyl radical is the major reactive species involving the oxidation of PCE.例文帳に追加

ヒドロキシル遊離基は,PCEの酸化反応に関与する主要な高反応性化学種である。 - 英語論文検索例文集

例文

The external preparation for skins, having the anti-oxidizing action against skin oxidation caused by active oxidation species, contains the eliminating agent.例文帳に追加

また、該消去剤を含有し、活性酸素種に起因する皮膚の酸化に対する抗酸化作用を有する皮膚外用剤である。 - 特許庁


例文

A SiN thin film 15 is formed on a Cu wiring 14 and heat-treated in an atmosphere, including an oxidation species and an reduction species.例文帳に追加

Cu配線14上にSiN薄膜15を形成した後、酸化種および還元種を含む雰囲気中で熱処理を行う。 - 特許庁

OXIDATION TREATMENT METHOD AND EQUIPMENT FOR SO2 IN WASTE GAS OF MAKING HO2 RADICAL INTO OH FORMING REACTION SPECIES IN RADICAL CHAIN REACTION OF SO2 OXIDATION例文帳に追加

HO2ラジカルをSO2酸化のラジカル連鎖反応におけるOH生成反応種とする排ガス中のSO2の酸化処理方法および装置 - 特許庁

Since the active oxygen species such as ozone have high oxidation activity in a low-temperature region blow 200°C, H_2S in exhaust gas is efficiently removed by oxidation.例文帳に追加

オゾンなどの活性酸素種は、 200℃以下のような低温域でも酸化活性が高く、排ガス中のH_2S は酸化により効率よく除去される。 - 特許庁

The film 8 is made to have an oxidation resistance so as to prevent the permeation of an oxidizing species to the first conductor film 7.例文帳に追加

第2の導体膜8は、酸化種を第1の導体膜7に透過させないように耐酸化性を有する。 - 特許庁

例文

This lamellar wave stirring advanced oxidation water treatment apparatus is equipped with an ozone microbubble generator for performing oxidation, a highly active photocatalyst for performing oxidation by active oxygen species and reduction, and a lamellar wave producing and stirring device for enhancing solid-liquid contact and a washing effect.例文帳に追加

酸化を行うオゾン微細気泡発生装置と、活性酸素種による酸化・還元を行う高活性な光触媒、および固液の接触・洗浄効果を上げる層状波発生攪拌装置を具備する。 - 特許庁

例文

In an oxidizing atmosphere, independently of the presence of the active species, an oxidation reaction of the active species and the carrier proceeds very rapidly, and the carrier, in which the amount of oxygen is insufficient, takes in oxygen from the atmosphere.例文帳に追加

酸化雰囲気では、活性種の存在の有無に関わりなく非常に速く活性種及び担体の酸化反応が進行し、担体は自身に不足した酸素を雰囲気から取り込む。 - 特許庁

The semiconductor device 10 is formed with a semiconductor layer 13, a first insulating layer 31 that is formed on the surface of the semiconductor layer 13 and allows an oxidation species to pass through, and a second insulating layer 32 that is formed as to cover the first insulating layer 31 and does not allow the oxidation species to pass through.例文帳に追加

半導体素子10は、半導体層13と、半導体層13の表面に設けられ、酸化種を透過する第1の絶縁層31と、第1の絶縁層31を覆うように設けられ、酸化種を透過させない第2の絶縁層32とを備えている。 - 特許庁

It is expected that an active oxygen species on the surface of the catalyst is not made into O^2-, but O^-, and a partial oxidation reaction which is an exothermic reaction can be allowed to proceed while inhibiting a total oxidation reaction.例文帳に追加

触媒表面の活性酸素種をO^2- ではなくO^-とすることができると期待され、完全酸化反応を抑制しつつ発熱反応である部分酸化反応を進行させることができる。 - 特許庁

The oxide film formation method has a pretreatment process for forming a protection oxide film in a surface of a wafer by carrying out oxidation treatment by active oxidation species, or atmosphere containing active oxidation species under evacuation conditions for a wafer disposed inside a reaction container; and an oxide film formation process for forming an oxide film by performing oxidation treatment for the wafer at a prescribed temperature under evacuation conditions.例文帳に追加

酸化膜形成方法は、反応容器内に配置されたウエハについて、減圧条件下に、活性酸化種または活性酸化種を含む雰囲気による酸化処理を行うことにより、ウエハの表面に保護酸化膜を形成する前処理工程と、このウエハについて、減圧条件下において所定の温度で酸化処理することにより、酸化膜を形成する酸化膜形成工程とを有する。 - 特許庁

The method comprises the step of using a catalyst containing a tungsten species and/or a molybdenum species and a fluororesin in the oxidation of a compound having at least one ethylenic double bond with an oxidizing agent.例文帳に追加

本発明はエチレン性二重結合を少なくとも1個含有する化合物を酸化剤により酸化するに際し、タングステン種及び/またはモリブデン種と、フッ素樹脂とを含む触媒を用いることを特徴とする。 - 特許庁

Since the ions 15 are ion species of an element having enhanced oxidation action, the implantation of the ions 15 causes conversion from the polycrystalline silicon layer 3 to the ion-implanted polycrystalline silicon layer 16 having a higher oxidation rate.例文帳に追加

イオン15は増速酸化作用のある元素のイオン種であるため、イオン15の注入によって多結晶シリコン層3から、より酸化レートが高い性質のイオン注入多結晶シリコン層16に変換される。 - 特許庁

This actuator changes a shape by varying the volume of an inorganic compound by bonding or releasing certain chemical species by oxidation or reduction reaction.例文帳に追加

酸化或いは還元反応によって、ある化学種を結合或いは放出し、無機化合物の体積を変動させて、形状を変化させるアクチエーター。 - 特許庁

In the reaction process, both the oxidizing agent and an activator which acts on the oxidizing agent and generates a halogen molecule being an oxidation activity species may be used.例文帳に追加

前記反応工程において、酸化剤と共に、この酸化剤に作用して酸化活性種であるハロゲン分子を発生させる活性化剤を併用してもよい。 - 特許庁

The molecule mediation species material and an ion liquid are mixed and the molecule mediation species material has a charge portion capable of controlling capturing and releasing of an object molecule by oxidation/reduction and electro-chemically controlling the oxidation/reduction state; and an aprotic polar group.例文帳に追加

分子媒介種材料とイオン液体を混合して成り、該分子媒介種材料は、酸化還元処理によって対象分子の捕捉及び脱離を制御可能であり、且つその酸化還元状態を電気化学的に制御可能な荷電部位と、非プロトン性の極性基を有する分子媒介種材料である。 - 特許庁

When oxidation annealing is made successively, a single-crystal silicon film 103 near the STI structure 501 is oxidized and expanded by oxidation species entering from the region of a BOX film 102 located at the region of the STI structure 501.例文帳に追加

続けて酸化アニールを行うと、STI構造501の領域にあるBOX膜102領域から浸入してきた酸化種によりSTI構造501近傍にある単結晶珪素膜103は酸化し、膨張する。 - 特許庁

The molecule mediation species material has a charge portion capable of controlling capturing and releasing of the object molecule by an oxidation/reduction and electro-chemically controlling the oxidation/reduction state; and an aprotic polar group.例文帳に追加

酸化還元処理によって対象分子の捕捉及び脱離を制御可能であり、且つその酸化還元状態を電気化学的に制御可能な荷電部位と、非プロトン性の極性基を有する分子媒介種材料である。 - 特許庁

To provide wet stripping/cleaning method and equipment in which damage on an underlying film, e.g. a metal thin film or a semiconductor thin film, formed on a substrate is reduced even if the concentration of oxidation species and reduction species is increased in order to increase the processing speed.例文帳に追加

処理速度の増加を目的として、酸化種および還元種の濃度を増加させても、基板上に形成された金属薄膜または半導体薄膜などの下地膜のダメージが少ないウェット剥離洗浄方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device for generating mist having great design freedom capable of generating mist comprising active species having oxidation and sterilization capability, and a method for generating mist.例文帳に追加

本発明の目的は、酸化力・殺菌力のある活性種を含むミストを生成し、設計自由度の高いミスト生成装置及びミスト生成方法を提供することにある。 - 特許庁

Oxidation of Cu in Cu wiring 14 can be prevented by reducing species, and Si in the SiN tin film can be heat-oxidized by such a heat treatment.例文帳に追加

このような熱処理によれば、還元種によってCu配線14中のCuの酸化を防止でき、かつ酸化種によってSiN薄膜15中のSiを熱酸化できる。 - 特許庁

That is, a HD plasma oxidation process is performed, produces reactive oxygen species, removes Si-C couplings of the SiC substrate, and forms free atoms Si and C on the SiC substrate.例文帳に追加

つまり、HDプラズマ酸化プロセスは実行され、反応酸素種を生成し、SiC基板のSi—C結合をはずし、SiC基板に遊離原子SiおよびCを形成する。 - 特許庁

In the method for fabricating semiconductor device utilizing a crystalline silicon film obtained by crystallizing an amorphous silicon film formed on a substrate using a catalytic element, planarity on the surface of the crystalline silicon film is enhanced while decreasing the number of oxidation defects by thermally oxidizing the silicon film in a mixture gas of an oxidation species and a nonoxidation species.例文帳に追加

基板上に形成されたアモルファスシリコン膜を触媒元素により結晶化させて得られる結晶性シリコン膜を利用する半導体装置の作製方法において、該シリコン膜を酸化種と非酸化種の混合ガス中で熱酸化することによって、結晶性シリコン膜表面の平坦性を向上するとともに酸化欠陥数を低減する。 - 特許庁

Also, the gate insulating film 18 is formed through at least one of oxidation by supply of oxygen active species under the reduced pressure of100 Pa and deposition by supply of oxygen active species and silane material under the reduced pressure of100 Pa.例文帳に追加

また100Pa以下の減圧下で酸素活性種を供給することによる酸化および、100Pa以下の減圧下で酸素活性種およびシラン原料を供給することによる堆積の少なくとも一方によって、ゲート絶縁膜18を形成する。 - 特許庁

This liquid phase oxidation reaction by using the catalyst consisting of the tungsten species as the essential component is provided by loading the tungsten species on a porous carrier and incorporating a third element excluding the porous material-constituting components and tungsten element in the catalyst.例文帳に追加

タングステン種を必須成分とする触媒を用いて液相酸化反応を行うに際し、該タングステン種を多孔質担体に担持させ、かつ、該触媒に多孔質構成成分及びタングステン元素以外の第三元素を共存させるタングステン種を用いる液相酸化反応。 - 特許庁

To provide agents for eliminating active oxygen species, such as superoxides, free radicals and hydrogen peroxide, participating in the oxidation of skin lipid ingredients, and to provide an external preparation for skins, having an anti-oxidizing action.例文帳に追加

スーパーオキサイド、ラジカル、及び過酸化水素といった皮膚脂質成分の酸化に関与する活性酸素種の消去剤、および抗酸化作用に優れた皮膚外用剤を提供する。 - 特許庁

To provide composite metal colloid which is controllable in metal species constituting core parts and shell parts regardless oxidation reduction potential and has a reverse structure which is heretofore difficult with the conventional process for production.例文帳に追加

コア部とシェル部を構成する金属種を酸化還元電位に無関係に制御でき、従来の製造方法では困難であった逆転構造をなす複合金属コロイドを製造する。 - 特許庁

To provide a catalyst for purifying exhaust gas showing an initial activity and high activity after endurance under an atmospheric variation of oxidation/reduction by using a base metal as one of the active species.例文帳に追加

活性種の1つとして卑金属を用いて初期活性とともに酸化/還元の雰囲気変動下での耐久後にも高い活性を示す排ガス浄化触媒を提供する。 - 特許庁

In order to obtain excellent results by this treatment method, all reducing compound species are balanced with equivalent oxidizing compound species, all anions of strong acids are balanced with the cations of strong bases, and, in a wet oxidation process, 0.06 mol acetate ion is added with respect to 1 mol nitrate.例文帳に追加

本方法を成功させる鍵は、還元性のすべての化合物種を当量の酸化性の化合物種と均衡させ、またすべての強酸陰イオンを強塩基陽イオンと均衡させ、そして湿式酸化工程に硝酸塩1モルあたり少なくとも0.06モルの酢酸イオンを含めることである。 - 特許庁

In the oxidation method for oxidating the surface of a treating body W set to a specific temperature in a process envelop 8, an oxidizing gas composed of oxygen and/or ozone and a reduction gas composed of hydrogen and/or heavy hydrogen are supplied under the vacuum atmosphere (excluding a combination of oxygen and hydrogen), and the oxidation is made by a hydroxyl group active species and an oxygen active species generated.例文帳に追加

処理容器8内にて所定の温度になされた被処理体Wの表面を酸化する酸化方法において、真空雰囲気下にて酸素及び/又はオゾンよりなる酸化性ガスと水素及び/又は重水素よりなる還元性ガスとを供給し(酸素と水素のみの組み合わせを除く)、発生した水酸基活性種と酸素活性種とにより前記酸化を行なう。 - 特許庁

An insulation film (a gate oxide film) is formed on the surface of a monosrystal layer of Si, Ge, or the like comprising not less than two kinds of semiconductor on the semiconductor wafer by thermal oxidation in an atmosphere including reducer and oxidizing agent as oxidation species to the monocrystal layer.例文帳に追加

また、半導体基板上の2種類以上の半導体からなるSiGeなどの単結晶層の表面上に前記単結晶層に対する酸化種として還元剤及び酸化剤を含む雰囲気による熱酸化によって絶縁膜(ゲート酸化膜)を形成する。 - 特許庁

A porous layer into which particles of titanium oxide TiO_2 are sintered is used as the semiconductor layer 3, and an organic electrolyte which contains oxidation reduction species (redox pair) such as I^-/I_3^- is used as the electrolyte layer 5.例文帳に追加

半導体層3として酸化チタンTi O_2 の微粒子を焼結させた多孔質層を用い、電解質層5としてI^- /I_3 ^- などの酸化還元種(レドックス対)を含む有機電解液を用いる。 - 特許庁

The core that makes copper a principal component has a layer made of a different species metal made of a metal other than copper formed on the core member, and a covering layer that is formed on the layer made of the different species metal and is made of an oxidation resistant metal having a higher melting point as compared with the copper.例文帳に追加

銅を主成分とする芯材、該芯材上に形成された銅以外の金属からなる異種金属層、および該異種金属層の上に形成され、銅よりも高融点の耐酸化性金属からなる被覆層を有することを特徴とするボンディングワイヤーおよびそれを使用した集積回路デバイス。 - 特許庁

To provide a method for improving/maintaining catalytic activity performance and also suppressing the dissolution of tungsten species into a reaction solution so as to suppress the reduction of the catalyst activity and be able to reutilizing the catalyst in performing a liquid phase oxidation reaction by using the catalyst consisting of the tungsten species as an essential component.例文帳に追加

タングステン種を必須成分とする触媒を用いて液相酸化反応を行うに際し、触媒活性性能を向上・維持することができ、また、触媒の活性の低下を抑制して触媒の再利用ができるように触媒成分のタングステン種の反応溶液中への溶出を抑制する方法を提供する。 - 特許庁

Since the absorption of the moisture to the noble metals is suppressed, the equilibrium reaction of NO+O_2=[NO_x]^* smoothly advances to the right direction and the PM is efficiently oxidized and removed from a low temperature area by generated oxidation active species.例文帳に追加

貴金属への水分の吸着が抑制されるため、NO+O_2 = [NO_x]^*の平衡反応が右方向へ円滑に進行し、生成する酸化活性種によってPMを低温域から効率よく酸化除去することができる。 - 特許庁

The method for producing a carbon monoxide selective oxidation catalyst for selectively oxidizing CO in a CO-containing gas mixture comprises a sep of adding a catalyst carrier in a solvent and further adding a catalytic active species to the solvent to produce a carbon monoxide selective oxidation catalyst.例文帳に追加

COを含む混合ガスにCOの選択酸化反応を生じさせるための一酸化炭素選択酸化触媒の製造方法おいて、触媒担体を溶媒中に添加し、さらに、触媒活性種を該溶媒中に添加することを含む一酸化炭素選択酸化触媒の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas cleaning catalyst enhanced in the cleaning capacity of methane in exhaust gas by realizing the discharge of oxygen due to a change in the oxidation number of a carrier and the highly dispersed supporting of an active species for the combustion cleaning of methane at the same time.例文帳に追加

担体の酸化数変化による酸素放出と、メタン燃焼浄化ための活性種の高分散担持とを同時に実現して、排気ガス中のメタンに対する浄化能力を高めた排気ガス浄化触媒を提供する。 - 特許庁

To provide an ozone-accelerated oxidation water treatment apparatus using ultraviolet rays together which can increase the generation efficiency of radical species by reactions of ozone and ultraviolet rays to improve the decomposition efficiency of substances to be treated contained in a water to be treated.例文帳に追加

オゾンと紫外線の反応によるラジカル種の発生効率を上げ、被処理水中に含まれる処理対象物質の分解効率を向上させることができる紫外線併用オゾン促進酸化水処理装置を提供する。 - 特許庁

The primarily nitrogen containing blanketing agent is used to reduce corrosion, reduce product biodegradation and oxidation, control invasive species, and prevent fires and explosions by reducing oxygen content.例文帳に追加

この主として窒素を含有するブランケット剤は、酸素含有量を低下させることによって、腐食を軽減させ、製品の生物分解と酸化を減少させ、侵入生物種を抑制し、火災と爆発を防止するために使用される。 - 特許庁

The electrolyte layer 4 is made of an organic electrolyte containing an oxidation reduction species (a redox pair) such as I^-/I_3^-, and gelled with a titanium oxide system fibrous matrix material having large specific surface area and high performance holding the electrolyte.例文帳に追加

電解質層4を、I^-/I_3^-などの酸化還元種(レドックス対)を含む有機電解液などで構成し、本発明の特徴として、比表面積が大きく、電解液を保持する性能が高い酸化チタン系繊維状マトリックス材によってゲル化する。 - 特許庁

The operation method of the actuator changes the shape by varying the volume of the compound by carrying the electric current to an external circuit bi using the inorgnatic compound for varying the volume by bonding or releasing the certain chemical species by the oxidation or reduction reaction.例文帳に追加

酸化或いは還元反応によって、ある化学種を結合或いは放出して体積を変動させる無機化合物を用い、外部回路に電流を流すことによって、該化合物の体積を変動させて、形状を変化させる、アクチエーターの動作方法。 - 特許庁

This oxidation-resistant composite material is provided with a base 4, a dense glass layer 8 formed on the surface layer side of the base 4 and capable of suppressing diffusion of corrosive species, and a porous glass layer 10 constituting at least a part of the surface of the dense glass layer 8.例文帳に追加

基体4と、当該基体4の表層側に形成され腐食種の拡散を抑制可能な緻密質ガラス層8と、この緻密質ガラス層8の表面の少なくとも一部を構成する多孔質ガラス層10と、を備える、耐酸化性複合材料とする。 - 特許庁

Cavitation is generated in the liquid by the irradiation of ultrasonic waves while the temperature of the object is retained at the target temperature by the cooling part, and an activated chemical species produced by the chemical action of the cavitation is loaded onto the object as an oxidation stress.例文帳に追加

そして、対象物の温度を冷却部によって目標温度に維持したまま、超音波の照射によって液体にキャビテーションを発生させ、キャビテーションによる化学作用によって生成した活性化学種を酸化ストレスとして対象物に負荷している。 - 特許庁

A first species of a pair constituting the oxidation-reduction system advantageously is composed of an electrochemically-active salt having a melting point below room temperature, and optionally dissolved in at least one electrochemically-inactive salt also having a melting point below room temperature.例文帳に追加

酸化還元系を構成する対の第1の種は、好ましくは室温より低い融点を有する電気化学的に活性な塩からなるものであって、少なくとも1種の室温より低い融点を有する電気化学的に不活性な塩中に溶解していてもよい。 - 特許庁

In the oxidation method whereby the surface of the workpieces W, on which at least the nitride film is exposed, is oxidized in a processing vessel 8 accommodating a plurality of the workpieces W concurrently, the nitride film is oxidized by mainly using hydroxyl active species and oxygen active species in a vacuum atmosphere under a process pressure of 133 Pa or below at a process temperature of 400°C.例文帳に追加

一度に複数枚の被処理体Wを収容できる処理容器8内にて、表面に少なくとも窒化膜が露出している被処理体の表面を酸化する酸化方法において、真空雰囲気下にて水酸基活性種と酸素活性種とを主体として用いると共に、プロセス圧力を133Pa以下に設定し、且つプロセス温度を400℃以上に設定して前記酸化を行なう。 - 特許庁

As the semiconductor layer 3, a porous layer in which particulates of titanium oxide TiO_2 are sintered is used, and as the electrolyte layer 5, an organic electrolytic solution containing oxidation reduction species (redox pair) such as I^-/I_3^- is used, and the counter electrode 6 made of a platinum layer 6b or the like is formed on the counter substrate 7.例文帳に追加

半導体層3としては、酸化チタンTiO_2の微粒子を焼結させた多孔質層を用い、電解質層5としては、I^-/I_3^-などの酸化還元種(レドックス対)を含む有機電解液を用い、白金層6bなどからなる対向電極6を対向基板7の上に形成する。 - 特許庁

例文

A porous layer obtained by sintering fine particles of titanium oxide TiO_2 is used as the semiconductor layer 3, an organic electrolyte containing an oxidation reduction species such as I^-/I_3^- is used as the electrolyte layer 4, and the counter electrode 5 laminated with a platinum layer or the like is installed on the counter substrate 6.例文帳に追加

半導体層3としては、酸化チタンTiO_2の微粒子を焼結させた多孔質層を用い、電解質層4としては、I^-/I_3^-などの酸化還元種(レドックス対)を含む有機電解液を用い、対向基板6の上には白金層などが積層された対向電極5を設ける。 - 特許庁




  
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