「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a liquid crystalline resin by which complex formation can be completely inhibited in slurry mixing, accordingly sublimation of hydroquinone in a temperature rising process of polymerization is completely inhibited and continuous batch productivity can be improved.例文帳に追加

スラリー混合時にコンプレックス生成を完全に抑制することができ、それにより重合昇温過程でのヒドロキノンの昇華を完全に抑制し、かつ連続バッチ生産性を改善することができる液晶性樹脂の重合方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cracking process in which a useful light oil component is obtained at a high conversion rate by carrying out the cracking of a heavy oil in a high yield in the presence of hydrogen and controlling the formation of undesired components in the cracking at a high temperature.例文帳に追加

水素の存在下における重質油の分解を高収率で行ない、かつ、高温での分解における望ましくない成分の生成を抑制して、有用な軽質油成分が高転化率で得られる分解方法の提供。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which does not give rise to local surface staining in spite of formation by spray coating, an image forming apparatus mounted with the electrophotographic photoreceptor and an electrophotographic process using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

スプレー塗工で形成しても局部的な地肌汚れが発生しない電子写真感光体、およびこの電子写真感光体を搭載した画像形成装置、さらにはこの電子写真感光体を用いた電子写真プロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide a film-thickness measuring method for measuring a remaining thickness of a film to be polished in a polishing process at high precision, related to a film-thickness measuring method for measuring the thickness of an element formation layer on a substrate.例文帳に追加

本発明は、基板上に形成された素子形成層の膜厚を測定する膜厚測定方法に関し、研磨処理における研磨対象膜の残膜厚を高精度で測定できる膜厚測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

At that time, excitation phase signals are generated with phase signal generating circuits IC3 and IC4 by the motor clock from a sequence controller, and they are outputted to each drive circuit IC1 and IC2, and the excitation currents of the stepping motors M1 and M2 are switched by an image formation process.例文帳に追加

その際、シーケンス制御部からのモータクロックにより相信号発生回路ＩＣ３，ＩＣ４で励磁相信号を生成して、各ドライブ回路ＩＣ１，ＩＣ２に出力し、ステッピングモータＭ１，Ｍ２の励磁電流を画像形成プロセスにより切り替える。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can avoid deterioration in total productivity due to the period that it cannot perform general image formation due to separately carrying out of process control operation and cleaning member turn-over preventing and that increases that much.例文帳に追加

プロセス制御動作と清掃部材のめくれ防止動作とが別々に実行されることにより、その分、一般の画像形成動作ができない時期が増えて全体の生産性が低下することを回避できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer printed wiring board which disperses with the process to remove an insulation film by preventing the formation of the insulation film at the bottom portion of a hole when the hole having the bottom portion is bored for interlayer conducting with the laser to the insulation resin layer.例文帳に追加

多層プリント配線板の製造において、絶縁樹脂層にレーザで層間導通部用の非貫通穴をあけるとき、非貫通穴底部に絶縁膜の形成を防止し、この絶縁膜を除去する処理が不要な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a lens, by which the number of steps of lens formation is reduced to simplify the manufacturing process, a desired lens shape with a high refractive index can be easily formed and a stable lens shape is obtained while suppressing fluctuations of the lens shape among high refractive index lenses.例文帳に追加

レンズ形成の工程数を低減して製造プロセスを簡略化することができると共に、所望の高屈折率レンズ形状を容易に形成しかつ高屈折率レンズ間のレンズ形状のバラツキをも抑えて安定したレンズ形状にする。 - 特許庁

In a masking process ST3, an etching-resistant, film-like mask member 12, where the outer-periphery section is held by a ring-shaped frame member 14, is stuck onto a back 1b at a side opposite to a circuit formation surface 1a of a semiconductor wafer 1.例文帳に追加

マスキング工程ＳＴ３において、半導体ウェハ１の回路形成面１ａとは反対側の裏面１ｂに、外周部がリング状の枠部材１４によって保持された耐エッチング性を有するフィルム状のマスク部材１２を貼り付ける。 - 特許庁

The image forming apparatus is equipped with a first adjustment process (S5 to S6) for detecting image density of a toner image after forming toner image on an image carrier by operating a development part (S6) and adjusting image formation conditions regarding the image density based on its detection result.例文帳に追加

現像部を動作させて像担持体上にトナー像を形成した後に（Ｓ６）、トナー像の画像濃度を検出して、その検出結果に基づいて画像濃度に係わる作像条件を調整する、第１調整工程（Ｓ５〜Ｓ６）を備える。 - 特許庁

In a manufacturing method of an electronic component, a laminate 10 is formed in a formation process, where the laminate has a dielectric layer 13, and a first electrode layer 15 and a second one 17 that oppose each other, while the dielectric layer 13 is sandwiched by them.例文帳に追加

本発明に係る電子部品の製造方法では、形成工程において、誘電体層１３と誘電体層１３を挟んで対向する第１の電極層１５と第２の電極層１７とを有する積層体１０を形成する。 - 特許庁

The image formation device 101 includes an acquisition part for acquiring, when image information with information for specifying a user is received, process definition relevant to the user specified based on extracted information for specifying a user from the storage part (102).例文帳に追加

画像形成装置１０１の取得部は、ユーザーを特定するための情報が付随した画像情報を受信したときに、抽出したユーザー情報に基づいて特定されたユーザーに係わるプロセス定義を記憶部（１０２）から取得する。 - 特許庁

To provide a method of forming a crystalline thin film or a crystalline structure capable of forming a desired pattern, including a three-dimensional shape, of a crystalline thin film having excellent interface state by a simple formation process while lowering the heat treatment temperature required for crystallization, and to provide a structure having a crystalline thin film formed by the formation method.例文帳に追加

シンプルな製造工程により界面状態の良好な結晶性薄膜を立体形状を含む所望のパターンに形成可能であり、結晶化に要する熱処理温度を低減させることが可能な結晶性薄膜又は結晶性構造体の製造方法、及び当該製造方法により形成された結晶性薄膜を備えた構造体を提供する。 - 特許庁

When a polysilicon film 21 is doped with a dopant that diffuses into the junction layer of the transistor, dopant diffused into a polysilicon film spreads into a junction layer 12 in a subsequent process, whereby a reduction in depth of the junction layer caused by overetching at the formation of a contact hole and a junction leakage current caused by misalignment at the formation of a contact hole can be compensated.例文帳に追加

また、トランジスタの接合層コンタクトで接合層にドーピングされたドーパントをポリシリコン膜２１にドーピングさせて使用する場合、後続の工程時にポリシリコン膜内にドーピングされたドーパントが接合層１２に広がってコンタクトホール形成時の過度蝕刻にともなう接合層の深さの減少、コンタクトホールの形成時の誤整列等による接合漏洩電流問題を補償できる。 - 特許庁

In the case where a postcard size is selected as a recording paper size, a special ink formation permission signal 56 from a postcard size selection notification detecting part 512 in a receiving part 51 to a driving data generating part 55 for special ink is made effective, and execution of a special ink formation process for generating driving data of a head for special ink reactive to radiation outside a visible region is permitted.例文帳に追加

記録用紙のサイズとして郵便葉書サイズが選択されている場合には、受信部５１内の郵便葉書サイズ選択通知検知部５１２から特殊インク用駆動データ生成部５５への特殊インク生成許可信号５６が有効にされ、可視領域外放射反応特殊インク用ヘッドの駆動データを生成するための特殊インク生成処理の実行が許可される。 - 特許庁

To provide a toner which has excellent low-temperature fixability and storage stability and can obtain stable image quality for a long term even if a resin containing a polylactic acid as a constituent unit is used as a binder resin; a two-component developer composed of the toner and a carrier; and an image formation method, an image formation device and a process cartridge using the two-component developer.例文帳に追加

ポリ乳酸を構成単位とする樹脂を結着樹脂に用いた場合であっても、優れた低温定着性及び保存安定性を有し、長期にわたって安定な画像品質が得られるトナー、このトナーとキャリアとからなる二成分現像剤、並びに該二成分現像剤を用いた画像形成方法及び画像形成装置、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To adapt a high-temperature process for stabilizing a film formation, when forming a passive element such as a capacity element of the like by a thin film method or the like, and at the same time miniaturize and lighten, in a semiconductor package and its manufacture method.例文帳に追加

半導体パッケージ及びその製造方法において、容量素子等の受動素子を薄膜法等により形成する際にその成膜を安定に行うための高温のプロセスを適応可能とし、併せて小型化及び軽量化も図ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a marking method for marking a protective film with sufficient accuracy by suppressing the curvature of a work in the process where marking is carried out to the protective film formed in the work, and to provide a sheet used suitably in the both methods for protective film formation and for dicing.例文帳に追加

ワークに形成された保護膜にマーキングを行うプロセスにおいて、ワークの反りを抑制することで保護膜に精度良くマーキングを行うマーキング方法、ならびにそのような方法に好適に用いられる保護膜形成兼ダイシング用シートを提供すること。 - 特許庁

To make press fitting equipment for attaching a friction damper to a transmission unnecessary and facilitating an attachment process by avoiding metal contact of a core metal and a gear shaft or a gear, and avoid a rolling surface from being roughened by preventing formation of foreign matter during attachment.例文帳に追加

芯金と歯車軸又は歯車との金属接触を回避して、フリクションダンパの変速機への組付時の圧入設備を不要なものとし、組付工程を容易なものにするとともに、組付時の異物の発生を防止し、転動面の面荒れを回避すること。 - 特許庁

The method for producing the carbon fiber comprises the following process: After forming a precursor fiber from the thermoplastic carbon precursor, the precursor fiber is heat-treated until the rate of radical extinction is greater than the rate of radical formation to form a stabilized precursor fiber followed by carbonizing or graphitizing the stabilized precursor fiber.例文帳に追加

熱可塑性炭素前駆体から前駆体繊維を形成した後、ラジカルの消失速度が生成速度よりも速くなるまで熱処理して安定化前駆体繊維を形成し、ついで安定化前駆体繊維を炭素化もしくは黒鉛化する。 - 特許庁

When the user transmits a friend application to a user with whom the user wants to make friends, a community formation process 136 notifies the application to a partner user, and when receiving a registration application from the partner user, registers the fact of making the users friends with each other in the database 131.例文帳に追加

コミュニティ形成処理１３６は、ユーザが友達になりたいユーザに友達申込を送信すると、その旨を相手のユーザに通知し、相手のユーザから登録申込を受信すると、これらのユーザが友達になった旨を、ユーザ・データベース１３１に登録する。 - 特許庁

To simplify the shapes of an element active region and a gate electrode, facilitate pattern formation in a lithography process, reduce registration deviation of resist patterns, and relieve design rule of a divided path of a word line while variation in storage characteristics of a semiconductor storage device is prevented.例文帳に追加

素子活性領域およびゲート電極の形状の単純化を図り、リソグラフィ工程におけるパターン形成を容易にし、レジストパターンの合わせずれを低減して、半導体メモリの記憶特性の変動を防止しつつ、ワード線の分路の設計ルールの緩和を図る。 - 特許庁

To provide an electronic paper manufacturing method which forms a thin film transistor without wrinkling a support film, and which is capable of forming an electronic paper by adhering display layers even if a thin support film is used, and which requires no special cleaning process after formation.例文帳に追加

薄い支持フィルムを使用しても、支持フィルムに皺が入ることなく薄膜トランジスタを形成し、表示層を貼り合わせて電子ペーパーを形成することができ、形成後は、特に洗浄工程を設ける必要がない電子ペーパーの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a film with piezoelectric properties on an oscillating plate by suppressing the generation of a so-called 90° domain and suppressing a deterioration in the piezoelectric properties even in a direct film formation of the film with the piezoelectric properties on the diaphragm without using a transfer process.例文帳に追加

振動板上への圧電性を有する膜の、転写プロセスを用いない直接成膜においても、所謂９０°ドメインの発生を抑制し、圧電性の劣化を抑えることにより、振動板上への圧電性を有する膜を成膜する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an organophotoreceptor with which image formation stable for a long period of time can be performed by using a contact electrostatic charging system with generation of ozone and NOx in a lesser amount, and to provide a process cartridge, an image forming apparatus and an image forming method.例文帳に追加

本発明は、オゾンや窒素酸化物の発生量が少ない接触帯電方式を用いて、長期的に安定した画像形成を行うことが出来る有機感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法を提供することである。 - 特許庁

In the color filter for the display device, having a color filter layer constituted by performing heat-treatment on the plastic film, the plastic film is made of crosslinking resin and heated at temperature of heat-processing temperature of the color filter layer or more, prior to the formation process of the color filter layer.例文帳に追加

プラスチックフィルム上に加熱処理してなるカラーフィルタ層を有する表示装置用カラーフィルタにおいて、プラスチックフィルムが架橋性樹脂からなり、かつカラーフィルタ層の形成工程より先にカラーフィルタ層の加熱処理温度以上の温度で加熱されている - 特許庁

To improve the yield in a manufacturing process step by gently sloping the pattern sectional shape of the pattern formation performed by using selective etching by dry etching and abating a shorting defect in manufacturing a liquid crystal display device of an active matrix type.例文帳に追加

アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の製造に際し、ドライエッチングによる選択エッチングを用いて行なったパタン形成のパタン断面形状をなだらかにし、ショート不良を低減することにより製造工程における歩留まりを向上すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus allowing appropriate countermeasures against heater disconnection to be taken by obtaining prediction information about it, in a continued state during heat treatment execution of a semiconductor manufacturing process such as formation of a thin film on a semiconductor wafer by heating a heater by carrying a current thereto.例文帳に追加

ヒータを通電加熱して半導体ウェハ上に薄膜を形成するなどの半導体製造プロセスの熱処理実行中に連続した状態でヒータ断線の予知情報を得て適切な対策を講じることができる半導体製造装置を実現すること。 - 特許庁

This objective anisotropic porous membrane is obtained through the wet membrane formation process of a membrane dope that includes the first water-insoluble polymer as the membrane component and the second water- soluble and extractable components in which the concentration of the first component polymer is in the range of 8-11 wt.%.例文帳に追加

膜成分となる非水溶性第１成分ポリマーと被抽出成分である水溶性第２成分を含み、第１成分ポリマーの濃度が８〜１１ｗｔ％の製膜原液を湿式製膜することによって得られる異方性の多孔質膜。 - 特許庁

When the output of the comparing circuit 58 is asserted during the period, the tester makes the driver unusable, and prevents damage to be caused by an excessive back drive period which a test formation process does not predict when the driver is not made inapplicable.例文帳に追加

前記比較回路の出力が、該時間にわたってアサートされた場合は、前記テスタは、前記ドライバを使用不能にし、これによって、そうしない場合にはテスト生成プロセスが予測しなかった過度のバックドライブ期間によって受けたであろう損傷を防止する。 - 特許庁

To provide an image processing method capable of reducing a circuit scale and a processing time related to an image process of distortion compensation and shading compensation for an image imaged by an imaging element through a lens optical system; an image processing device; and an image formation device.例文帳に追加

レンズ光学系を通して撮像素子により撮像された画像についての歪み補正及びシェーディング補正の画像処理に関する回路規模及び処理時間の縮小化を実現できる画像処理方法、画像処理装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transistor whose manufacturing process is simplified and reduced in cost but which is provided with excellent ON/OFF characteristics, mobility and conductivity under a low-off current low in interface ranking, by employing the same material for the formation of a semiconductor active layer and a gate insulating film.例文帳に追加

半導体活性層およびゲート絶縁膜の形成に用いる材料を同一にすることにより、製造プロセスを簡略化し低コスト化した、界面順位の低い低オフ電流で、良好なオン／オフ特性、移動度、導電率を持つトランジスタを提供すること。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor (TFT) capable of simplifying process and planning cost cut effect because charge mobility and I_on/I_off are high, and formation of an organic semiconductor layer and a manufacture of insulating film can be easily attained through wet processing.例文帳に追加

電荷移動度およびＩ_ｏｎ／Ｉ_ｏｆｆが高く、有機半導体層の形成および絶縁膜の製造が湿式工程によって容易に達成できるため、工程の単純化およびコストダウン効果を図ることが可能な有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

By varying the hydrogen partial pressure in the film-forming atmosphere during formation of the hard carbon film by the vapor phase process, the hard carbon film is made a multi-layered structure composed at least of a soft-layer 1 on the outermost surface and a hard layer 2 under the soft layer 1.例文帳に追加

例えば、気相法による硬質炭素皮膜の成膜中に成膜雰囲気の水素分圧を変化させることによって、硬質炭素皮膜を少なくとも最表面の軟質層１と該軟質層２の下層側に位置する硬質層２から成る多層構造とする。 - 特許庁

As the result, during a heat treatment process after the formation of the Cu seed film 10 and the Cu plating film 11, it can be prevented that Cu is diffused anomalously from the Cu seed film 10 and the Cu plating film 11 into the interlayer insulating film 6 to change the device properties.例文帳に追加

その結果、Ｃｕシード膜１０やＣｕめっき膜１１を形成した後の工程における熱処理中に、Ｃｕシード膜１０やＣｕめっき膜１１からＣｕが層間絶縁膜６中に異常拡散して、デバイス特性を変動させることを防止できる。 - 特許庁

In the formation process of a nitride semiconductor laminate structure made of a group III nitride semiconductor, first an n-type GaN layer (first layer), and a p-type GaN layer (second layer) containing Mg are formed on a wafer by an MOCVD method with H_2 as a carrier gas.例文帳に追加

III族窒化物半導体からなる窒化物半導体積層構造の形成工程において、キャリヤガスをＨ_２とするＭＯＣＶＤ法によって、まず、ウエハの上にｎ型ＧａＮ層（第１層）およびＭｇを含むｐ型ＧａＮ層（第２層）が形成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which allows bulky structures of a source and a drain to be formed in a MISFET with a gate electrode formed of a metallic material by a low-temperature process in the formation and can be manufactured efficiently, and a manufacturing method for the semiconductor device.例文帳に追加

金属材料で形成されたゲート電極を有するＭＩＳＦＥＴにおけるソース・ドレイン部のかさ上げ構造の形成において、その形成を低温プロセスで実現し、かつ効率よく製造できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, manganese located at the front surface of or within the barrier layer is precipitated, on the front surface of the seed layer after seed layer formation when heat treatment is conducted and is removed by the cleaning process before an upper layer side conductor path is formed within a concave part.例文帳に追加

またバリア層の表面もしくは層中のマンガンはシード層を形成した後、加熱処理を行うことで前記シード層の表面に析出され、そして前記凹部内に上層側導電路を形成する前に洗浄処理を行うことで除去される。 - 特許庁

By adding 0.01-1.0 wt.% P to the above-mentioned composition, a further increase in the stability of microstructure and a decrease in slugs formation are achieved when manual soldering, wave soldering and hot blast type reflow soldering in the process for installing electronic equipment.例文帳に追加

０．０１〜１．０ｗｔ％のＰを上記の組成物に加えることによって、電子装備の取り付け工程中のマニュアルソルダリング、ウェーブソルダリング、および熱風式リフローソルダリングの際に、微細構造の安定性を更に高め、スラグの形成を低減させることができる。 - 特許庁

To easily modify the scanning density of scanning light on a face to be scanned without complicating the design of components, keeping a rigorous accuracy of assembly, adjusting an image formation condition accompanying the modification of a process speed, and inviting an excessive increase in the cost.例文帳に追加

構成部品の設計の煩雑化、厳格な組立精度の維持、プロセス速度の変更に伴う画像形成条件の調整、過大なコストの上昇を招来することなく、被走査面における走査光の走査密度を容易に変更できるようにする。 - 特許庁

With this method, since the communication clearance 61 can be stably formed, a rise of the internal pressure to be generated by thermal expansion of the air inside of the noise absorbing space 25 during a heat treatment process can be relaxed, and a formation failure due to a rise of the internal pressure can be restricted.例文帳に追加

この方法では、連通空隙６１を安定して形成できるため、熱処理工程の際に吸音空域２５内の空気が熱膨張することにより生ずる内圧上昇を緩和でき、該内圧上昇による成形不良を抑制できる。 - 特許庁

The recessed portion 16 of the support 10 houses a cell part 20a protruded from the formation area of the cell part 20 in the production process, thereby preventing the cell part 20 from being stuck in between the support 40 and the sealing body 42 and improving the sealing performance.例文帳に追加

製造工程において、電池部２０の形成領域からはみ出した電池部２０ａは、支持体１０の凹部１６に収納されるため、電池部２０が支持体４０と封止部４２との間に入り込むことを抑制し、シール性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition used for patterning due to double exposure, suitably used for a liquid immersion exposure process, such as water, without requiring separate formation of an upper layer film, and which os suitably used for forming a first resist layer.例文帳に追加

二重露光によるパターンニングに用いられ、上層膜を別途形成する必要がなく、水等の液浸露光プロセスにも好適に用いられることが可能であり、第一のレジスト層を形成するために好適に用いられる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for evaluating the drying state of a hollow fiber bundle in a process of producing a hollow fiber membrane, capable of simply and minutely evaluating the drying state of the hollow fiber bundle spun by a wet or wet and dry film formation method.例文帳に追加

湿式製膜法または乾湿式製膜法によって紡糸された中空糸束の乾燥状態を簡便かつ詳細に評価することを可能とする、中空糸膜製造過程における中空糸束乾燥状態の評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a fine semiconductor integrated circuit having a thin film resistor in which a wiring pattern is formed by dry etching without an additional formation process for a protective film and without needing particular conditions for etching conditions for forming a contact hole.例文帳に追加

保護膜の形成工程を追加したり、コンタクト孔を形成するためのエッチング条件を特別な条件にすることなく、ドライエッチングにより配線パターンを形成しながら、薄膜抵抗体を有する微細な半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁