例文 (54件) |
deposition of silicaの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 54件
BURNER FOR DEPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD OF SILICA SOOT例文帳に追加
堆積用バーナー及びシリカスートの製造方法 - 特許庁
Thickness of the alumina deposition layer or the silica deposition layer is preferably 0.1 to 1 μm.例文帳に追加
アルミナ蒸着層又はシリカ蒸着層の厚さは、0.1〜1μmが好ましい。 - 特許庁
The silica deposition layer or the alumina deposition layer is formed by vapor deposition of silica or alumina on a base material that is used for forming the insulator layer.例文帳に追加
シリカ蒸着層又はアルミナ蒸着層は、絶縁体層の形成に用いられる基材上に、シリカもしくはアルミナを蒸着させることにより形成される。 - 特許庁
To provide a burner for deposition, and a manufacturing method of silica soot capable of synthesizing the silica soot (a deposit of silica particulates) mainly composed of silica obtained by combustion reaction of raw material gas containing a silicon compound at a high yield and deposition speed.例文帳に追加
ケイ素化合物を含む原料ガスを燃焼反応させることによって得られるシリカを主成分とするシリカスート(シリカ微粒子の堆積体)を高収率、高堆積速度で合成できる堆積用バーナー及びシリカスートの製造方法を提供する。 - 特許庁
PURIFICATION OF NATURAL OR SYNTHETIC SILICA AND DEPOSITION OF PURIFIED NATURAL OR SYNTHETIC SILICA ON OPTICAL FIBER REFORM例文帳に追加
天然または合成シリカの精製方法、および、精製された天然または合成シリカを光ファイバープリフォーム上に析出させる方法 - 特許庁
To provide an apparatus for manufacturing synthetic silica glass to improve deposition efficiency and to reduce the inclusion of foam.例文帳に追加
堆積効率が向上し泡の混入が減少する合成シリカガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a scale deposition inhibitor effective to prevent scale deposition in a boiler water system, a cooling water system, etc., and having an effect of particularly preventing the deposition of both calcium scale and silica scale and to provide a method for preventing scale deposition.例文帳に追加
ボイラ水系、冷却水系などにおけるスケール付着防止に有効であり、特にカルシウム系スケールとシリカ系スケールの両方の付着防止に効果を発揮するスケール付着防止剤及びスケール付着防止法を提供する。 - 特許庁
To provide a system for treating water capable of more securely reducing deposition of silica to a reverse osmosis membrane.例文帳に追加
逆浸透膜へのシリカの析出の抑制を一層確実に行うことができる水処理システムを提供すること。 - 特許庁
In the deposition film, on a thin film resin layer, at least two kinds of metal oxide different in deposition film characteristics, preferably alumina indicating deposition film characteristics of high barrier properties and silica indicating deposition film characteristic of so-called barrier properties enduring stretching are deposited multi-dimensionally, and the deposition film characteristics are developed synergistically.例文帳に追加
樹脂薄膜層に、2種以上のそれぞれ蒸着膜特性の異なる金属酸化物、好ましくは高バリア性の蒸着膜特性を示すアルミナと、伸びに耐えるバリア性と言う蒸着膜特性を示すシリカとを多元蒸着し、各金属酸化物の蒸着膜特性を相乗的に発現させた蒸着膜。 - 特許庁
The invention relates especially to a final optical-fibre preform comprising a primary preform 3 obtained by a VAD (vapor-phase axial deposition) process or an OVD (outside vapor deposition) process, a silica sleeve tube 4 surrounding the primary preform 3, and a built-up layer 5 made of silica particles surrounding the silica sleeve tube 4.例文帳に追加
本発明は、VAD堆積法またはOVD堆積法によって得られる一次プリフォーム3と、一次プリフォーム3を取り囲むシリカスリーブチューブ4と、シリカスリーブチューブ4を取り囲むシリカ粒子でできたビルトアップ層5とを含む、光ファイバ最終プリフォームに特に関する。 - 特許庁
The deposition-preventing layer 6 has a thin layer formed of hydrophobic wet silica particles made by imparting hydrophobicity to wet silica particles and having an average particle size of 2.0-7.0 μm, and having a uniform particle distribution in which the silica particles adhere at an rate of 0.1-1.0 g/m^2.例文帳に追加
該付着防止層6は、湿式シリカ粒子に疎水性を付与した平均粒径2.0〜7.0μmの疎水性湿式シリカ粒子をもって該粒子の付着量が0.1〜1.0g/m^2である粒子分布の均一な薄い層に形成する。 - 特許庁
The deposition-preventing layer 6 has a thin layer formed of hydrophobic wet silica particles made by imparting hydrophobicity to wet silica particles and having an average particle size of 0.5-7.0 μm, and having a uniform particle distribution in which the silica particles adhere at an rate of 0.1-0.5 g/m^2.例文帳に追加
該付着防止層6は、湿式シリカ粒子に疎水性を付与した平均粒径0.5〜7.0μmの疎水性湿式シリカ粒子をもって該粒子の付着量が0.1〜0.5g/m^2である粒子分布の均一な薄い層に形成する。 - 特許庁
In the method of forming the mesoporous silica thick film on the surface of a substrate by electrophoretic deposition of mesoporous silica in an organic solvent, acetone having ≤0.45% water content is used as the organic solvent.例文帳に追加
有機溶媒中でメソポーラスシリカを泳動電着させて基板表面にメソポーラスシリカ厚膜を製造する方法において、有機溶媒として、水分含有量が0.45%以下のアセトンを用いる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of hydrogen separation membrane capable of forming a silica separation membrane having high hydrogen selective permeability by a CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加
CVD法により高い水素選択透過性を有するシリカ分離膜を形成せしめる水素分離膜の製造法を提供する。 - 特許庁
The spatter deposition-preventing agent includes oxides of graphite and metals, an oxidation polymerization type resin, organopolysiloxane, ultra-fine anhydrous silica particle or the like.例文帳に追加
黒鉛と金属の酸化物、酸化重合形樹脂、オルガノポリシロキサン、超微粒子状無水シリカ等からなるものである。 - 特許庁
To prevent the deposition of sludge within a water system and to prevent silica scale trouble in a method for preventing the adhesive of scale of an open circulation cooling water system by a calcium carbonate deposition type scale prevention technique.例文帳に追加
炭酸カルシウム析出型スケール防止技術により開放循環冷却水系のスケールの付着を防止する方法において、水系内のスラッジの堆積を防止すると共に、シリカスケール障害を防止する。 - 特許庁
Transparent stain-resistant coating films 12 composed of a ceramic such as silica, etc., are formed on both sides of obverse and reverse of a fiber sheet 11 composed of a synthetic fiber by a physical deposition.例文帳に追加
合成繊維からなる繊維シート11の表裏両面にシリカ等のセラミックスからなる透明な防汚性被膜12を物理蒸着により形成する。 - 特許庁
The alcohol vapor sop-off film composed of an inorganic porous film formed by depositing silica, titania or zirconia on the surface of the inorganic porous body by the chemical vapor deposition is provided.例文帳に追加
1.無機多孔体の表面に化学蒸着法によりシリカ、チタニアまたはジルコニアを堆積してなる無機多孔膜からなるアルコール蒸気阻止膜。 - 特許庁
To provide a pure water production system which can prevent silica deposition onto a reverse osmosis membrane even when the silica concentration of raw water is high, in the pure water production system using a reverse osmosis membrane device.例文帳に追加
逆浸透膜装置を用いる純水製造システムにおいて、原水のシリカ濃度が高い場合であっても逆浸透膜へのシリカ析出を防止することができる純水製造システムを提供する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition raw material for forming a silica film, by splashless or suppressing the occurrence of splash and achieving high speed film-deposition, and to provide a method of preparing the same.例文帳に追加
シリカ膜を形成する蒸着原料材料であって、スプラッシュレスで又はスプラッシュの発生を極微小に抑制し、かつ高速成膜を実現する蒸着原料材料とその製造方法を提供する。 - 特許庁
The selectivity of the deposition is improved by using a liquid containing colloidal silica and water as a hydrophilic liquid to form large swelling shape.例文帳に追加
親水性流体としてコロイダルシリカと水を含む液体を用いて堆積の選択性を向上させ、大きな膨らみ形状の形成を可能にする。 - 特許庁
To provide a reaction furnace for synthesizing a quarts glass perform which efficiently discharged silica particulates nor stagnation of silica particulates in the reaction furnace and accumulates stably the deposition of the silica particulates, and a method of manufacturing the same and a seed rod for synthesizing the quartz glass preform.例文帳に追加
生成したシリカ微粒子が反応炉内に滞留することなく、反応炉から効率的に排出され、かつシリカ微粒子の堆積を安定的に行うことのできる合成石英ガラス母材の製造用反応炉およびその製造方法ならびに合成石英ガラス母材の製造用種棒の提供。 - 特許庁
To provide a scale prevention apparatus capable of stably preventing scale deposition composed essentially of metal ions of calcium and magnesium etc. or silica which are dissolved in water to be treated.例文帳に追加
被処理水中に溶解しているカルシウム、マグネシウム等金属イオン又はシリカを主成分とするスケール析出を安定して防止することができるスケール防止装置を提供する。 - 特許庁
The production method of the silica-coated aluminum pigment comprises a step of dispersing aluminum particles in a solution containing a hydrolyzing catalyst, water and a hydrophilic organic solvent, and a step of adding a solution containing an Si-containing compound to the dispersion at a maximum silica film deposition rate of ≤3 nm/hr.例文帳に追加
アルミニウム粒子を加水分解触媒、水、親水性有機溶剤を含む溶液に分散させる工程、該分散液にSi含有化合物を含む溶液をシリカ膜の最大堆積速度が3nm/hr以下にして添加する工程、を含むシリカ被覆アルミニウム顔料の製造方法。 - 特許庁
To provide a scaling inhibitor having a excellent deposition suppressing effect of scale, particularly silica scale in a water system such as a cooling water system, and a method for preventing scaling in the water system.例文帳に追加
冷却水系等の水系におけるスケール、特にシリカ系スケールに対して極めて優れた析出抑制効果を発揮するスケール防止剤及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus for carrying out plasma chemical vapor deposition by which one or more layers of doped or undoped silica are deposited onto the interior of an elongated hollow glass substrate tube, and a method of manufacturing an optical preform by means of plasma chemical vapor deposition.例文帳に追加
ドープされた、またはドープされていないシリカの1層または複数層が細長の中空のガラス基材チューブの内側に蒸着されるプラズマ化学蒸着法を実行するための装置、さらにプラズマ化学蒸着法によって光学的予備成形品を製造する方法を提供すること。 - 特許庁
The present invention relates to an apparatus for carrying out a plasma chemical vapour deposition process, by means of which one or more layers of doped or undoped silica can be deposited on the interior of an elongated glass substrate tube.例文帳に追加
本発明はプラズマ化学蒸着プロセスを実行するための装置に関し、これによって、ドープシリカまたは非ドープシリカの1つまたは複数の層が細長いガラス基体管の内部に蒸着され得る。 - 特許庁
The method for manufacturing a photomask material includes processes of producing plasma delivering powder containing silicon dioxide to the plasma to produce silica particles and depositing the silica particles on the deposition face to form the quartz glass.例文帳に追加
石英ガラスの作成方法において:プラズマを発生させ;二酸化ケイ素を含有する粉末をプラズマに送り込んで、シリカ粒子をつくり、前記シリカ粒子を堆積面に堆積させて、ガラスを形成する;各工程を含むフォトマスク材を製造する方法。 - 特許庁
To provide a production method of a porous glass in which treatment time can be shortened in selective etching step of a phase separated glass with an acid solution, and remaining and deposition of gel silica in the pores of an obtained porous glass are suppressed.例文帳に追加
分相ガラスの酸溶液による選択エッチングの工程で、処理時間が短縮でき、且つ多孔質の細孔中にゲル状シリカの残留、堆積が抑制された多孔質ガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To solve the problem that glass particles are liable to be deposited on the peripheral part of the outlet end of the burner hole 16 by the reaction of invaded air with the recycled furnace gas, and to prevent deposition of glass on the peripheral part of a burner hole 16 in a furnace for high purity molten silica glass.例文帳に追加
浸入した空気が再循環された炉ガスと反応して、バーナ孔16の出口端の周りにガラス粒子が堆積する傾向にある、高純度溶融シリカガラスの炉中でバーナ孔16の周りにガラスが蓄積するのを防ぐ。 - 特許庁
To provide a method for preventing depositing and washing of a milky spot after washed and its washing apparatus, which prevent depositing of the milky spot due to a silica component, etc., generated after dried and rust due to a deposition.例文帳に追加
乾燥後に発生するシリカ成分などによる白濁シミの付着及びその付着物による錆を防止する洗浄後の白濁シミ付着防止洗浄方法及びその洗浄装置を得ること。 - 特許庁
According to this the silica fine particle of the contamination prevention agent is slightly sunk into the coating film in the half-cured state and deposition force of the formed contamination prevention layer relative to the coating film is enhanced.例文帳に追加
このようにすると、該防汚処理剤のシリカ微粒子が半硬化状態の塗膜に若干めり込む状態となり、形成される防汚層の該塗膜に対する付着力が向上する。 - 特許庁
To provide a scale inhibitor and a method of preventing scale which has a high deposition suppression effect on all the scale components of hard components, silica and iron, and which has a more excellent scale preventing effect than the conventional ones.例文帳に追加
硬度成分、シリカ及び鉄の全てのスケール成分に対して析出抑制効果が高く、従来よりもスケール防止効果が優れたスケール防止剤及びスケール防止方法を提供する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition device which extends an exchange cycle by preventing the local deterioration of a silica protection member and which makes the exchange of a thermocouple easy and a method of manufacturing a silicon epitaxial wafer using the same.例文帳に追加
石英製保護部材の局所的劣化を防止することで交換サイクルを延ばし、さらに、熱電対の交換が容易な気相成長装置及びそれを用いたシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
A silica porous body obtained by depositing silica microparticles by the vapor phase axial deposition (VAD) method is impregnated with a solution containing a dopant consisting of at least one kind selected from metals and metal oxides, freeze-dried under vacuum, and then vitrified by heating and fusing to obtain a doped silica glass in which the dopant is contained with a uniform concentration distribution.例文帳に追加
VAD法によりシリカ微粒子を堆積させて得たシリカ多孔質体に、金属および金属酸化物から選ばれた少なくとも1種からなるドーパントを含有する溶液を含浸させ、真空凍結乾燥後、加熱溶融してガラス化させることにより、シリカガラス中にドーパントが均一な濃度分布で含まれたドープシリカガラスを得る。 - 特許庁
A primer layer 2 comprising a composite containing a polyol, an isocyanate compd. and colloidal silica and a vapor deposition membrane layer 3 with a thickness of 5-300 nm comprising inorg. oxide are successively laminated on at least the single surface of a plastic base material 1.例文帳に追加
プラスチック基材1の少なくとも片面に、ポリオール、イソシアネート化合物およびコロイダルシリカを含む複合物からなるプライマー層2、厚さ5〜300nmの無機酸化物からなる蒸着薄膜層3を順次積層した。 - 特許庁
To provide a nonmagnetic single component developer having high fluidity of the developer which prevents deposition of the toner on a layer thickness regulating blade or a developer carrying roller and which can form a uniform toner layer thickness without addition of a large amount of silica or without using a spherical toner.例文帳に追加
多量のシリカの添加、及び球形トナーの使用もなく、現像剤の流動性が高く、かつ層厚規制ブレードや現像剤搬送ローラへのトナーの固着を防止して、トナー層厚を均一化することが可能な非磁性一成分現像剤を提供すること。 - 特許庁
The silica-titania composite oxide particle produced by a vapor deposition method has a titania content of 50 wt.% or more, a BET specific surface area of 100 m^2/g or less, a containing rate of a silica single particle and a titania single particle by electron microscope observation of 10% or less, favorably 5% or less, and a hydrophobic surface.例文帳に追加
気相法によって製造されたシリカ・チタニア複合酸化物粒子であって、チタニアの含有量が50重量%以上、BET比表面積が100m^2/g以下、電子顕微鏡観察下においてシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が10%以下、好ましくは5%以下であり、表面が疎水化されているシリカ・チタニア複合酸化物粒子。 - 特許庁
This outer covering resin 6 is so precipitated at these places in an electro-deposition manner as to immerse the laminated piezoelectric-actuator elements in the mixed solution of an epoxy-based resin and an acrylic-based resin, and the like, wherein a water-repellent silica powder is dispersed and as to apply a voltage to the elements.例文帳に追加
この外装樹脂6は、前記積層型圧電アクチュエータ素子を、撥水性シリカ粉末を分散させたエポキシ系やアクリル系等の混合溶液中に浸漬し、電圧を印加して、上記箇所に電着析出される。 - 特許庁
To provide a method for forming a silica film which prevents excessive diffusion of source and drain layers and has a high crack limit, in place of a chemical vapor deposition method which has been so far used when it is desired to provide a flattened film or an insulating film on a wiring layer having a high heat resistance.例文帳に追加
これまで高耐熱性配線層上に、平坦化膜又は絶縁膜を設ける際に用いられていた化学蒸着法に代わる、ソース層及びドレイン層の過度の拡散を生じない、かつクラック限界の高いシリカ被膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the porous carbon arrangement comprises an arrangement process of regularly arranging monodispersed spherical mesoporous particles containing silica, a carbon deposition process of depositing carbon at least into the inside of the monodispersed spherical mesoporous particles, and a removal process of removing the monodispersed spherical mesoporous particles.例文帳に追加
シリカを含む単分散球状メソ多孔体を規則配列させる配列工程と、前記単分散球状メソ多孔体の少なくともメソ孔内にカーボンを析出させるカーボン析出工程と、前記単分散球状メソ多孔体を除去する除去工程とを備えた多孔質カーボン配列体の製造方法。 - 特許庁
The production method for the Sn single crystal thin film comprises depositing flat plate-like Sn single crystals having particle diameters of ≥400 μm on the substrate by a vapor deposition method by depositing the carbon-based intermediate extremely thin film on the amorphous silica substrate.例文帳に追加
非晶質シリカ基板上に炭素系の中間極薄膜を形成することにより、基板上に粒径400nm以上の大きさを持つ平板状Sn単結晶を蒸着法により形成するSn単結晶薄膜の製造方法。 - 特許庁
The hydrogen separation membrane is formed by a chemical vapor deposition method using a mixed gas of oxygen and an inert gas and an evaporated silica source, which is at least one kind silane selected from a group consisting of silane having at least one methoxy group and at least one bulky group and tetraaryloxysilane, in a manner that fine pores of a porous substrate are partially clogged or narrowed with silica membrane.例文帳に追加
水素分離膜は、シリカ源は少なくとも1つ以上のメトキシ基と少なくとも1つ以上の嵩高い基を有するシラン類、テトラアリールオキシシラン類からなる群から選択される少なくとも1種を用い、酸素と不活性ガスとからなる混合ガスと気化させたシリカ源とを化学蒸着法によって多孔質基材の細孔を一部閉塞するように又は狭めるようにシリカを製膜させてなる。 - 特許庁
In this manufacturing method of the heating element for metal vapor deposition, after an alumina sol and / or a silica sol are applied to the portion where the molten metal of the ceramic containing the titanium diboride (TiB_2) and the boron nitride (BN) is made to exist, and the heating element is dried.例文帳に追加
二硼化チタン(TiB_2)及び/又は二硼化ジルコニウム(ZrB_2 )と窒化硼素(BN)とを含有してなるセラミックスの溶融金属を存在させる部位に、アルミナゾル及び/又はシリカゾルを塗布した後、乾燥することを特徴とする請求項1又は2記載の金属蒸着用発熱体の製造方法。 - 特許庁
Cooling water is brought into contact with a molded object, which is obtained from ceramics comprising only a natural stone based on silica alumina sintered by a special technique not only to suppress and remove the generation and deposition of various slimes and scales but also to remove the malodor caused by the generation and increase of those slimes and scales.例文帳に追加
シリカ・アルミナを主成分とする天然石だけからなるセラミックスを、特殊な手法によって焼結させた成形体に冷却水を接触させることにより、さまざまな種類のスライム、スケールの発生、堆積を抑制、除去し、これらの発生、増大にもとづく悪臭を除く。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor which is capable of achieving excellent durability and stable formation of high-quality images for a long period of time by using a surface protective layer which has high abrasion resistance and excellent toner release properties and specifically can suppress the generation of abnormal images due to deposition of hydrophobic silica included in toner for a long period of time.例文帳に追加
耐摩耗性が高く、かつトナーの離型性に優れ、特にトナーに含有される疎水性シリカの付着による異常画像等の発生を長期間に亘って抑制することが可能な表面保護層を有することにより、優れた耐久性と共に、安定で高品質の画像形成を長期間に亘り実現できる電子写真感光体の提供。 - 特許庁
To provide a fluorine-containing elastomer composition giving a sealing material having excellent plasma resistance and forming no deposition on the surface of the product after vulcanization by using a cyano-containing perfluoroelastomer having excellent heat-resistance as the fluorine-containing elastomer and adding exclusively silica as an additive.例文帳に追加
含フッ素エラストマーとして耐熱性にすぐれるシアノ基含有パーフルオロエラストマーを用い、シリカのみを添加することによって耐プラズマ性にすぐれ、かつ加硫後製品表面に析出物を生じないシール材を提供し得る含フッ素エラストマー組成物を提供する。 - 特許庁
And the producing method of the alcohol vapor stop-off film by depositing silica, titania or zirconia on the surface of the inorganic porous body by chemical vapor deposition using oxygen and at least one kind selected from a group composed of silicon alkoxide, titanium alkoxide, titanium tetrachloride, silicon tetrachloride and zirconium tetrachloride is provided.例文帳に追加
2.シリコンアルコキシド、チタンアルコキシド、四塩化チタン、四塩化ケイ素および四塩化ジルコニウムからなる群より選択される少なくとも1種と酸素とを用いて、無機多孔体の表面に化学蒸着法によりシリカ、チタニアまたはジルコニアを堆積することを特徴とする上記項1に記載のアルコール蒸気阻止膜の製造方法。 - 特許庁
The optical material having the high transmittance to the ArF excimer laser is formed by subjecting silica glass containing ≥1000 ppm OH groups to heat treatment at ≥1500°C by a direct synthesis process for direct deposition vitrification by oxyhydrogen flame hydrolysis of silicon tetrachloride.例文帳に追加
四塩化珪素の酸水素火炎加水分解により直接堆積ガラス化する直接法合成法によるOH基含有量が1000ppm以上のシリカガラスを1500℃以上で熱処理することによってArFエキシマレーザーに対して透過率の高い光学材料としたものである。 - 特許庁
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