「concentration process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In the first SiGe layer forming process, a concentration of Ge in the first SiGe layer 14 is set to not larger than 5%.例文帳に追加

第１のＳｉＧｅ層形成工程では、第１のＳｉＧｅ層１４中のＧｅ濃度を５％以下にする。 - 特許庁

To provide a developing device which provides stable concentration transition throughout the entire life and can suppress the concentration reduction and negative ghost arising particularly in an initial period of use, and to provide a process cartridge.例文帳に追加

全寿命を通して安定した濃度推移が得られ、特に使用初期で発生する濃度薄およびネガゴーストを抑制することのできる現像装置、及び、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide techniques of measuring the concentration of developer so as to accurately control the concentration of the developer containing an alkali developing component and to realize an accurate and efficient developing process.例文帳に追加

アルカリ現像成分を含む現像液の濃度を正確にコントロールし、正確でかつ効率的な現像工程を達成するための現像液の濃度測定技術を提供する。 - 特許庁

To provide a monitoring method and system for impurity concentration capable of continuously and precisely monitoring the concentration of impurities in ultrapure water or process water having an extremely low impurity concentra tion.例文帳に追加

不純物濃度が極めて低い超純水や工程水中の不純物の濃度を、連続的に精度良く監視できるようにした不純物濃度モニター方法およびシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a process by which a fluoride ion present with minor concentration in water having a pH around the neutral is efficiently removed; and its concentration is reduced to the environmental regulation value or less.例文帳に追加

中性付近のｐＨの水中に微量濃度で存在するフッ化物イオンを効率的に除去し、その濃度を環境規制値以下に低減可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, wherein a manufacturing process of the semiconductor device having a high-concentration dopant diffusion layer and a low-concentration dopant diffusion layer, is simplified.例文帳に追加

高濃度ドーパント拡散層と低濃度ドーパント拡散層とを有する半導体装置の製造工程を簡略化することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the nitrogen gas is used in the bubbling process, even when the nitrogen concentration is varied at the time of primary refining, the vacuum-degassing treatment can be carried out in a state nitrogen concentration is made high.例文帳に追加

バブリング工程で窒素ガスを用いているので、一次精錬時に窒素濃度がばらついていても窒素濃度を高めた状態で真空脱ガス処理を行うことができる。 - 特許庁

An ECU 2 for the evaporated fuel processing device 1 determines that there is failure of the lid switch 8 if a purge concentration during the present purge process is increased in comparison with a purge concentration during the previous purge process regardless of the fact that operation of the lid switch 8 is not detected during a period from the end of the previous purge process to the start of the present purge process.例文帳に追加

蒸発燃料処理装置１のＥＣＵ２は、前回パージ処理終了から今回パージ処理開始までの間にリッドスイッチ８の操作が検知されていないにも関わらず、今回パージ処理時のパージ濃度が前回パージ処理時のパージ濃度よりも増加している場合に、リッドスイッチ８に異常が発生していると判定する。 - 特許庁

A process control unit 10 includes a process prediction part 31 which predicts chimney exit NOx concentration based upon the multiple regression model constructed by the state prediction method for process, and a predictive control part 32 which determines an ammonia suction blowing-in amount based upon a predicted value of chimney exit Nox concentration calculated by the process prediction part 31.例文帳に追加

プロセス制御装置１０は、プロセスの状態予測方法によって構築された重回帰モデルに基づいて煙突出口ＮＯｘ濃度を予測するプロセス予測部３１と、プロセス予測部３１によって算出された煙突出口ＮＯｘ濃度の予測値に基づいて、アンモニア吹込量を決定する予測制御部３２とを備えている。 - 特許庁

The method comprises a process for performing heating treatment for a semiconductor device with a layer insulation film containing impurities, a process for executing a treatment for making impurity concentration distribution of an upper layer part of the layer insulation film 2 uniform after the heating treatment process and a process for polishing a layer insulation film by CMP after the uniformization treatment of impurity concentration distribution.例文帳に追加

不純物を含む層間絶縁膜を有する半導体装置を加熱処理する工程と、その加熱処理工程の後、層間絶縁膜２の上層部の不純物濃度分布を均一にするための処理を行う工程と、不純物濃度分布の均一化処理の後に、層間絶縁膜をＣＭＰにより研磨する工程とを備える。 - 特許庁

Otherwise, this method mainly comprises the process of specifying and collecting dioxin, the process of heating and extracting the dioxin from the collected matter, and the process of determining the concentration of the dioxin after heating extraction.例文帳に追加

また、主としてダイオキシン類を特定採取する工程と、前記採取物からダイオキシン類を加熱抽出する工程と、前記加熱抽出後のダイオキシン類の濃度を確定する工程とからなることを特徴としている。 - 特許庁

In the glass manufacturing method, after a sodium concentration decrease process is carried out for lowering the sodium concentration of a glass surface more than the sodium concentration of a glass center, and a process of chemical reinforcement treatment is carried out for immersing the glass in a molten salt containing a potassium ion to substitute a portion of the sodium ion in the glass with the potassium ion.例文帳に追加

ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。 - 特許庁

The device 10A for treating the CMP process wastewater includes a raw water feeding device 1A for feeding the CMP process wastewater containing 10^3-10^5 mg/l of polyethylene glycol or polypropylene glycol to an evaporation concentration device 4; and the evaporation concentration device 4 in which the fed CMP process wastewater is subjected to an evaporation concentration treatment to obtain a concentrated liquid and condensed water of evaporation part.例文帳に追加

ポリエチレングリコール又はポリプロピレングリコール１０^^3〜１０^5ｍｇ／ｌを含有するＣＭＰ工程排水を蒸発濃縮装置４に供給する原水供給装置１Ａと、供給された前記ＣＭＰ工程排水を蒸発濃縮処理して濃縮液と蒸発分の凝縮水を得る蒸発濃縮装置４と、を含むＣＭＰ工程排水処理装置１０Ａ。 - 特許庁

In the method for producing a solution, having a process for concentrating a solution to a target concentration, the concentration is carried out until the refractive index of the solution reaches the refractive index of a solution in the target concentration measured in advance ±0.1.例文帳に追加

目標の濃度になるまで溶液を濃縮する工程を有する溶液の製造方法において、溶液の屈折率が、あらかじめ測定された、目標の濃度における溶液の屈折率の±０．１％となるまで濃縮を行う。 - 特許庁

This method mainly comprises the process of specifying and collecting dioxins, the process of selectively extracting the dioxins from the collected matter, the process of removing impurities from the extracted matter, and the process of determining the concentration of the dioxins after removal.例文帳に追加

主としてダイオキシン類を特定採取する工程と、前記採取物からダイオキシン類を選択的に抽出する工程と、前記抽出物から不純物を除去する工程と、除去後のダイオキシン類の濃度を確定する工程とからなることを特徴としている。 - 特許庁

When the method is applied to the salt water generated in a gas treatment system upon gasification reforming of waste under a reductive atmosphere, an Fe removal process, a Zn removal process, a salt water concentration process and a salt crystallization/separation process are provided prior to the ion exchange treatment.例文帳に追加

この発明を廃棄物を還元性雰囲気下でガス化改質処理した際にガス処理系で発生する塩水に適用する場合には、イオン交換処理の前に、Ｆｅ除去工程、Ｚｎ除去工程、塩水濃縮工程、塩晶析・分離工程を設ける。 - 特許庁

To provide a process for producing a high concentration gas hydrate which excels in utility in transportation and storage and an apparatus therefor.例文帳に追加

輸送や貯蔵の際の利便性に優れた高濃度のガスハイドレートを製造する方法およびそのための装置を提供すること。 - 特許庁

In this process, the concentration of the PLGA in the good solvent and poor solvent is made respectively 6 mg/mL or lower; and the good solvent is distilled off from the resultant nanoparticle-containing solution to obtain a PLGA nanoparticle suspension.例文帳に追加

そして、得られたナノ粒子含有溶液から良溶媒を留去してＰＬＧＡナノ粒子懸濁液とする。 - 特許庁

In the array substrate, impurities are doped into the activated layers 11 and photoelectric sections 21 in a same process, if necessary, to have different doping concentration.例文帳に追加

活性層11と光電変換部21とに必要に応じて同一工程で不純物をドープして、ドーピング濃度を異ならせる。 - 特許庁

To perform high-concentration diffusion of Zn ions on a photoelectric conversion layer and to achieve simplification in manufacturing process and facility cost, in a method for manufacturing a photoelectric conversion element.例文帳に追加

光電変換層にＺｎイオンの高濃度拡散を行い、かつ製造工程および設備コストの簡素化を図る。 - 特許庁

The method for manufacturing the cellulose film comprises the step of regulating a concentration of a solidified liquid enclosed in a tubular body in this process.例文帳に追加

この工程において管状体内部に閉じこめられた凝固液濃度を調整するセルロースフィルムの製造方法である。 - 特許庁

To provide a garbage disposer capable of neutralizing the hydrogen ion concentration of drain water to be generated through a decomposition process of garbage.例文帳に追加

生ごみの分解処理により生じるドレン水の水素イオン濃度を中性化することができる生ごみ処理機を提供する。 - 特許庁

To stably reduce discharged dioxins to the extremely low concentration in a process of cleaning a waste gas including the dioxins with catalyst.例文帳に追加

ダイオキシン類を含む排ガスを触媒で浄化するプロセスにおいて、排出ダイオキシン類を極低濃度まで安定して低減する。 - 特許庁

Furthermore, the gas exhausted from the semiconductor manufacturing process or the like is measured by using a concentration measuring device which employs the sensor tape.例文帳に追加

また、この検知テープを用いた濃度測定装置を使用して、半導体製造工程等から排出されるガスを測定する。 - 特許庁

To provide an apparatus which adjusts a developer solution recovered from a developing process to a specified concentration and then again supplies the resultant developer solution to the developing process, in particular, an apparatus for recycling and supplying a developer solution which can supply the developer solution having the concentration more accurately adjusted to the developing process and enhance the recovery rate of the developer solution.例文帳に追加

現像プロセスから回収された現像液を一定濃度に再調節して再び現像プロセスに供給する装置であって、一層正確に濃度調節された現像液を現像プロセスへ供給し得ると共に、現像液の回収率を高め得る現像液のリサイクル供給装置を提供する。 - 特許庁

Otherwise, after completion of the process of discharging the residual gas in the vessel 110 to the outside with the vacuum pump 120, the process for increasing the pressure in the vessel 110 by supplying nitrogen gas thereto, and the process of reducing the pressure by the vacuum pump may be repeated to reduce the concentration of the residual gas below a given concentration.例文帳に追加

前記容器１１０内の残留ガスを真空ポンプ１２０で外部に排出する工程が完了した後に、容器内に窒素ガスを供給して容器１１０内の圧力を上昇させる工程と、真空ポンプ１２０で減圧する工程を繰り返し、前記残留ガスの濃度を所定の濃度以下にしてもよい。 - 特許庁

To provide a process for production of an aqueous dispersion of polytetrafluoroethylene (PTFE) with high concentration of PTFE even when using as a raw material the aqueous dispersion of low concentration PTFE with low concentration of a perfluorocarboxylate emulsifier (PFCA), and an aqueous dispersion of PTFE obtained from the aqueous dispersion with high concentration of PTFE.例文帳に追加

含フッ素カルボン酸塩系乳化剤（ＰＦＣＡ）濃度が低いポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）低濃度水性分散液を原料としても、ＰＴＦＥ濃度の高いＰＴＦＥ高濃度水性分散液を得る方法および該ＰＴＦＥ高濃度水性分散液から得られるＰＴＦＥ水性分散液を提供する。 - 特許庁

The toner concentration control section 140 controls the toner supply operation for the toner hopper 31 based on the toner concentration detected by the toner concentration sensor 92, after the stirring member of the developing unit 22 is actuated during non-development if a determination is made based on an amount of continuous execution of the first toner supply mode that a toner concentration adjustment process is required.例文帳に追加

トナー濃度制御部１４０は、第１のトナー補給モードの継続した実行量に基づき、トナー濃度調整処理が必要と判定した場合に、非現像時に現像ユニット２２の攪拌部材を作動させた後に、トナー濃度センサー９２の検出トナー濃度に基づきトナーホッパー３１のトナー補給動作を制御する。 - 特許庁

To be concrete, a process 1 of injecting an organic solvent not containing electrolyte salt in a dry cell, a process 2 of vacuuming, a process 3 of injecting high-concentration electrolyte solution containing a necessary amount of electrolyte salt, a process 4 of sealing a battery case, and a process 5 of aging in that state are included in the method.例文帳に追加

具体的には，ドライセルに電解質塩を含まない有機溶媒を注入する工程１と，真空引きを行う工程２と，必要量の電解質塩を含む高濃度電解液を注入する工程３と，電池ケースに封栓を行う工程４と，その状態でエージングを行う工程５とが含まれる。 - 特許庁

To provide an information processing apparatus having a multi-process function that reduces the degree of concentration on a single management process of computation throughput required for a health check on a plurality of managed processes.例文帳に追加

マルチプロセス機能を有する情報処理装置において、複数の被管理プロセスのヘルスチェックに要する演算処理量が１つの管理プロセスに集中することを軽減する。 - 特許庁

The reaction rate of the process can be increased, since the process temperature can be made almost the same as that of the substrate surfaces, while preventing lowering of the dissolved concentration of ozone due to temperature rise of the processing liquid.例文帳に追加

処理液の温度上昇によるオゾンの溶存濃度の低下を防止しつつ処理温度を基板表面の温度とほぼ同じにできるので処理の反応速度を高められる。 - 特許庁

To prevent the generation of dirt, caused by the increase in the rate of the reuse of process water, and the decrease in the activity of a polymeric additive for the paper manufacture in a method of adjusting calcium concentration in papermaking process water.例文帳に追加

製紙工程水のカルシウム濃度を調節する方法において、工程水の再活用率の増加による汚れの発生と、製紙用高分子添加剤の効能低下を防止する。 - 特許庁

To provide a gas hydrate pellet molding device that makes it possible to improve efficiency in molding GH pellets at high concentration by performing a gas hydrate dehydration process and a GH pellet molding process with a single device.例文帳に追加

ガスハイドレート脱水工程とGHペレットの成形工程とを単一の装置で行って、高濃度のGHペレットの形成の効率化を図るガスハイドレートペレット成形装置を提供する。 - 特許庁

To avoid the stop of a fluorescent lamp drying process to improve the yield of a fluorescent lamp by maintaining the concentration of a component, particularly butyl acetate, contained in phosphor liquid to a predetermined concentration or less in a fluorescent lamp manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、蛍光ランプの製造工程において、蛍光体液に含まれる成分、特に酢酸ブチルの濃度が所定濃度以下となるようにすることで、蛍光ランプの乾燥工程が停止することを回避し、蛍光ランプの歩留まりを向上するというものである。 - 特許庁

In the method, by comparing the absorbance of the specimen water and that of the specimen water after passing through the concentration/separating process, it is possible to estimate a mass ratio of the viruses concentrated/separated from the specimen water by the concentration/separation process, and judge the concentrating/separating rate of the viruses.例文帳に追加

本発明に係る方法において、検水および濃縮分離工程を経た検水の紫外波長域の吸光度を比較すれば、濃縮分離工程で検水から分離除去されたウイルスの量比を推定でき、ウイルスの濃縮分離率を判定できる。 - 特許庁

That is, a relationship of size between an output voltage VT and a concentration lowered reference value Vb is discriminated (s3), in the case it is 'VT≥Vb' (Y at s3), that is, when the toner concentration is below a threshold value, toner replenishing action process is executed during the printing action process (s10).例文帳に追加

即ち、出力電圧ＶＴと濃度低下基準値Ｖｂとの大小関係を判断させ（ｓ３）、「ＶＴ≧Ｖｂ」であった場合（ｓ３でＹ）、即ち、トナー濃度が閾値以下であった場合には、プリント動作処理中にトナー補給動作処置（ｓ１０）を実行させる。 - 特許庁

(2) TiCl_4 is sampled, the concentration of the metal impurity (especially, V) in TiCl_4 is measured in the method of (1), the measurement result is fed back to the producing process, and the producing process is controlled so that the concentration of the metal impurity in the product is a predetermined value or lower.例文帳に追加

（２）ＴｉＣｌ_4をサンプリングし、（１）の方法でＴｉＣｌ_4中の金属不純物（特に、Ｖ）濃度を測定し、その測定結果を製造工程へフィードバックして製品中の金属不純物が所定濃度以下となるように製造工程を制御する。 - 特許庁

In an ion concentration increase process B1, ion concentration in fluid is increased by a catalyst for accelerating ion dissociation, an electric field is applied to fluid in an electric field application process B2, and cleaning active species, such as radicals, are generated from ions in the fluid.例文帳に追加

イオン濃度増加工程Ｂ１で、イオン解離を促進する触媒によって流体中のイオン濃度を増加させるとともに、電界印加工程Ｂ２で流体に電界を印加して、流体中のイオンからラジカルなどの洗浄活性種を生成させる。 - 特許庁

This method for producing the lactate comprises a process for performing an esterification reaction in a reaction solution containing ammonium lactate and alcohol obtained by fermentation and having an ammonia concentration of ≤1.0 wt.%, and a process for recovering the lactate synthesized in the above-mentioned process.例文帳に追加

発酵で得られた乳酸アンモニウム及びアルコールを含み、アンモニア濃度を1.0重量％以下とした反応液中でエステル反応を行う工程と、上記工程で合成された乳酸エステルを回収する工程とを含む。 - 特許庁

The process for concentration of the fluorine-containing polymer in the aqueous dispersion of the fluorine-containing polymer includes a process for preparation of the aqueous dispersion of the fluorine-containing polymer and a process for filtration of the aqueous dispersion of the fluorine-containing polymer with a polymer membrane.例文帳に追加

含フッ素重合体水性分散液中の含フッ素重合体の濃縮方法は、含フッ素重合体水性分散液を用意する工程と、高分子膜で含フッ素重合体水性分散液を濾過する工程とを含む。 - 特許庁

To polish the conductor used for a barrier layer at a high rate, by using the polishing fluid having a low abrasive grain concentration and a low metal anticorrosive concentration, in a wiring process for semiconductor devices.例文帳に追加

低砥粒濃度、低金属防食剤濃度の研磨液を用いることにより、半導体デバイスの配線形成工程において、バリア層に用いられる導体を高い研磨速度で研磨できる。 - 特許庁

To provide a method of adjusting concentration of liquid developer and a preparation device of the liquid developer capable of adjusting alkaline concentration of alkaline liquid developer used in a developing process of photoresist so as to develop with high quality.例文帳に追加

フォトレジストの現像プロセスに使用されるアルカリ性の現像液のアルカリ濃度を高品質の現像処理が出来る様に調節する現像液の濃度調節方法および調製装置を提供する。 - 特許庁

To provide a probe card in which concentration of current of the probe card used for a test process in manufacture of a semiconductor device of SOC (System On Chip) consuming large current is prevented and damage of concentration is prevented.例文帳に追加

大電流を消費するＳＯＣ(System On Chip)などの半導体装置の製造における試験工程に用いるプローブカードの電流集中を防いでその損傷を防ぐプローブカードを提供する。 - 特許庁

The process 3a: A process of adding an ionic polymerizable surfactant B to the mixed liquid passed through the process 2a so that the concentration of the ionic polymerizable surfactant B in the final mixed liquid obtained by the process 3a finally becomes a critical micelle concentration of the ionic polymerizable surfactant B based on the water content in the final mixed liquid and mixing.例文帳に追加

工程３ａ：上記工程２ａを経た混合液にイオン性重合性界面活性剤Ｂを、工程３ａで最終的に得られる最終混合液中における該イオン性重合性界面活性剤Ｂの濃度が、該最終混合液中の水分量に対して該イオン性重合性界面活性剤Ｂの臨界ミセル濃度となるように添加・混合する工程。 - 特許庁

The concentration of anmoniacal nitrogen contained in the regenerated waste liquid is measured before the third process and the supply amount of ozone bringing the final concentration of anmoniacal nitrogen to a range of 1-20 mg/L calculated from the supply amount of already supplied ozone and the concentration of anmoniacal nitrogen during the supply of ozone in the third process to supply ozone.例文帳に追加

前記第３工程の前に、再生排液に含まれるアンモニア性窒素濃度を測定しておき、第３工程のオゾン供給中において、すでに供給したオゾン供給量とアンモニア性窒素濃度とから、最終的なアンモニア性窒素濃度を１〜２０ｍｇ／リットルの範囲内とするオゾン供給量を算出して、オゾン供給を行う。 - 特許庁