「simulation defect」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The difference signal between the simulation images is calculated as to the plurality of predicted fatal defects to display the difference signal the defect by the defect.例文帳に追加

予想される複数の致命欠陥について、シミュレーション画像の差分信号を計算し、欠陥毎に差分信号を表示する。 - 特許庁

The difference signal between the simulation images is calculated as to the plurality of predicted fatal defects to display the difference signal the defect by the defect.例文帳に追加

予想される複数の致命欠陥について、シミュレーション画像の差分信号を計算し、欠陥毎に差分信号を表示する。 - 特許庁

To provide a method for identifying a glass defect source by which the glass defect source is directly identified without using a mathematical simulation.例文帳に追加

本発明は、ガラス欠点の発生源を、数学シミュレーションを用いずに、直接的に特定することができるガラス欠点発生源の特定方法を提供する。 - 特許庁

Since a simulation defect equivalent to a standard defect output is constituted by the laser marking device 12, similar output is provided at any position.例文帳に追加

レーザーマーキング装置１２により標準的な欠陥出力と同等の模擬欠陥を構成するため、どの位置でもほぼ同じ出力が得られる。 - 特許庁

To provide a molding simulation method that gives more accurate estimation on an entrainment defect without relying on the experience of an operator.例文帳に追加

巻き込み欠陥を作業者の経験に頼らず、より正確に推測できる成型シミュレーション方法を提供すること。 - 特許庁

A shape to be generated by the processing according to the cutter location simulation is predicted by using cutting simulation, transfer simulation is conducted for the predicted shape after processing, and fulfillment of a required transmittance value on a processed position is confirmed, and then the defect is eliminated by processing according to the cutter location simulation.例文帳に追加

カッターロケーションシミュレーションどおり加工したときの形状を切削シミュレーションで予測し、予測した加工後の形状に対して転写シミュレーションを行い加工個所の透過率が必要とされる値を満たすことを確認してからカッターロケーションシミュレーションどおりに加工して欠陥を除去する。 - 特許庁

To provide a cable defect simulation method, capable of significantly reducing the testing cost of reliability, and a discharge tester.例文帳に追加

信頼性を試験する経費を相当に低減することのできるケーブルの欠陥シミュレーション方法および放電試験器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for determining machining defects of a cast product, which method can effectively utilize a defect data showing the position of the defect obtained by a casting simulation, etc. in the case of manufacturing an actual cast product.例文帳に追加

鋳造シミュレーションなどにより得られた欠陥位置を示す欠陥データを実際の鋳造品の製造に対して有効利用できる鋳造品の加工不良判定方法の提供。 - 特許庁

This device is configured such that when a defect is detected in an optical disk, a signal input to a pickup drive part is a difference signal between the output signal of a pickup simulation circuit equivalent to a tracking error signal before the defect is detected and the output signal of the pickup simulation circuit during defect detection.例文帳に追加

本実施形態に記載のサーボ制御装置は、光ディスクにおいて欠陥が検出された場合に、ピックアップドライブ部に入力される信号が、欠陥が検出される前のトラッキングエラー信号に相当するピックアップ摸擬回路の出力信号と、欠陥検出中におけるピックアップ模擬回路の出力信号の差分信号となるような構成を有することとした。 - 特許庁

An actual vehicle test is conducted using an ECU to analyze characteristics (S22), durability deterioration simulation is performed using a model while changing parameters (oil temperature TATF, etc.), to estimate gear shift defect event occurring in the simulation from model behavior changes (S26, S28), and endurance deterioration simulation is repeated until the gear shift defect event is removed to correct control algorithm (S30).例文帳に追加

ＥＣＵを用いて実機テストを行って特性を解析し（Ｓ２２）、パラメータ（油温ＴＡＴＦなど）を変化させつつ、モデルを用いて耐久劣化シミュレーションを実行し、よって生じる変速不具合事象をモデル挙動変化から予測し（Ｓ２６，Ｓ２８）、変速不具合事象が解消されるまで、耐久劣化シミュレーションを繰り返しつつ、制御アルゴリズムを修正する（Ｓ３０）。 - 特許庁

To provide a simulator capable of avoiding an abnormal state of simulation operation even if a circuit description to be simulated has a defect.例文帳に追加

シミュレーション対象の回路記述に不具合があっても、シミュレーション動作が異常状態に陥ることを回避することのできるシミュレータを提供する。 - 特許庁

After the phase and transmittance at an exposure wavelength are calculated from the determined values, the transfer characteristic of the phase defect is deduced by the optical simulation using these values.例文帳に追加

求めた値から露光波長での位相、透過率を算出した後、これらを用いた光学シミュレーションにより位相欠陥の転写特性を割り出す。 - 特許庁

A phase shift mask is inspected by a mask inspecting apparatus and the size relating to the detected phase defect is measured by using this inspecting apparatus or a measuring instrument for defect review and further the phase and transmittance are calculated by using an optical simulation.例文帳に追加

位相シフトマスクをマスク検査装置を用いて検査し、検出した位相欠陥についてこの検査装置もしくは欠陥レビュー用測定装置を用いてサイズを測定し、さらに光学シミュレーションを用いて、位相、透過率を算出する。 - 特許庁

A digital virtual test system including a semiconductor simulation model and an LSI tester simulation model includes a determination means for comparing and determining whether an address signal for accessing a memory function model in the semiconductor simulation model accesses a predetermined address in an address range of the memory function model or not to detect a defect of a test pattern using the LSI tester or the LSI tester simulation model.例文帳に追加

半導体シミュレーションモデルとＬＳＩテスタシミュレーションモデルを含むデジタルヴァーチャルテストシステムにおいて、半導体シミュレーションモデルのメモリ機能モデルをアクセスするアドレス信号が、メモリ機能モデルのアドレス範囲のうち所定のアドレスをアクセスしたかどうかを比較判定する判定手段を設けてＬＳＩテスタまたはＬＳＩテスタシミュレーションモデルを使用したテストパターンの不備を検出する。 - 特許庁

In the defect simulation method using the discharge tester, a test voltage 32 is applied from a high voltage generator 30 to a continuous cable via an electrode, a detector 44 recognizes and displays dielectric breakdown, and a defect counter 48 sums them.例文帳に追加

放電試験器を用いた欠陥シミュレーション方法において、高電圧発生器３０から電極を介して試験電圧３２を連続ケーブルに印加し、検出器４４により絶縁破壊を認識して表示し、欠陥カウンタ４８により合算する。 - 特許庁

The semiconductor device which is simulated by the HDL simulation part 150 becomes an ideal semiconductor device which is operated completely in the same way as a semiconductor device, to be inspected, which does not contain a defect due to its production.例文帳に追加

ＨＤＬシミュレート部１５０によってシミュレートされた半導体デバイスは、製造による欠陥を含まない被検査用半導体デバイスと全く同じように動作する理想的な半導体デバイスとなる。 - 特許庁

In the method and the device, defect and error in operations of VSLI simulation and a circuit are discriminated by forming the test and by using the test, and the performance is evaluated by using genetic algorithm.例文帳に追加

テストを生成し、該テストを使用して、ＶＬＳＩシミュレーション及び回路の動作上の欠陥及び誤りを識別し、及び遺伝的アルゴリズムを使用して性能を評価する、方法及び装置。 - 特許庁

Next, the relation (fig. 2) between the size and the density of the grow-in defect caused by the void and the growing rate of the silicon single crystal is obtained by the simulation using the computer.例文帳に追加

次いで、結晶内部に導入される空孔起因のグローンイン欠陥のサイズならびに密度とシリコン単結晶の成長速度との関係（図２）を、電子計算機を用いたシミュレーションにより求める。 - 特許庁

To provide a defect analyzing method of a memory by which must- repair of a memory can be retrieved at high speed and simulation processing relieving can be performed at high speed at the time of detection of must-repair.例文帳に追加

メモリのマストリペアを高速で検索すると共に、マストリペアが検出された時点でマストリペアを救済するシミュレーション処理を高速に行うことができるメモリの不良解析方法を提案する。 - 特許庁

The silicon single crystal is grown by selecting the growing rate to control the size and density of the grow-in defect caused by the void introduced into the inside of the crystal to be a desired value based on the simulation result.例文帳に追加

そして、そのシミュレーション結果に基づいて、結晶内部に導入される空孔起因のグローンイン欠陥のサイズと密度とが所望の値となるように成長速度を選択し、シリコン単結晶を育成する。 - 特許庁

To solve a problem that when transmitting a test pattern from an LSI tester in the LSI tester or an LSI tester simulation model, which range of an address area in a DUT memory is accessed can not be known and a defect of the test pattern cannot be previously detected.例文帳に追加

ＬＳＩテスタ又はＬＳＩテスタシミュレーションモデルでは、ＬＳＩテスタ側からテストパターンを送信する際に、ＤＵＴメモリのどの範囲のアドレス領域をアクセスしたかを知ることはできず、テストパターンの不備を事前に検出できない。 - 特許庁

To provide a method for enabling visual, intuitive recognition of the behavior of bulk micro defect (BMD) by displaying the behavior of BMD by computer simulation as the image represented by the infra-red tomographic method.例文帳に追加

コンピュータシミュレーションによって得られる酸素析出物（ＢＭＤ）の挙動を、赤外線トモグラフ法で得られる画像イメージで表示することによって、ＢＭＤの挙動を直感的、視覚的に理解することを可能にする方法を提供する。 - 特許庁

When the designed circuit pattern is exposed and transferred on a wafer via an exposing device, a defect occurring systematically dependently on the characteristic or the like of the exposing device is predicted previously by simulation and is stored as hot spot information 7.例文帳に追加

また、露光装置を介して、設計された回路パターンをウエハ上に露光転写する際に、露光装置の特性等によってシステマティックに発生する欠陥を、あらかじめシミュレーションによって予測し、ホットスポット情報７として記憶する。 - 特許庁

In the product inspection, comparison check is carried out by driving an actually manufactured liquid crystal display device 10 where the point-like defect is corrected, and displaying the actually corrected pixel part and the pseudo-corrected pixel part by the simulation on the screen of the liquid crystal display device 10 at the same time.例文帳に追加

製品検査においては、実際に製造され点状欠陥が修正された液晶表示装置を駆動し、液晶表示装置の画面に実際の修正画素部と、シミュレーションによる擬似的な修正画素部とを同時に表示し、比較検査を行う。 - 特許庁

To provide a method by which an engineer not having experience/ technical accumulation, before press-forming, easily, precisely predict a dimensional accuracy defect quantity in press-forming a metal plate even if in engineer has no special knowledge in a numerical simulation, mathematics, etc.例文帳に追加

経験・技術蓄積を有さない技術者が、数値シミュレーションや数学等の専門知識を有さずとも、金属板のプレス成形時における寸法精度不良量を、プレス成形前に予め簡単に且つ正確に予測することのできる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a moving picture distribution testing device for testing video quality of each client in accessing a moving picture distribution server on a packet switching network at the same time, implementing simulation needing less calculation amounts for propagation of a defect by inter-frame reference, and simplifying inspection of a packet loss and a header so as to obtain video quality under conditions closer to actual conditions.例文帳に追加

パケット交換ネットワーク上の動画配信サーバに同時アクセスするときの各クライアントの映像品質を試験する装置において、フレーム間参照による欠損の波及を計算量の少ないシミュレーションで行い、パケット損失とヘッダ検査を簡易にして、より実際に近い条件で映像品質を求める動画配信試験装置を提供する。 - 特許庁

A defect is detected by identifying online the relation between an inspection reference pattern image and an objective pattern image for inspection during inspection, constructing a mathematical model absorbing (fitting) displacement of pixels, expansion or contraction noise, or sensing noise of an image, and further comparing a new inspection reference pattern image (model image) obtained by the simulation of the obtained model with the objective pattern image for inspection.例文帳に追加

検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を検査中にオンラインで同定して、画像の画素ズレや伸縮ノイズ、センシングノイズを吸収（フィッティング）した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって得られる新たな検査基準パターン画像（モデル画像）と被検査パターン画像とを比較することによって欠陥を検出する。 - 特許庁

Further, while reducing the photomask verification time by reducing the number of times of executing the optical intensity simulation, those having no effect on the manufacture of a semiconductor or on the operation or the characteristics of a semiconductor element are excluded from the photomask verification result so that only the fatal defect is detected, thereby reducing the time and the number of processes related to the correction of layout pattern CAD data.例文帳に追加

加えて、光強度シミュレーションの実施回数を削減することにより、フォトマスク検証時間の削減を図りつつ、さらに半導体製造上、あるいは半導体素子の動作、特性に影響を与えないものをフォトマスク検証結果から除外し致命的な欠陥のみを検出し、レイアウトパターンＣＡＤデータの修正に関わる時間、工数を削減する。 - 特許庁