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「chemical reaction rate」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索
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chemical reaction rateの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 41



例文

inhibit the rate of a chemical reaction 例文帳に追加

化学反応の速度を抑制する - 日本語WordNet

METHOD AND APPARATUS FOR OBTAINING ENHANCED PRODUCTION RATE OF THERMAL CHEMICAL REACTION例文帳に追加

熱化学反応の反応速度を高める方法及び装置 - 特許庁

the principle that (at chemical equilibrium) in a reversible reaction the ratio of the rate of the forward reaction to the rate of the reverse reaction is a constant for that reaction 例文帳に追加

可逆反応では(化学平衡で)、逆の反応の割合への前方の反応の割合の比率が、その反応用の定数であるという原理 - 日本語WordNet

METHOD AND APPARATUS FOR OBTAINING ENHANCED PRODUCTION RATE OF THERMAL CHEMICAL REACTION例文帳に追加

熱的化学反応の高い生産速度を得るための方法および装置 - 特許庁

例文

A temperature compensation is performed by using an approximation based on the Arrhenius' equation expressing the chemical reaction rate.例文帳に追加

温度補償は、化学反応速度を表したアレニウスの式に基づく近似式を用いて行う。 - 特許庁


例文

In this case, the TiCl4 is the reaction rate-determination in a thermal chemical reaction, the TiN film 8 having a good step-coverage is formed.例文帳に追加

ここでは、TiCl_4を熱化学反応における反応律速とし、ステップカバレージに優れたTiN膜8を形成する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for obtaining an enhanced production rate per volume of a thermal chemical reaction chamber.例文帳に追加

熱化学反応チャンバの容積当たりの反応速度を高める方法及び装置を提供する。 - 特許庁

the law that states the following principle: the rate of a chemical reaction is directly proportional to the molecular concentrations of the reacting substances 例文帳に追加

以下の原理を述べる法則:化学反応の速度は反応物質の分子の濃度に正比例する - 日本語WordNet

To provide a micro reactor capable of stably achieving a chemical reaction (micro chemical reaction) in a micro channel according to the velocity and flow rate of a fluid that flows through the micro channel.例文帳に追加

マイクロチャネルを流れる流体の速度や流量に応じて、該マイクロチャネルにおける化学反応(マイクロ化学反応)を安定に実現することのできるマイクロリアクタを提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method and an apparatus for increasing the decomposition rate of the substance to be decomposed and improving the controllability of the chemical reaction.例文帳に追加

分解対象物質の分解率を向上し、化学反応の反応制御性を高める方法と装置の提供。 - 特許庁

例文

To provide a hydrogen gas generating apparatus which produces hydrogen gas efficiently by improving hydrolysis reaction rate of a metal hydride, called a chemical hydride.例文帳に追加

ケミカルハイドライドと呼ばれる金属水素化物の加水分解反応の反応率を向上し、効率的に水素ガスを生成する。 - 特許庁

To relatively increase the amount of a catalyst influencing the reaction rate in a channel in a microreactor furnace constituent (a small chemical reactor) for generating a desired fluid substance by a chemical reaction (a catalytic reaction) of a fluidized mixed substance by a catalyst placed in a minute channel.例文帳に追加

流体化された混合物質を微小な流路内に設けられた触媒による化学反応(触媒反応)により、所望の流体物質を生成する微小反応炉構成体(小型化学反応装置)において、流路内での反応速度を左右する触媒の量を比較的多くする。 - 特許庁

To increase the diffusion rate of ions in a silver salt solution and a halide solution and perform a uniform chemical reaction, and to achieve uniform nucleation and growth of silver halide.例文帳に追加

銀塩溶液とハロゲン化物溶液とのイオンの拡散速度を早めて均一な化学反応をさせて均一なハロゲン化銀の核形成と成長を図る。 - 特許庁

To increase an amount of catalyst affecting a reaction rate in a flow passage to a relatively large amount in a fine reaction part constitution body (small sized chemical reactor) in which a fluidized mixture substance is subjected to a chemical reaction (catalytic reaction) by the catalyst deposited on a porous layer in a fine flow passage to produce a desired fluid substance.例文帳に追加

例えば、流体化された混合物質を微小な流路内に形成された多孔質層に付着された触媒による化学反応(触媒反応)により、所望の流体物質を生成する微小反応部構成体(小型化学反応装置)において、流路内での反応速度を左右する触媒の量を比較的多くする。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for producing a chemical reaction product, which accurately control rapid generation of reaction heat even when a diameter of a reaction flow path or concentration of a raw material liquid is increased in order to perform high flow rate treatment, thereby attaining yield improvement of an objective reaction product and industrialization.例文帳に追加

高流量処理を行うために反応流路の流路径を太くしたり原料液を高濃度にしたりしても反応熱の急激な発熱を精密に制御することができるので、目的反応物の収率向上を図ることができるだけでなく工業化を実現することができる。 - 特許庁

To provide a chemical liquid for improving ground, exhibiting a slow phase separation, capable of being solidified by an appropriate reaction rate and also having a foaming magnitude within a desired range, and a method for improving the ground by using the chemical liquid.例文帳に追加

相分離が遅く、適切な反応速度で固化させることができ、且つ得られる固結体の発泡倍率が所望の範囲にある地盤改良用薬液及び該薬液を用いた地盤改良工法を提供する。 - 特許庁

Hereby, the influence of pressure to the chemical reaction rate Rk and the turbulent flow mixing rate Rm can be made to be reflected on the turbulent flow combustion rate R, and turbulent flow combustion analysis accuracy is improved, to ensure a Damkoehler number under high pressure substantially approaching 1.例文帳に追加

これにより、化学反応速度Rkと乱流混合速度Rmとに対する圧力の影響を乱流燃焼速度Rに反映させることができ、高圧下のダムケラー数が1に近い乱流燃焼解析精度が向上する。 - 特許庁

CHEMICAL REACTION AND MIXING PROCESS USING LAMINAR FLOW OR MINUTE TURBULENT FLOW AND METHOD FOR MANUFACTURING MICROCAPSULE AND FINE PARTICLE BY USING APPARATUS FOR SENDING LIQUID OF MINUTE FLOW RATE例文帳に追加

層流や微小な乱流を利用する化学反応と混合方法、および微小な流量の送液装置を利用したマイクロカプセルや微粒子の製造方法 - 特許庁

To obtain a chemical phase deposition apparatus which can improve a uniformity of film thickness or composition rate in a plane of a substrate and can suppress production of contamination within a reaction chamber.例文帳に追加

膜厚や組成比等の基板面内の均一性が向上するとともに、反応室内の異物発生が低減される化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

At this time, the TiCl4 in the first gas is set in a quality to be supply-rate-determination of a thermal chemical reaction, an attacking of the first gas for the Ti film is reduced.例文帳に追加

この際、第1ガス中のTiCl_4を熱化学反応の供給律速となるような量とし、Ti膜に対する第1ガスのアタッキングを低減する。 - 特許庁

To provide a microchannel chip reaction control system for appropriately adjusting various kinds of conditions related to a target chemical reaction in the minute channel of a microchannel chip, such as the temperature conditions of the reaction region and the concentration and flow rate of a reagent solution.例文帳に追加

マイクロチャンネルチップの微小流路内での目的とする化学反応に関与する各種条件、例えば、反応領域の温度条件および試薬溶液の濃度や流量等を好適に調整できるマイクロチャンネルチップ反応制御システムを提供する。 - 特許庁

A total heat value 520 upon charging, which follows the sum of resistance heat generation (dotted line 500) and chemical reaction heat (dotted line 510), changes depending on a current rate, and an optimum current rate Ropt exists, which makes the total heat value minimum with respect to a change in the current rate.例文帳に追加

抵抗発熱(点線500)および化学反応熱(点線510)の和に従う充電時の総発熱量520は電流レートに応じて変化し、かつ、電流レートの変化に対して総発熱量が最小となる最適電流レートRoptが存在する。 - 特許庁

To increase the rate of hydrogen generation by suppressing heterogenization and formation of a magnesium hydroxide film (Mg(OH)_2 film) formed on a surface of a hydrogen storage material by a chemical reaction such as a hydrolysis reaction.例文帳に追加

本発明は、加水分解反応などの化学反応によって水素貯蔵材料の表面に生じる水酸化マグネシウム膜(Mg(OH)_2膜)の不均一化及び生成の抑制を図ることにより、水素発生率を向上させる。 - 特許庁

To obtain a bisphosphino-α-D-glucopyranose derivative useful as a ligand exhibiting a chemical selectivity, an enantiomeric selectivity, a reaction conversion rate and a catalyst activity, and a physiologically active substance.例文帳に追加

化学選択性、エナンチオ選択性、反応転化率、触媒活性を示す配位子及び生理活性物質として有用なビスホスフィノ−α−D−グルコピラノース誘導体を提供する。 - 特許庁

To obtain a bisphosphino-α-D-xylofuranose derivative useful as a ligand exhibiting a chemical selectivity, an enantiomeric selectivity, a reaction conversion rate and a catalyst activity, and a physiologically active substance.例文帳に追加

化学選択性、エナンチオ選択性、反応転化率、触媒活性を示す配位子及び生理活性物質として有用なビスホスフィノ−α−D−キシロフラノース誘導体を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical reaction apparatus capable of suppressing heat loss and avoiding deterioration of hydrogen recovery rate while lowering the deterioration of performance in long-term use in the chemical reaction apparatus which increases a hydrogen recovery rate by absorbing the carbon dioxide being a by-product by using a carbon dioxide absorber in the process of forming hydrogen from a gaseous starting material.例文帳に追加

原料ガスから水素を生成させる過程で二酸化炭素吸収体を用いて副生成物である二酸化炭素を吸収させることで水素の回収率を上昇させる方式の化学反応装置において、長期の使用における性能低下を小さくしつつ、熱損失を抑え及び水素回収率を低下させない化学反応装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fuel gas producing/supplying device capable of making a chemical reaction rate constant while reducing the size and weight usable for a portable application when continuously and stably producing and supplying a certain quantity of fuel gas to a fuel supply means for a small fuel cell including a portable one by a chemical reaction means.例文帳に追加

携帯用を含む小型燃料電池への燃料供給手段に、化学反応手段により一定量の燃料ガスを継続的、安定的に生成、供給する場合、携帯用途として可能な小型、軽量化を図った中で化学反応速度を一定化させることが可能なガス生成供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide a compact structural body provided with the high treatment capability in the mixing and emulsifying processes, controlling adequately and properly the mixing rate, emulsifying accuracy, chemical reaction and temperature and controlling the mixing and emulsifying operations for a plurality of kinds of substances in a multiple manner.例文帳に追加

混合、乳化における処理能力が高く、コンパクトで混合速度や乳化精度、化学反応、温度を適宜適切に制御可能で、複数種の混合、乳化をマルチに制御する。 - 特許庁

To provide chemical vapor deposition equipment which is capable of stabilizing the flow rate of a treatment gas supplied to a reaction chamber, and to provide a semiconductor device manufactured by the equipment.例文帳に追加

反応室内に供給される処理用ガスの流量を安定させることのできる化学気相成長装置、および、それにより製造される半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To facilitate the execution of the control of etching conditions such as an etching rate, etching depth and an etching surface smoothening degree in an etching reaction stage on the spot and to enable wet chemical etching of a higher degree.例文帳に追加

エッチング速度、エッチング深さ、および、エッチング表面平滑度などのエッチング条件の制御をエッチング反応過程においてその場で行うことを容易とし、より高度な湿式化学エッチングを可能とする。 - 特許庁

To provide a thermal flowmeter capable of measuring an accurate flow rate, and measuring the change in the physical properties of a fluid, such as, progression degree of a chemical reaction, the degree of mixing or the concentration of the fluid to be measured.例文帳に追加

正確な流量の測定を可能とし、被測定流体の化学反応の進行度や混合の度合い、濃度などの流体の物性変化を測定できる熱式流量計を実現すること。 - 特許庁

To provide polishing equipment and a polishing method in which variation in chemical reaction rate due to temperature rise on the surface of a metal film through metal based exothermic reaction is suppressed on a polishing surface when planarization polishing of wafer surface having a metallization film is performed by CMP.例文帳に追加

金属配線膜を有するウェーハ表面のCMP法による平坦化研磨を行うにあたり、メタル系の発熱反応で金属膜表面の温度が上昇し、加工面の化学的反応速度にばらつきが生じることを抑制した研磨装置、及び研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To resolve a problem that fusion promotion effect is suppressed in a chemical fusion injecting deuteron or proton beam of energy of 50 keV or less per nuclide in liquid target of molten metal lithium because a chemical fusion reaction producing lithium hydride in the liquid competes, though a reaction rate increases to 10^13 times or more by a thermodynamic force in the liquid.例文帳に追加

核子あたり50keV以下のエネルギーの重陽子又は陽子ビームを溶融金属リチウムの液体標的に注入する化学核融合では、液体中の熱力学的力によって反応レートが10^13倍以上増進するが、該液体中で水素化リチウムを生成する化学反応が競合するため金属リチウムが劣化し核融合増進効果が減殺される。 - 特許庁

In an etching method of a silicon wafer, silicon wafers, having a process degenerated surface layer are sequentially impregnated with in an acid-etching solution having a chemical composition of a reaction rate limiting type including a hydrofluoric acid and a nitric acid fully stored in two to six etching tanks sequentially, and the wafers are etched.例文帳に追加

2〜6槽のエッチング槽に満たされたフッ酸及び硝酸を含む反応律速型の化学組成を有する酸エッチング液に加工変質層を有するシリコンウェーハを順次浸漬させてウェーハをエッチングする方法である。 - 特許庁

The generation amounts of hydrogen and oxygen can be controlled to be H_2:O_2=2:1 by positively utilizing the excess and deficiency of circulation substances, generated in a reaction device system, and mainly using the flow rate and the level of liquid which are easily treated as a chemical process.例文帳に追加

反応装置系内に生じる循環物質の過不足を積極的に利用し、化学プロセスとして扱いが容易な流量、液位を主として用いて水素と酸索の発生量をH_2:O_2=2:1に制御可能にした。 - 特許庁

The nozzle hole 6 is cooled by flowing current to the thermo-element 20 and a temperature around the nozzle hole 6 is lowered, thereby a fuel chemical reaction rate causing generation of carbon deposits is decreased and accumulation of the carbon deposits onto the nozzle hole 6 is effectively prevented.例文帳に追加

熱電素子20に電流を流すことにより噴孔部6が冷却され、噴孔部6の周辺の温度が低下するので、カーボンデポジットの生成の原因となる燃料の化学反応速度を低下させ、噴孔部6におけるカーボンデポジットの堆積が有効に阻止される。 - 特許庁

As a result, the activity of the chemical reaction energy on the first catalyst nuclei may be made nearly equal on the occasion of an electrode forming stage and therefore the electroless plating method capable of making the deposition rate of the plating films in the necessary positions nearly uniform may be obtained.例文帳に追加

これによって、電極形成工程に際しては第1の触媒核上での化学的な反応エネルギーの活性度をほぼ等しくすることが可能になるので、必要な位置におけるメッキ膜の成膜速度を均一にすることができる無電解メッキ方法を得ることができる。 - 特許庁

The content rate of the ultraviolet absorption polymer in the coating layer 5 of the reflection plate 1 is higher on the side apart from the surface of the reflection film 4 than the side coming in contact with the surface of the reflection film 4, thus a chemical reaction due to the association of the ultraviolet absorption polymer and the reflection film 4 hardly takes place.例文帳に追加

この反射板1は、コーティング層5における紫外線吸収ポリマーの含有率が反射膜4の表面と接する側よりも反射膜4の表面から離れた側ほど高いので、紫外線吸収ポリマーと反射膜4の会合による化学反応が起き難くなる。 - 特許庁

To provide an electrolyte for driving an electrolytic capacitor capable of inhibiting radical chain thermal oxidation reaction for a long term only with a small quantity of chemical added without dropping spark generating voltage of the electrolytic capacitor, and capable of inhibiting an increase in a rate of capacitance change and tanδ while inhibiting an increase in specific resistance of the electrolyte.例文帳に追加

電解コンデンサの火花発生電圧が低下させずに、少量の薬品添加でもラジカル連鎖熱酸化反応を長期的に抑え、電解液の比抵抗の上昇を抑制しながら、容量変化率、tanδの上昇の抑制が可能な電解コンデンサの駆動用電解液を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for supplying a gas, in which the mass of a source gas to be supplied and the total flow rate of a mixed gas and a dilute gas becomes constant, when a mixture gas of the source gas obtained by vaporizing a liquid material and a carrier gas is supplied as a reaction gas to a chemical vapor deposition unit.例文帳に追加

液体原料を気化した原料ガスとキャリアガスとの混合ガスを希釈ガスと共に反応ガスとして気相成長装置に供給する際、供給される原料ガスの質量および混合ガスと希釈ガスの総流量が一定となるようなガス供給方法およびその装置を提供すること。 - 特許庁

例文

The method for chemical conversion of a raw material through endothermic reaction using a reactor comprises introducing a raw material into the reactor so as to cause a catalyst portion located downstream of a catalyst portion located upstream of the catalytic bed to run at a higher rate or more frequently than that of the other catalyst portion and to replace the catalyst by a new one.例文帳に追加

反応器を使用して吸熱反応を経て原料を化学転化させるための方法であって、原料を該反応器内に導入し、前記触媒床の上流側の部分に位置する触媒に対して下流側に位置する触媒をより早めにまたはより頻繁に流しかつ新しいものに取り替える。 - 特許庁




  
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