「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

During a process, a flow of pigment solution is formed in a gap between a substrate G and solution guide surfaces 92L and 92R of a nozzle 20, and a porous semiconductor layer on the surface of substrate is subjected to a pigment adsorption treatment in the flow of pigment solution.例文帳に追加

処理中に、ノズル２０の溶液案内面９２Ｌ，９２Ｒと基板Ｇとの間のギャップの中で色素溶液の流れが形成され、基板被処理面の多孔質半導体層はそのような色素溶液の流れの中で色素吸着処理を受ける。 - 特許庁

To provide a liquid phase-growing apparatus and a liquid phase- growing method which can prevent a crack by thermal expansion of a substrate and control film-growing on the back of the substrate, immerse the substrate in a solution while holding the substrate surely in a standing posture.例文帳に追加

基板を起立姿勢で確実に保持して溶液に浸漬し、基板の熱膨張による割れを防止でき、基板裏面の膜成長を抑制できる液相成長装置、および液相成長方法を提供する。 - 特許庁

After a predetermined time has elapsed since a substrate 100 has been soaked in a plating solution, the master 200 is peeled from the substrate 100, thereby forming a conductive layer 103 patterned on the substrate 100.例文帳に追加

基板１００をメッキ液に浸して一定時間経過した後、基板１００から原盤２００を剥がすことにより、基板１００上にパターニングされた導電層１０３が形成される。 - 特許庁

After cleaning the surface of the silicon substrate 1, the silicon substrate 1 is dipped in an HF aqueous solution of a 0.5 vol% concentration to remove impurities and natural oxide films from the surface of the silicon substrate 1.例文帳に追加

シリコン基板１の表面を洗浄した後、濃度０．５体積％のＨＦ水溶液に５分間浸漬し、シリコン基板１上の不純物及び自然酸化膜を除去する。 - 特許庁

To reliably remove a cleaning solution at a part where a substrate is made in contact with a holding member for holding the substrate in a substrate drying method and a method of manufacturing a magnetic recording medium.例文帳に追加

基板乾燥方法及び磁気記録媒体の製造方法において、基板と基板を保持する保持部材とが接触する部分の洗浄液を確実に除去することを目的とする。 - 特許庁

To provide a small-sized rotary substrate treating device which can prevent the re-adhesion of a treating solution to a substrate, while the running cost required for the treatment of the substrate is suppressed to a low value.例文帳に追加

小型で、しかも基板処理に要するランニングコストを低く抑えながら、基板への処理液の再付着を防止することができる回転式基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate lifter which can prevent the flow of a treating solution to both surfaces of the substrate held by the ends of substrate holding members in the longitudinal direction from becoming nonuniform at the time of treating the substrates.例文帳に追加

基板処理に際し、基板保持部材の長手方向の端に保持された基板の両面に対する処理液の流れが不均一になることを防止できる基板リフターを提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for a concentration measurement, wherein the concentration of a treatment solution for a substrate is measured precisely, and the substrate is treated with satisfactory accuracy over a long time, and to provide a substrate treatment apparatus.例文帳に追加

基板の処理液の濃度を正確に測定して、基板処理を長時間にわたって精度良く行う濃度測定方法及びその装置並びに基板処理装置を提供する。 - 特許庁

This glass substrate for magnetic disk is obtained by applying solution including compound including zirconium on a surface of the glass substrate, performing heat processing of the applied glass substrate, and forming a layer including zirconium.例文帳に追加

上記磁気ディスク用ガラス基板は、ジルコニウム含有化合物を含む溶液をガラス基板表面に塗布し、塗布されたガラス基板を熱処理して、ジルコニウム含有層を有することにより得る。 - 特許庁

A substrate surface is treated with plasma ions, a conductive polymer solution is applied to the substrate surface subjected to the plasma ion treatment to form a conductive polymer thick film on the substrate.例文帳に追加

基板表面をプラズマイオンで処理し、前記プラズマイオン処理された基板面上に導電性高分子溶液を塗布し、前記基板上に導電性高分子厚膜を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate washing apparatus capable of cleanly washing a substrate by preventing particles or foreign matter from fixedly adhering to a substrate while reducing the use amount of a washing solution.例文帳に追加

洗浄液の使用量を低減させながら、パーティクルや異物が基板に固着することを防止して、清浄に基板を洗浄することが可能な基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁

A temperature adjustment solution supplying step is conducted to form a film of the temperature adjustment solution on the upper surface of a substrate W by supplying the temperature adjustment solution to the upper surface of the substrate W and a thermal exchange step is also conducted for thermal exchange between the substrate W and the film of the temperature adjustment solution.例文帳に追加

基板Ｗの上面に温調用液体を供給し，基板Ｗの上面に温調用液体の液膜を形成する温調用液体供給工程を行い，基板Ｗの上面に温調用液体の液膜が形成された状態を維持し，基板Ｗと温調用液体の液膜との間で熱交換を行わせる熱交換工程を行った。 - 特許庁

To shorten a processing cycle time of a processing operation of supplying and applying a processing solution on a substrate to be processed in a spinless system, and form an applied film of the processing solution on the substrate with a uniform thickness without uneven application.例文帳に追加

スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する処理動作のタクトタイムを短縮するとともに、被処理基板上に処理液の塗布膜を塗布ムラのない均一な膜厚で形成すること。 - 特許庁

Droplets of a solution containing a functional material are sprayed on a flexible substrate, a volatile component in the solution is volatilized and a slid component is remained on the substrate, thus a group of functional elements are formed.例文帳に追加

可撓性基板上に機能性材料を含有する溶液の液滴を噴射付与し、該溶液中の揮発成分を揮発させ、固形分を前記基板上に残留させることによって、機能性素子群を形成する。 - 特許庁

A slit for spouting a temperature regulating solution against the rear surface of the glass substrate W is provided to the top surface of the temperature regulating solution spouting nozzle 4, and the length of the slit is set nearly equal to the width of the glass substrate W.例文帳に追加

温調液体噴出ノズル４の上面にはガラス基板Ｗの裏面に向けて温調液体を噴出するスリットが形成され、このスリットの長さはガラス基板Ｗの幅と略等しく設定されている。 - 特許庁

A boat 24, on which a semiconductor substrate 35 and a solution 42 are mounted, rotates on its own axis and is revolved according to the rotation of a rotation box 25, thereby the solution 42 and the semiconductor substrate 35 are uniformly and continuously moved in the horizontal direction.例文帳に追加

ボート２４は、半導体基板３５および溶液４２を搭載して回転箱２５の回転に伴って自公転し、溶液４２および半導体基板３５を水平方向に万遍なく連続的に移動させる。 - 特許庁

The typical cleaning method of a glass substrate for a magnetic disk is characterized in that the glass substrate 3 is cleaned by using an acid solution and then cleaned by using a carbon dioxide gas solution 2.例文帳に追加

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の洗浄方法の代表的な構成は、ガラス基板３を、酸性溶液を用いて洗浄した後に、さらに炭酸ガス溶液２で洗浄することを特徴とする。 - 特許庁

Solution containing the raw material of the crystallization film is supplied onto the substrate 10, and heat treatment for crystallizing a paint film 11 in the solution supplied onto the substrate is made for growing a crystal 13s as the crystallization film.例文帳に追加

結晶化膜の原料を含有する溶液を基板１０上に供給し、基板上に供給された溶液の塗膜１１を結晶化する熱処理を行って結晶１３ｓを成長させ、結晶化膜とする。 - 特許庁

A tin compound solution is applied onto the surface of a carrier substrate material 1, the applied solution is dried, the dried tin compound is oxidized, the oxidized tin compound is fired to form an intermediate catalyst body having a tin oxide layer 2 formed on the substrate 1.例文帳に追加

担持基板材料１上にスズ化合物溶液を基板表面に塗布して乾燥させた後、酸化処理により焼成して基板１上に酸化スズ層２を形成した中間触媒体を形成する。 - 特許庁

To constitute an apparatus for rotary coating which can form a coating film of a uniform thickness without the adhesion of a coating solution to the back of a substrate even when the noncircular substrate is used by using a non-Newtonian fluid as the coating solution.例文帳に追加

塗布液として非ニュートン流体を用い、非円形の基板を用いた場合であっても基板裏面への塗布液の回り込みがなく、均一な膜厚の塗膜を形成しうる回転塗布装置を構成する。 - 特許庁

The high dielectric thin film is formed by applying a sol-gel solution which is prepared by hydrolyzing a solution containing zirconium alkoxide and titanium alkoxide to a substrate and firing the resultant substrate preferably at 350 to 700°C.例文帳に追加

上記高誘電体薄膜は、ジルコニウムアルコキシドとチタンアルコキシドを含む溶液を加水分解したゾル−ゲル液を、基板上に塗布し、好ましくは３５０〜７００℃の温度範囲内で焼成することによって形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a solar battery cell, which suppresses an aqueous phosphoric acid solution from being repelled from the surface of a semiconductor substrate, to allow the aqueous phosphoric acid solution to be coated on the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

リン酸水溶液が半導体基板の表面上で弾かれるのを抑止してリン酸水溶液を半導体基板の表面上に塗布することができる太陽電池セルの製造方法を提供する。 - 特許庁

A nozzle 109 disposed above an object substrate to be treated in substrate treatment includes a chemical solution supply part 130 connected thereto for supplying a chemical solution 104 to a nozzle 109 via a supply piping 110.例文帳に追加

基板処理時に処理対象基板の上方に配置されるノズル１０９には、供給配管１１０を介して薬液１０４をノズル１０９へ供給する薬液供給部１３０が接続されている。 - 特許庁

This coating solution for forming the flat-surface insulating film is a coating solution containing metal alkoxide, poly dimethyl siloxane, and an organic solvent, and a C-F bond in =CF_2 exists in this solution, and the substrate coated with the flat-surface insulating film uses this solution.例文帳に追加

金属アルコキシド、ポリジメチルシロキサン、有機溶媒を含む塗布溶液であって、該塗布溶液中に>CF_2におけるC-F結合が存在することを特徴とする表面平坦性絶縁膜形成用塗布溶液、及び、これを用いた表面平坦性絶縁膜被覆基材である。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which comprises a solution processor in its lower part and a dry processor provided on the solution processor, which can be opened or closed by a shutter provided between the solution processor and the dry processor, and which can reduce remaining solution on the shutter.例文帳に追加

下部に液処理部を備え、その上に乾燥処理部を備え、前記液処理部と前記乾燥処理部との間がシャッタにより開閉自在である基板処理装置において、そのシャッタ上の液残りを減少させる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the protective film 35 includes a process of spraying carbon nanotubes or making crystal growth on a substrate and applying a metal oxide solution onto it, a process of dispersing the carbon nanotubes into the metal oxide solution and applying the solution wherein the carbon nanotubes are dispersed onto the substrate, a process of applying the metal oxide solution onto the substrate and dispersing the carbon nanotubes on it, and a process of calcining the solution.例文帳に追加

保護膜３５の製造方法は、基板上にカーボンナノチューブを散布または結晶成長させ、その上に金属酸化物溶液を塗布する工程と、または、金属酸化物溶液中にカーボンナノチューブを分散し、カーボンナノチューブが分散された溶液を基板上に塗布する工程と、または、金属酸化物溶液を基板上に塗布し、その上にカーボンナノチューブを散布させる工程と、溶液を焼成する工程と、を備える。 - 特許庁

The cleaning chamber 31 communicates with cleaning solution supplying paths 32a, 32b to supply a cleaning solution and the cleaning solution is supplied from the upper and lower portions of the end face of the substrate W accommodated within the cleaning chamber 31.例文帳に追加

洗浄室３１には洗浄液を供給する洗浄液供給路３２ａ，３２ｂが連通しており、洗浄室３１内に収容された基板Ｗの端面の上部と下部から洗浄液を供給する。 - 特許庁

A solution layer L1 is formed by depositing a material solution (antimony solution L) containing an antimony compound constituted of only hydrogen, nitrogen, oxygen and carbon together with antimony, onto a semiconductor layer 5 for covering a surface of a substrate 7.例文帳に追加

アンチモンと共に、水素、窒素、酸素、炭素のみで構成されたアンチモン化合物を含有する材料溶液（アンチモン溶液Ｌ）を基板７の表面を覆う半導体層５に付着させて溶液層Ｌ１を形成する。 - 特許庁

After heating the surface of a substrate 10 in a hydrogen-containing atmosphere, the surface is immersed into an oxidizing solution 22, or the solution 22 is sprayed over the surface, or the surface is exposed to the vapor of the solution 22.例文帳に追加

水素を含む雰囲気中で基板１０の表面を加熱した後、その表面を酸化性溶液２２中に浸漬し、または酸化性溶液を噴霧し、あるいは酸化性溶液の蒸気に曝す工程を有する。 - 特許庁

Also, after the HSG treatment, a substrate is dipped into a washing liquid that is selected from among the group consisting of pure water, mixed solution of sulfuric and hydrogen peroxide, mixed solution of hydrochloric acid and hydrogen peroxide, and mixed solution of hydrofluoric acid and hydrogen peroxide, and then the capacitor insulation film is formed.例文帳に追加

又は、ＨＳＧ処理後、基板を、純水、硫酸過水、塩酸過水及び弗酸過水からなる群から選択された洗浄液中に浸漬して洗浄した後、容量絶縁膜を形成する。 - 特許庁

A film of the biodegradable biopolymer material is formed by coating a substrate with a mixture of an aqueous solution of a silk fibroin derived from domesticated silkworm or wild silkworm and an aqueous solution of the 2nd substance and solidifying the applied solution by evaporation to dryness.例文帳に追加

家蚕または野蚕由来絹フィブロイン水溶液と第二物質水溶液との混合水溶液を基板上に塗布し、蒸発乾燥固化せしめて、膜状の生分解性生体高分子材料を製造する。 - 特許庁

The solution for substrate spotting and the spotting method are formed by mixing a solution containing the bio-related substances or the chemical substances to be spotted with a solution to which inorganic fine powder is added as a surface tension regulating agent.例文帳に追加

スポットされる生体関連物質又は化学物質を含有する溶液と、表面張力調整剤として無機微粉末を添加した溶液を混合して成る基盤スポット用溶液、及びスポット方法。 - 特許庁

To form a liquid film of a uniform treatment solution when liquid treatment is performed by scanning a supply nozzle in which discharge holes for the treatment solution are arranged extending over the length that corresponds to the width in an effective area of a substrate and suppress the generation of a micro bubble when the treatment solution is supplied.例文帳に追加

基板の有効領域の幅に対応する長さに亘って処理液の吐出孔が配列された供給ノズルをスキャンして液処理を行う際に、均一な処理液の液膜を形成すること。 - 特許庁

The electropolishing is preferably carried out using an acidic electrolytic solution prepared by adding a surfactant to an electrolytic solution in such a way that the contact angle of the electrolytic solution to the substrate to be electropolished is adjusted to ≤45°.例文帳に追加

好ましくは、電解研磨処理を、電解液に界面活性剤などを添加することにより、処理すべき基板に対する電解液の接触角が４５°以下となるよう調製した酸性電解液を使用して行う。 - 特許庁

The developing solution discharging nozzle 30 is provided with a slit whose discharging width is bigger than the diameter of the substrate W, while the width of the treatment solution discharged out of the slit is changed in accordance with the flow rate of the developing solution supplied to the slit.例文帳に追加

現像液吐出ノズル３０は基板Ｗの直径以上の吐出幅のスリットを有し、そのスリットに供給される現像液の流量に応じて該スリットから吐出される処理液の幅が変化する。 - 特許庁

The applying apparatus for solution, by which the solution is supplied and applied to a substrate, is provided with: the applying head 22 having the nozzle for discharging the solution; a piezoelectric device provided on the coating head and worked by applying voltage to the device to discharge the solution from the nozzle; and a measuring device 41 for detecting the length of the solution discharged from the nozzle.例文帳に追加

基板に溶液を供給塗布する溶液の塗布装置であって、 溶液を吐出するノズルを有する塗布ヘッド２２と、塗布ヘッドに設けられ電圧が印加されることで作動してノズルから上記溶液を吐出させる圧電素子と、ノズルから吐出された溶液の長さを検出する測定装置４１とを具備する。 - 特許庁

COATING SOLUTION FOR FORMING FLAT-SURFACE INSULATION FILM, SUBSTRATE COATED WITH FLAT-SURFACE INSULATION FILM, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE COATED WITH FLAT-SURFACE INSULATION FILM例文帳に追加

表面平坦性絶縁膜形成用塗布溶液、表面平坦性絶縁膜被覆基材、及び表面平坦性絶縁膜被覆基材の製造方法 - 特許庁

A metal colloid solution 14 is coated on a substrate 10 by an inkjet method to form a pattern of a conductive metal portion 16 of an electronic circuit substrate.例文帳に追加

基材１０上に金属コロイド溶液１４をインクジェット方式により塗布して、電子回路基板の導電性金属部１６のパターンを形成する。 - 特許庁

The substrate is formed by applying a voltage upon a metallic substrate, while being submerged in a solution, in order to start forming an anode on an oxide film.例文帳に追加

基板は、酸化膜のアノード形成を開始させるために溶液中にある間に金属基板に電圧を印加することによって形成される。 - 特許庁

At the time of pulling up the substrate 101 from the solution 130, the coating film liquid of the coating film liquid layer 131 adheres to the surface of the substrate 101.例文帳に追加

基板１０１を緩衝フッ酸水溶液１３０より引き上げるとき、皮膜液層１３１の被膜液が基板１０１の表面に付着する。 - 特許庁

To provide a seal member which actualizes complete sealing for preventing a plating solution from reaching the back surface of a substrate in the plating of the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面にめっきを施す際の、めっき液の基板裏面への周りこみを防ぐためにより完全なシールを図ったシール部材を提供する。 - 特許庁

An SiC substrate 8 is arranged in potassium hydroxide solution 2 containing hydrogen peroxide, and ultraviolet light is irradiated on the surface of the SiC substrate 8.例文帳に追加

過酸化水素水を含んだ水酸化カリウム溶液２中にＳｉＣ基板８を配置し、ＳｉＣ基板８の表面に紫外光を照射する。 - 特許庁

To prevent a substrate from being dissolved even if it is the substrate which includes a portion such that a CBD film forming device is dissolved into a CBD solution.例文帳に追加

ＣＢＤ成膜装置を、ＣＢＤ溶液に溶解してしまうような部分を含む基板であっても基板を溶解させることがないものとする。 - 特許庁

The metal polishing composition comprises a water solution that contains a Schiff base, and is used for polishing and flattening a metal film on a substrate in a substrate manufacturing process.例文帳に追加

シッフベースを含有する水溶液からなる金属研磨組成物を用い、基板上の金属膜を研磨し平坦化することにより、基板を製造する。 - 特許庁

The bulkheads 30 are connected at a predetermined interval between the positive electrode-side substrate 2 and negative electrode-side substrate 3 for partitioning the electrolyte solution 4 into many cells.例文帳に追加

隔壁３０は、正極側基板２と負極側基板３との間を所定間隔を隔てて接続し、前記電解液４を複数のセルに仕切る。 - 特許庁