Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
「silylation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索
[go: Go Back, main page]

1153万例文収録!

「silylation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > silylationの意味・解説 > silylationに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

silylationを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 73



例文

The method for producing the aryl ether compound comprises reacting an aryl halide with a hydroxy compound and a phosphazene compound in the absence of a silylation agent under the mild condition without requiring the complicated operation.例文帳に追加

本発明の課題は、シリル化剤の非存在下、かつ温和な条件下、繁雑な操作を必要とすることなく、ハロゲン化アリールとヒドロキシ化合物とホスファゼン化合物とを反応させてアリールエーテル化合物を製造することによって解決される。 - 特許庁

The rotating member for fixing characterized in that the outermost surface layer contains fluorocarbon resin and inorganic filler to which silylation processing is performed is contained in the fluorocarbon resin, a fixing device having the rotating member for fixing and an image forming apparatus are provided.例文帳に追加

最表面層がフッ素樹脂を含み、該フッ素樹脂中にシリル化処理された無機フィラーを含むことを特徴とする定着用回転部材、並びに該定着用回転部材を有する定着装置及び画像形成装置。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method and photolithography method by which a resist film can be removed without leaving residues in the edge sections of a substrate, at the time of patterning the resist film on the substrate through silylation.例文帳に追加

シリル化プロセスにより基板上にレジスト膜をパターン加工するときに、基板のエッジ部において残渣を残すことなく前記レジスト膜を除去することができる半導体装置の製造方法およびフォトリソグラフィー方法を提供する。 - 特許庁

As the silylation agent, N, N-dimethylamino trimethylsilane (DMATMS) is preferable, and as the hydrocarbon-based nonpolar solvent, a hydrocarbon-based solvent in a straight chain shape or a branch chain shape of carbon numbers 6-12 or a terpene solvent is preferable.例文帳に追加

シリル化剤としてはN,N−ジメチルアミノトリメチルシラン(DMATMS)が好ましく、炭化水素系非極性溶剤としては炭素数6〜12の直鎖状若しくは分岐鎖状の炭化水素系溶剤、又はテルペン系溶剤が好ましい。 - 特許庁

例文

The modified zeolite catalyst is prepared by performing dealumination-silylation treatment and chemical treatment to an intermediate fine pore zeolite which has a ten-membered ring structure composed of ten units of tetrahedral type TO_4 (T=Si or Al) and has a fine pore diameter in the range of 0.50 to 0.65 nm.例文帳に追加

四面体型TO_4(T = SiまたはAl)ユニット10個からなる10員環構造を有し、細孔径が0.50〜0.65 nmの範囲にある中間細孔ゼオライトに対し、脱アルミニウム−シリル化処理および化学処理を行うことにより調製される変性ゼオライト触媒。 - 特許庁


例文

The microcapsules are formed by using an isocyanate adduct added with N-silylation polyvalent amino compound containing ≥2 pieces of nitrogen atoms having active hydrogen within the molecule and a bifunctional isocyanate having two isocyanate groups within the molecule.例文帳に追加

分子内に活性水素を有する窒素原子を2個以上含むN−シリル化多価アミノ化合物と、分子中に2個のイソシアネート基を有する2官能イソシアネートと、が付加したイソシアネート付加物を用いて形成されることを特徴とするマイクロカプセルである。 - 特許庁

Then, before actually exposing the pattern of a reticle R onto the wafer W, is the pattern of the reticle R is illuminated with an EUV beam EL to measure a latent image formed on the resist subjected to silylation with the atomic force microscope(AFM).例文帳に追加

そして、レチクルRのパターンをウエハW上に本露光するに先立って、レチクルRのパターンをEUV光ELで照明することによってシリル化レジストに形成された潜像を、原子間力顕微鏡AFMで計測する構成とした。 - 特許庁

This silicone gel composition comprises [A] 3-39 mass% gel skeleton obtained by silylation of a hydrosilicone (a-1) represented by the formula (I) with a trialkenylisocyanurate (a-2), [B] 50-90 mass% liquid component and [C] 1-10 mass% micro hollow sphere.例文帳に追加

〔A〕下記一般式(1)で示されるヒドロシリコーン(a−1)と、トリアルケニルイソシアヌレート(a−2)とのヒドロシリル化反応により得られるゲル骨格3〜39質量%、〔B〕液体成分50〜90質量%、及び〔C〕微小中空球体1〜10質量%を含む。 - 特許庁

The problem of the invention can be solved by producing the diaryl ether compound under a mild condition without using a complicate operation by reacting an aryl halide, a metal alkoxide and a phosphazene compound in the absence of a silylation agent and a hydroxy compound.例文帳に追加

本発明の課題は、シリル化剤、ヒドロキシ化合物の非存在下、かつ温和な条件下、繁雑な操作を必要とすることなく、ハロゲン化アリール、金属アルコキシド、及びホスファゼン化合物とを反応させてジアリールエーテル化合物を製造することによって解決される。 - 特許庁

例文

A top face and a side face of a light semitransmitting film 2 comprising a material containing at least silicon atoms and nitrogen atoms deposited on a transparent substrate 3 is subjected to a contact process with silylation agent and a subsequent oxidation process to form a modified layer 5 in the manufacturing process of a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの製造過程において、透明基板3上に設けられた珪素原子と窒素原子を少なくとも含む材料からなる光半透過膜2の上面や側断面に対し、シリル化剤による接触処理およびそれに続く酸化処理を施して変質層5を形成する。 - 特許庁

例文

This method for producing a phenyl ester is provided by performing the reaction of benzene with the organic carboxylic acid and molecular oxygen in the presence of a catalyst obtained by the silylation treatment of a catalyst consisting of at least 1 kind of element selected from a main catalyst element group consisting of palladium, platinum, rhodium, iridium and ruthenium.例文帳に追加

触媒がパラジウム、白金、ロジウム,イリジウム及びルテニウムからなる主触媒元素群から選ばれた少なくとも1種の元素からなる触媒をシリル化処理された触媒の存在下でベンゼンとカルボン酸と分子状酸素を反応させてフェニルエステルを製造する。 - 特許庁

The objective curable epoxy resin composition is produced by reacting a tetrakisphenol compound with a substituted silylation agent to obtain an O-silylated phenol derivative of general formula (1) such as 1,1,2,2- tetrakis(4-trialkylsiloxyphenyl)ethane useful as a curing agent and compounding the obtained compound of formula (1) with an epoxy resin and a catalyst for curing reaction.例文帳に追加

テトラキスフェノール化合物と置換シリル化剤とを反応させて得られる、硬化剤としての一般式(1)で表されるO−シリル化フェノール誘導体、例えば、1,1,2,2,−テトラキス(4−トリアルキルシロキシフェニル)エタン等とエポキシ樹脂と硬化反応用触媒とを配合して、エポキシ樹脂硬化組成物を調製する。 - 特許庁

Thus, owing to the silylation, this oily cosmetic is soluble to oil and becomes stable even at higher pH, suppressing irritancy to the skin, and the oily compound is stabilized by substituting the hydroxy group with trimethylsilane or the like and blended as an ingredient hard to be oxidizable and stable with time.例文帳に追加

レチノールもしくはオキシ酸または両化合物がシリル化されることにより、低いpHでなくとも油分に溶けて安定するようになり、皮膚に対する刺激が抑制され、しかも水酸基がトリメチルシランなどで置換されて安定化し、酸化し難く経時的に安定した成分として配合されたものになる。 - 特許庁

The surface treatment method includes a process for treating the surface of a resin pattern formed on a substrate or an etched pattern formed on the substrate by etching with a surface treatment liquid containing a silylation agent and a solvent, and a process for cleaning the resin pattern obtained after treatment by the surface treatment liquid, or the etched pattern.例文帳に追加

本発明に係る表面処理方法は、基板上に設けられた樹脂パターン、又はエッチングにより基板に形成された被エッチングパターンの表面を、シリル化剤及び溶剤を含有する表面処理液で処理する工程と、表面処理液による処理後の樹脂パターン又は被エッチングパターンを洗浄する工程と、を含む。 - 特許庁

In the method for manufacturing a stamper for optical recording media in which a photoresist film formed on a glass master disk by coating is exposed with modulated laser light and developed to form a prescribed rugged pattern and a stamper is manufactured by electroforming, the surface of the glass master disk is subjected two or more times to HMDS coating for carrying out silylation before coating with a resist.例文帳に追加

ガラス原盤上に塗布されたフォトレジスト膜に、変調されたレーザ光により露光後現像して所定の凹凸パターンを形成した後、電鋳によりスタンパを製造する光記録媒体用スタンパの製造方法において、レジスト塗布前にガラス原盤表面のシリル化を行うHMDS塗布を複数回行う。 - 特許庁

In the production method for β,β-difluoro-α,β-unsaturated carbonyl compound, a silyl enol ether is obtained by silylating a β,β,β-trifluorocarbonyl compound, in the presence of a base and using a silylation reagent, and a β,β-difluoro-α,β-unsaturated carbonyl compound is obtained from the silyl enol ether in the presence of a Lewis acid.例文帳に追加

β,β,β-トリフルオロカルボニル化合物を塩基の存在化で、シリル化剤を用いてシリル化し、シリルエノールエーテル類を得、ルイス酸の存在下、シリルエノールエーテル類から、β,β−ジフルオロ−α,β−不飽和カルボニル化合物を得ることを特徴とするβ,β−ジフルオロ−α,β−不飽和カルボニル化合物の製造方法。 - 特許庁

The method comprises processes as follows: accumulating the organic interlaminar insulating film 4, 6; forming an opening in the organic interlaminar insulating film 4, 6; silylating wall surfaces of the organic interlaminar insulating film 4, 6 exposed inside the opening, so that the wall surfaces are modified (modified layers 4a, 6a are formed by silylation).例文帳に追加

有機系の層間絶縁膜4,6を堆積する工程と、有機系の層間絶縁膜4,6に開口部を形成する工程と、開口部内で露出した有機系の層間絶縁膜4,6の壁面部をシリル化して改質する(シリル化による改質層4a,6aを形成する)工程とを含む。 - 特許庁

Silylation agent having a polycyclic aromatic functional group with 5 to 10 fused rings is made to react with hydroxyl group on the surfaces of carriers, stationary phase having the aromatic functional group is made to be formed on the surfaces of the carriers, thereby producing the fillers for liquid chromatography of the polychlorinated biphenyls or fullerenes.例文帳に追加

縮合環の数が5〜10の多環芳香族官能基を有するシリル化剤を、担体表面の水酸基と反応せしめて、前記芳香族官能基を有する固定相を該担体の表面に形成せしめて、ポリ塩化ビフェニル類若しくはフラーレン類の液体クロマトグラフィー用充填剤を製造する。 - 特許庁

To provide a method for producing an alkoxysilylated chain hydrocarbon excellent in its alkoxysilylation reactivity, according to a hydrosilylation reaction preventing silylation from occurring at a site other than its terminal carbon atom, and preventing the by-production of an internal rearrangement isomer of its double bond; and an alkoxysilyl-terminated chain hydrocarbon produced by the method with a low content of an addition isomer present therein.例文帳に追加

アルコキシシリル化反応自体の反応性に優れ、末端炭素原子以外のシリル化及び二重結合の内部転位異性体の副生を抑制するヒドロシリル化反応を用いたアルコキシシリル化鎖状炭化水素の製造方法、並びにそれにより得られた付加異性体の少ない末端アルコキシシリル化鎖状炭化水素を提供する。 - 特許庁

The back sheet for solar cell has a modified clay film a1, adhesive film b1, and PET film c1 laminated thereon, wherein the modified clay film a1 contains a modified clay obtained by reacting a clay with a silylation agent and either of polyamide and polyimide as an additive, and at least 90 mol% of exchangeable ion of the modified clay is lithium ion.例文帳に追加

変性粘土膜a1と、接着性フィルムb1と、PETフィルムc1を積層した太陽電池用バックシートであって、変性粘土膜a1が、粘土にシリル化剤を反応させた変性粘土と、添加物としてポリアミドまたはポリイミドのいずれか一方を含有し、変性粘土の交換性イオンの少なくとも90mol%がリチウムイオンである。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent that can effectively suppress pattern collapse of an inorganic pattern or resin pattern provided on a substrate, a surface treatment method using such a surface treatment agent, as well as a surface treatment agent that can carry out silylation treatment to a high degree on the surface of the substrate, and a surface treatment method using such the surface treatment agent.例文帳に追加

基板上に設けられた無機パターン又は樹脂パターンのパターン倒れを効果的に抑制することが可能な表面処理剤、及びそのような表面処理剤を使用した表面処理方法、並びに基板の表面に対して高度にシリル化処理を行うことのできる表面処理剤、及びそのような表面処理剤を使用した表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

The powdery material is preferably a cover-treated powdery material and more preferably a multilayer cover-treated powdery material, and especially it is preferable to perform ≥2 kinds of treatments selected from among an acylated amino acid salt-covering treatment, a dimethylpolysiloxane-baking treatment, a hydrogen methylpolysiloxane-baking treatment, a silylation treatment and a phospholipid-covering treatment one by one on the powdery material.例文帳に追加

前記粉体は被覆処理を施した粉体であることが好ましく、多層被覆処理を施した粉体であることがより好ましく、特に、アシル化アミノ酸塩被覆処理、ジメチルポリシロキサン焼付処理、ハイドロジェンメチルポリシロキサン焼付処理、シリル化処理及びリン脂質被覆処理から選択される2種以上を順次粉体上に施したものであることが好ましい。 - 特許庁

例文

The coating composition for absorbing ultraviolet rays comprises at least one of silylation derivative of a specific photostable polybenzoylresorcinol capable of absorbing ultraviolet rays and a clear polymer matrix compatible with the silylated polybenzoylresorcinol, wherein the polymer matrix comprises an emulsion comprising an acrylic polymer, methacrylic polymer or copolymer and water.例文帳に追加

少なくとも1種の紫外線を吸収することができる光安定性の特定のポリベンゾイルレソルシノール類のシリル化誘導体と、該シリル化ポリベンゾイルレソルシノール類と相容性の透明なポリマーマトリックスであってアクリル系ポリマー又はメタクリル系ポリマー又はコポリマーと水とから成るエマルションから成るポリマーマトリックスから成ることを特徴とする、紫外線吸収用コーティング組成物が提供される。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2025 GRAS Group, Inc.RSS