「substrate solution」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

STABILIZED CHOLINESTERASE SUBSTRATE SOLUTION例文帳に追加

安定化コリンエステラーゼ基質溶液 - 特許庁

POLISHING SOLUTION COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板用研磨液組成物 - 特許庁

POLISHING SOLUTION AND SUBSTRATE POLISHING METHOD USING POLISHING SOLUTION例文帳に追加

研磨液及びこの研磨液を用いた基板の研磨方法 - 特許庁

CLEANING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR DEVICE SUBSTRATE例文帳に追加

半導体デバイス用基板の洗浄液 - 特許庁

COMPOSITION OF POLISHING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板用研磨液組成物 - 特許庁

SUBSTRATE CLEANING METHOD AND CLEANING SOLUTION例文帳に追加

基板洗浄方法および洗浄溶液 - 特許庁

This solution and a powdery substrate are mixed.例文帳に追加

溶液および粉末基質を混合する。 - 特許庁

SUBSTRATE CLEANING METHOD AND SOLUTION例文帳に追加

基板洗浄方法および基板洗浄液 - 特許庁

CLEANING SOLUTION FOR SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体デバイス用基板用の洗浄液 - 特許庁

ALKALINE AQUEOUS SOLUTION COMPOSITION FOR SUBSTRATE PROCESSING例文帳に追加

基板処理用アルカリ性水溶液組成物 - 特許庁

SLURRY AND POLISHING SOLUTION SET, SUBSTRATE, SUBSTRATE POLISHING METHOD USING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SOLUTION (CMP) OBTAINED FROM THE POLISHING SOLUTION SET例文帳に追加

スラリ及び研磨液セット並びにこれらから得られるＣＭＰ研磨液を用いた基板の研磨方法及び基板 - 特許庁

COLOR FILTER SUBSTRATE AND PROTECTIVE LAYER FORMING SOLUTION例文帳に追加

カラーフィルター基板および保護層形成溶液 - 特許庁

METHOD FOR TREATING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH SOLUTION例文帳に追加

溶液による半導体基板の処理方法 - 特許庁

WASHING SOLUTION AND WASHING OF GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

ガラス基板の洗浄液及び洗浄方法 - 特許庁

SOLUTION JETTING MANUFACTURING DEVICE, SOLUTION THEREFOR AND SUBSTRATE TO BE MANUFACTURED例文帳に追加

溶液噴射製造装置及びその溶液ならびに製作される基板 - 特許庁

Before the substrate is immersed into the conducting solution or after the substrate is immersed in the conducting solution or before and after the immersion into the conducting solution, the substrate is immersed into a sensitizing solution.例文帳に追加

基体を導電化溶液に浸漬する前、もしくは導電化溶液に浸漬した後、または導電化溶液への浸漬の前後に、感受性化溶液に基体を浸漬する。 - 特許庁

POLISHING SOLUTION FOR METAL AND METHOD OF POLISHING SUBSTRATE例文帳に追加

金属用研磨液及び基板の研磨方法 - 特許庁

GALLIUM NITRIDE-BASED SOLID SOLUTION THIN-FILM METAL SUBSTRATE, GALLIUM NITRIDE-BASED SOLID SOLUTION THIN-FILM SUBSTRATE, AND PRODUCTION METHOD THEREOF例文帳に追加

窒化ガリウム系固溶体薄膜金属基板、同固溶体薄膜基板、及びその製造方法 - 特許庁

ADDITIVE FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE ABRASIVE SOLUTION COMPOSITION例文帳に追加

半導体基板研磨液組成物用添加剤 - 特許庁

POLISHING SOLUTION COMPOSITION FOR SAPPHIRE SUBSTRATE AND METHOD OF POLISHING SAPPHIRE SUBSTRATE例文帳に追加

サファイア基板用研磨液組成物、及びサファイア基板の研磨方法 - 特許庁

POLISHING SOLUTION FOR CMP AND POLISHING METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加

ＣＭＰ用研磨液及び基板の研磨方法 - 特許庁

When the substrate 10 is pulled up from the impregnated solution 12, the same solution as the dipped solution 12 is supplied to the surface of the substrate so that the solution film is formed on the entire surface of the substrate.例文帳に追加

基板１０を浸漬した液１２から引上げる際に、浸漬した液１２と同一の液をその液膜が基板表面全体に形成されるように基板表面に供給する。 - 特許庁

A substrate is treated with a film removing solution while the substrate or the film removing solution is swiftly oscillated.例文帳に追加

基体又は皮膜除去溶液を迅速に揺動しながら、基体を皮膜除去溶液で処理する。 - 特許庁

CLEANING SOLUTION AND CLEANING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板用洗浄液及び洗浄方法 - 特許庁

CLEANING OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND CLEANING SOLUTION THEREOF例文帳に追加

半導体基板の洗浄方法及び洗浄液 - 特許庁

POLYIMIDE RESIN PRECURSOR SOLUTION, SUBSTRATE FOR ELECTRONIC PART USING THE SOLUTION AND METHOD FOR PRODUCING THE SUBSTRATE例文帳に追加

ポリイミド樹脂前駆体溶液、その溶液を用いた電子部品用基材、およびその基材の製造方法 - 特許庁

The aqueous solution is produced by mixing a luminescent substrate solution obtained by dissolving a luminescent substrate of luciferase in an organic solvent with an aqueous solution containing an organic solvent.例文帳に追加

ルシフェラーゼの発光基質を有機溶媒に溶解した発光基質溶液と、有機溶媒を含有する水溶液とを混合する。 - 特許庁

SOLUTION AND METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板の洗浄液及びその洗浄方法 - 特許庁

DESMEAR SOLUTION FOR FLUORORESIN SUBSTRATE AND DESMEAR PROCESSING METHOD FOR FLUORORESIN SUBSTRATE例文帳に追加

フッ素樹脂基板用デスミア液及びフッ素樹脂基板のデスミア処理方法 - 特許庁

AQUEOUS SOLUTION AND ORGANIC SOLUTION CONTAINING ELECTROCONDUCTIVE POLYMER, AND SUBSTRATE COMPRISING ELECTROCONDUCTIVE POLYMER PRODUCED FROM AQUEOUS SOLUTION AND ORGANIC SOLUTION例文帳に追加

導電性重合体を含む水溶液及び有機溶液並びに当該溶液から得られた導電性重合体を含む支持体 - 特許庁

Then, the transparent substrate 11 is immersed into an acidic solution.例文帳に追加

そののち、透明基板１１を、酸性溶液に浸す。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR COATING SOLUTION ONTO SUBSTRATE例文帳に追加

基板上に溶液を被覆するための方法および装置 - 特許庁

CMP SOLUTION FOR TUNGSTEN AND METHOD OF POLISHING SUBSTRATE例文帳に追加

タングステン用ＣＭＰ研磨液および基板の研磨方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE CLEANING SOLUTION AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE CLEANING METHOD USING SAME例文帳に追加

半導体基板洗浄液及びそれを用いた半導体基板洗浄方法 - 特許庁

SOLUTION JET TYPE MANUFACTURING APPARATUS, FINE PARTICLE-CONTAINING SOLUTION, PATTERN WIRING BOARD AND DEVICE SUBSTRATE例文帳に追加

溶液噴射型製造装置、微粒子含有溶液、パターン配線基板及びデバイス基板 - 特許庁

At step 5, the substrate G_i is temporarily stopped in a solution drain-off time in the solution drain-off/rinse part.例文帳に追加

ステップ▲５▼で、基板Ｇ_ｉは液切り／リンス部で液切り時間だけ一時停止する。 - 特許庁

METHOD OF TREATING WASHING AQUEOUS SOLUTION AND METHOD OF WASHING METAL SUBSTRATE USING THE AQUEOUS SOLUTION例文帳に追加

洗浄用水溶液の処理方法と該水溶液を用いた金属基板の洗浄方法 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING CRYSTAL SUBSTRATE USING CONDUCTIVE SOLUTION例文帳に追加

導電性溶液を用いた水晶基板のクリーニング方法 - 特許庁

The obtained solution is then ink jet-printed on the substrate.例文帳に追加

次に、得られた溶液を基板上にインクジェット印刷する。 - 特許庁

POLISHING SOLUTION FOR CMP, METHOD OF POLISHING SUBSTRATE AND ELECTRONIC COMPONENTS例文帳に追加

ＣＭＰ用研磨液、基板の研磨方法及び電子部品 - 特許庁

ONE SET OF POLISHING SOLUTION FOR CMP AND METHOD FOR POLISHING SUBSTRATE例文帳に追加

一揃いのＣＭＰ用研磨液及び基体の研磨方法 - 特許庁

Thereafter, the substrate is cleaned with an acidic solution (S12).例文帳に追加

そして、この基板が酸性溶液で洗浄される（Ｓ１２）。 - 特許庁

METAL POLISHING SOLUTION AND SUBSTRATE POLISHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

金属用研磨液及びそれを用いた基板の研磨方法 - 特許庁

When cleaning, the silicon substrate may be immerged in the solution or the solution can be poured on the surface of the silicon substrate.例文帳に追加

洗浄の際、シリコン基板は上記した溶液に浸漬されても良いし、溶液をシリコン基板表面にかけても良い。 - 特許庁

In the development processing, a mixed solution prepared by mixing a developing solution and a solution having a smaller specific gravity than the developing solution has with each other is supplied to the surface of a substrate, and the substrate is left as it is for a fixed period of time.例文帳に追加

現像処理時、現像液と現像液より比重の小さい溶液とが撹拌されてなる混合液を基板表面に供給し、一定時間放置する。 - 特許庁