「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

When a solution is pressure-fed to the solution sump X from a solution feeding source 71, the solution is discharged to the circumference of a substrate G from the discharge hole 67 formed on the thin plate 66, and the unnecessary resist film R on the circumferential part is fused and removed.例文帳に追加

溶剤供給源７１から溶剤が溶剤溜部Ｘに圧送されると、薄板６６に形成された吐出孔６７から溶剤が基板Ｇ周縁部に吐出され、周縁部の不要なレジスト膜Ｒが溶解除去される。 - 特許庁

This method for applying the crystalline material to the substrate comprises a step to apply a cationic solution 210 and an anionic solution 230 and a step to crystallize at least a part of a reaction product of the solution 210 with the solution 230.例文帳に追加

基材に結晶性材料を適用する方法は、陽イオン溶液２１０と陰イオン溶液２３０とを適用し、前記陽イオン溶液と前記陰イオン溶液との反応生成物の少なくとも一部を結晶化させることからなる。 - 特許庁

ELECTROLESS NICKEL PLATING METHOD, CLEANING SOLUTION FOR ELECTROLESS NICKEL PLATING, TEXTURE TREATMENT SOLUTION FOR ELECTROLESS NICKEL PLATING, SENSITIZING SOLUTION FOR ELECTROLESS NICKEL PLATING, SURFACE ADJUSTMENT SOLUTION FOR ELECTROLESS NICKEL PLATING, GLASS SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

無電解ニッケルメッキ方法、無電解ニッケルメッキ用洗浄液、無電解ニッケルメッキ用テクスチャー処理液、無電解ニッケルメッキ用センシタイジング処理液、無電解ニッケルメッキ用表面調整処理液、液晶ディスプレイ用ガラス基板、及び、液晶ディスプレイ - 特許庁

To provide a cleaning solution for cleaning a semiconductor substrate with a metal film of tungsten or the like formed on its surface.例文帳に追加

表面にタングステン等の金属膜を有する半導体基板の洗浄液を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment device for achieving high discharge precision by smoothly discharging a treatment solution.例文帳に追加

処理液をスムーズに吐出して、高い吐出精度を実現する基板処理装置を提供する。 - 特許庁

By using the respective suction members, a prescribed amount of each fixed specimen solution is dispensed onto the substrate.例文帳に追加

各吸引部材により基板上にそれぞれの固定試料溶液を所定量で分注する。 - 特許庁

At step 3, the substrate G_i is temporarily stopped in a solution filling time in the first developer supply part.例文帳に追加

ステップ▲３▼で、基板Ｇ_ｉは第１現像液供給部で液盛り時間だけ一時停止する。 - 特許庁

The solution of the source material resin is cast onto another glass substrate 1b to form a thin film 2b.例文帳に追加

該原料樹脂の溶液を他のガラス基板１ｂ上に流延して薄膜２ｂを形成する。 - 特許庁

In a coating step, a polyurethane resin solution 45 is applied to a substrate 43 by a knife coater 46.例文帳に追加

塗布工程では、ポリウレタン樹脂溶液４５がナイフコータ４６により基材４３に塗布される。 - 特許庁

The spacer 3 adjusts supply of a polishing solution 61 to an outer periphery of the substrate 2.例文帳に追加

また、スペーサー３は、半導体基板２の外周部への研磨液６１の供給を調整する。 - 特許庁

COATING SOLUTION FOR FORMING FLAT-SURFACE INSULATING FILM, AND SUBSTRATE COATED WITH FLAT-SURFACE INSULATING FILM例文帳に追加

表面平坦性絶縁膜形成用塗布溶液及び表面平坦性絶縁膜被覆基材 - 特許庁

The polysilane is dried by blowing nitrogen gas to the substrate and the polysilane solution.例文帳に追加

基板及びポリシラン溶液に対して窒素ガスを吹きつけることによりポリシランを乾燥させる。 - 特許庁

After the coating film liquid layer 131 is formed, a substrate 101 is pulled up from the aqueous hydrofluoric acid solution 130.例文帳に追加

この状態で、緩衝フッ酸水溶液１３０の中より基板１０１を引き上げる。 - 特許庁

To form a resist film without coating defects by supplying the resist solution stably onto a substrate.例文帳に追加

レジスト溶液を基板上へ安定して供給し、塗布不良のないレジスト膜を形成する。 - 特許庁

ABRASIVE, SUBSTRATE POLISHING METHOD USING SAME, AND SOLUTION AND SLURRY FOR USE IN THIS METHOD例文帳に追加

研磨剤、これを用いた基板の研磨方法並びにこの研磨方法に用いる溶液及びスラリー - 特許庁

SOLUTION JETTING MANUFACTURING DEVICE, PATTERNED WIRING BOARD MANUFACTURED WITH IT, AND DEVICE SUBSTRATE例文帳に追加

溶液噴射製造装置、およびそれにより製造されるパターン配線基板、ならびにデバイス基板 - 特許庁

The substrate 1 with the closely-contacted resist 11 is cleaned with a hydrogen fluoride aqueous solution.例文帳に追加

そして、レジスト１１が密着した半導体基板１をフッ化水素水溶液で洗浄する。 - 特許庁

A detection electrode 17 is held between a substrate 22 and the electrolyte solution retention body 25 for arranging.例文帳に追加

検知電極１７を基体２２と電解質溶液保持体２５とで挟み込むように配置する。 - 特許庁

To provide a concentrated developing solution which reduces or prevents production of residue and scum on a substrate.例文帳に追加

基体上の残渣およびスカム生成を削減または防止する濃縮現像液の提供。 - 特許庁

Next, the solution is deposited on a bipolar substrate by an arbitrary suitable low-cost process.例文帳に追加

この溶液を次いで任意の適切な低コストプロセスにより双極板基板上に堆積させる。 - 特許庁

The mold is contacted with a substrate 11 and is immersed in a hydrofluoric acid or nitrohydrofluoric acid solution for a prescribed time.例文帳に追加

型を基材１１と接触させ、フッ酸又はフッ硝酸溶液に所定時間浸漬させる。 - 特許庁

A die 130 supplies an organic solution on the glass substrate 1 heated at a prescribed temperature.例文帳に追加

ダイ１３０は、所定温度に加熱されたガラス基板１上に有機溶液を供給する。 - 特許庁

The metal oxide thin film is obtained by applying the precursor solution onto a substrate, drying and heat treating.例文帳に追加

該前駆体溶液を、基体上に、付着、乾燥、熱処理させて金属酸化物薄膜を得る。 - 特許庁

An antimony compound layer 9 is formed on the substrate 7, by drying the antimony solution L.例文帳に追加

アンチモン溶液Ｌを乾燥させることにより基板７上にアンチモン化合物層９を形成する。 - 特許庁

Then the silicon substrate 200 is immersed in a mixed solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride to removed the oxide films 202 and 203.例文帳に追加

次に、フッ酸／フッ化アンモニウム混合液に浸けて酸化膜２０２および２０３を除去する。 - 特許庁

The processing solution tank 1 contains a support member 3 which supports the substrate 4 including the surface to be processed.例文帳に追加

処理液槽１は被処理面を含む基板４を保持する保持部材３を内部に有する。 - 特許庁

The polyfluorene is dried by blowing nitrogen gas to the substrate and the polyfluorene solution.例文帳に追加

基板及びポリフルオレン溶液に対して窒素ガスを吹きつけることによりポリフルオレンを乾燥させる。 - 特許庁

DEVICE FOR PRINTING BIOMOLECULE SOLUTION ON SUBSTRATE UTILIZING ELECTROHYDRODYNAMIC PHENOMENON例文帳に追加

電気流体力学的な現象を利用して基板上に生体分子溶液をプリンティングする装置 - 特許庁

Through the mask, organic compound content solution is applied on the pixel substrate by a spray coating method.例文帳に追加

このマスクを介して画素基板上に、スプレーコート法によって有機化合物含有液を塗布する。 - 特許庁

Therefore, resist solution can be applied in uniform thickness all over the glass substrate G.例文帳に追加

従ってレジスト液膜厚をガラス基盤Ｇ上全体に亘って均一にして塗布すことができる。 - 特許庁

COATING SOLUTION FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND SUBSTRATE WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE COAT, AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加

透明導電性被膜形成用塗布液、および透明導電性被膜付基材、表示装置 - 特許庁

SOLUTION EJECTION PRODUCTION APPARATUS, AND PATTERN WIRING BOARD TO BE PRODUCED BY SAME, AS WELL AS DEVICE SUBSTRATE例文帳に追加

溶液噴射製造装置、およびそれにより製造されるパターン配線基板、ならびにデバイス基板 - 特許庁

The inkjet recording sheet is obtained by coating a substrate with this coating solution.例文帳に追加

また、該水性インク受容層形成用塗工液が支持体に塗工されたインクジェット記録シートである。 - 特許庁

The processing device for processing a substrate with processing solution comprises a chamber for processing the substrate with processing solution, and a Peltier element 13 for making the temperature of the substrate which is carried-in to be processed into the chamber lower than the temperature in the chamber.例文帳に追加

基板を処理液によって処理する処理装置であって、 基板を処理液によって処理するチャンバと、チャンバ内に搬入されて処理される基板の温度を、上記チャンバ内の温度よりも低くするペルチェ素子１３を具備する。 - 特許庁

In the method for depositing a silicon dioxide film on the surface of a substrate by bringing a substrate into contact with a treating solution containing hydrosilicofluoric acid, a substrate deposited with a silicon dioxide film is brought into contact with an aqueous solution containing calcium salt.例文帳に追加

珪弗化水素酸を含む処理液に基板を接触させて該基板表面に二酸化珪素被膜を形成する方法において、二酸化珪素被膜が形成された基板をカルシウム塩を含む水溶液と接触させる。 - 特許庁

In a more preferable embodiment, the dendrimer solution is dropped onto the substrate arranged perpendicularly on a solvent absorber and is developed on the substrate and immediately thereafter, inert gas is blown to the substrate, by which the solution is evaporated.例文帳に追加

特に好ましい態様として、溶媒吸収体上に垂直に配置された基板上にデンドリマー溶液を垂らして基板上に展開した後、直ちに不活性ガスを基板に吹きかけることにより溶媒を蒸発させる。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus capable of effectively achieving the uniformization of treatment on the whole surface of a substrate by preventing the stagnation of the treatment solution discharged to the surface of the substrate.例文帳に追加

基板表面上に吐出された処理液の滞留を防止し基板全面における処理の均一化を有効に達成できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The etching method comprises a step for rotating the substrate 122 on the rotatable substrate support member, and a step for feeding the etching solution to a periphery 126 of the substrate.例文帳に追加

本方法は、回転可能な基板支持体上に位置決めされた基板１２２を回転させるステップと、エッチング液を基板の周縁部分１２６に送給するステップとを含む。 - 特許庁

To suppress the adhesion of dust to a substrate, and to prevent the leakage of the mist of treatment solution to the outside of the device in treating a substrate while rotating the substrate at a high speed.例文帳に追加

基板を高速で回転させながら基板の処理を行う際、塵埃が基板に付着するのを抑制し、かつ処理液のミストが装置の外へ漏れるのを防止する。 - 特許庁

A ZnO-based crystal layer having grown on a substrate of a sapphire (Al_2O_3) single crystal has a solid solution layer formed by solidly solving aluminum (Al) of the substrate in an interface with the substrate.例文帳に追加

サファイア（Ａｌ_2Ｏ_3）単結晶の基板上に成長したＺｎＯ系結晶層は、基板との界面に基板のアルミニウム（Ａｌ）が固溶された固溶層を有している。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which is capable of shortening a tact time when a substrate is subjected to a drying process after the substrate is processed with a processing solution.例文帳に追加

この発明は基板を処理液で処理してから乾燥処理する際のタクトタイムの短縮化を図ることができる基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

While rotating the glass substrate 12 around a predetermined axis in the thickness direction of the glass substrate 12, a coating solution 38 is dropped on the surface of the glass substrate 12.例文帳に追加

ガラス基板１２のその厚さ方向を軸方向とした所定の軸周りにガラス基板１２を回転させながらコーティング液３８をガラス基板１２の表面上に垂らす。 - 特許庁

Microorganisms are adhered to the substrate 31 by dipping the substrate 31 into a solution of the microorganisms and reducing the pressure inside of the cavities in the substrate.例文帳に追加

該担体を微生物溶液に浸けて、該担体内部の空洞内部を減圧にすることで微生物を該担体に付着させることを特徴とする微生物付着の方法。 - 特許庁

The oxidation resistant and corrosion resistant metal substrate (1) is a substrate produced by forming a dense titania layer (5) on the surface of a metal substrate by applying a titanium peroxide solution or its sol.例文帳に追加

（１）金属基板表面に過酸化チタン溶液またはそのゾル状物をコーティングして緻密なチタニア層を形成した耐酸化性耐腐食性金属基板。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes first and second discharge solution lines 42b and 44b each branched and connected to the downstream side of a discharge unit 40, and the discharged solution from each of the first and second discharge solution lines 42b and 44b is independently delivered to a processing solution supply unit 30 as a recovered solution.例文帳に追加

排出部４０の下流側には第１の排液ライン４２ｂおよび第２の排液ライン４４ｂが分岐して接続され、第１の排液ライン４２ｂおよび第２の排液ライン４４ｂからそれぞれ処理液供給部３０に排液が回収液として互いに独立して送られる。 - 特許庁