意味 | 例文 (999件) |
formation processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2474件
In a process of previously protecting the device formation region with a thin protective film 10 upon forming a shallow trench portion 20 serving as a device isolation region in the semiconductor substrate 1, the protective film 10 comprises a harder material than a nitrided film (Si_3N_4).例文帳に追加
半導体基板1に素子分離領域となる浅溝部20を形成する際に、素子形成領域をあらかじめ薄膜の保護膜10で保護する工程において、保護膜10は窒化膜(Si_3N_4)よりも硬い材料からなる。 - 特許庁
A control unit 8 introduces gas for cleaning by the gas introduction system 3 after completion of etching, forms plasma by the means 4 for plasma formation, and removes a film deposited on an exposure surface in the process chamber 1 by the action of plasma.例文帳に追加
制御部8は、エッチング終了後、クリーニング用ガスをガス導入系3により導入し、プラズマ形成用手段4によりプラズマを形成して、プロセスチャンバー1内の露出面に堆積した膜をプラズマの作用により除去する。 - 特許庁
The method of manufacturing the organic semiconductor device 1 having a gate insulating film 14 and the organic semiconductor film 20 with unbipolar characteristics includes a semiconductor film formation process for forming an organic semiconductor film 20 using pentacene in vacuum or a reduced atmosphere, where the organic semiconductor device 1 is maintained in vacuum or a reduced atmosphere after the semiconductor film formation process.例文帳に追加
本発明は、ゲート絶縁膜(14)と、アンバイポーラ特性を有する有機半導体膜(20)とを備える有機半導体装置(1)の製造方法であって、真空中または還元雰囲気中で、ペンタセンを用いて有機半導体膜(20)を形成する半導体膜形成工程を含み、前記半導体膜形成工程以降、有機半導体装置(1)を真空中または還元雰囲気中に維持することを特徴とする、有機半導体装置の製造方法を提供するものである。 - 特許庁
The manufacturing method of color filter comprises a photosensitive resin layer formation process of forming a photosensitive resin layer made of a photosensitive resin on a substrate; and a uniformizing function member formation process of exposing and developing a photosensitive resin layer, by using the gradation mask provided with a translucent film, having prescribed transmittance characteristics and forming at least two kinds of the uniformizing function members made of the photosensitive resin whose heights are adjusted.例文帳に追加
本発明は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された2種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁
To provide a method for continuously producing a propylene polymer, especially a low-crystalline propylene polymer by a gas-phase polymerization process to remove the reaction heat mainly by the evaporation heat of liquefied propylene, while keeping the good fluidity of the polymer and reducing the formation of a bulky polymer which inhibits the stable operation of the process.例文帳に追加
反応熱を主として液化プロピレンの気化熱により除去する気相法重合プロセスにおいて、プロピレン系重合体、特に低結晶性プロピレン系重合体を連続的に製造する際に、重合体の流動性を良い状態にし、安定運転を阻害する塊状ポリマーを低減して、プロピレン系重合体を製造する方法を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method of the magnetic recording medium using the imprint method for pattern formation, as the preprocessing of an imprint process, an exposure process is performed for exposing a substrate having the resist film formed on the surface thereof to an atmosphere of a temperature higher than a temperature upon imprint and environmental pressure lower than environmental pressure upon imprint.例文帳に追加
パターン形成にインプリント法を用いる磁気記録媒体の製造方法において、インプリント工程の前処理として、表面にレジスト膜を形成した基板を、インプリント時の温度より高い温度、かつ、インプリント時の環境圧力より低い環境圧力の雰囲気に暴露させる暴露処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁
(1) A pattern formation method, comprises a process where a photoresist formed on a base body is exposed in a pattern, a background exposure process I where the entire surface of a forming region of the photoresist or a range comprising at least the region exposed in a pattern is exposed.例文帳に追加
基体上に形成したフォトレジストをパターン状に露光する工程を備えるパターン形成方法において、フォトレジストの形成領域の全面もしくは少なくとも上記パターン状に露光を行う領域を含む範囲を露光する背景露光工程Iを具備し、該背景露光工程は、形成されるフォトレジストパターンのエッジラフネスを低減する条件を選択して行う。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable effectively preventing mutual diffusion in the components between the gate electrodes of n- and p-type transistors in a gate electrode formation process and the subsequent heat treatment process for the method for manufacturing the semiconductor device having a wiring layer substituted for metal and metal silicide.例文帳に追加
金属や金属シリサイドに置換した配線層を有する半導体装置の製造方法に関し、ゲート電極形成過程及びその後の熱処理工程において、N型トランジスタのゲート電極とP型トランジスタのゲート電極との間における構成材料の相互拡散を効果的に防止しうる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A manufacturing method of a wiring board formed by laminating at least one conductor layer and one resin insulation layer includes a groove formation process in which a groove is formed on at least one resin insulation layer and a Cu paste filling process in which the groove is filled with Cu paste forming the conductor layer with an ink jet device.例文帳に追加
導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも1層積層されてなる配線基板の製造方法であって、前記少なくとも1層の樹脂絶縁層に溝部を形成する溝部形成工程と、前記溝部に対してインクジェット装置を用いて前記導体層となるCuペーストを充填するCuペースト充填工程と、を備える。 - 特許庁
To provide a method capable of using a rugged pattern formed according to an imprinting process as a mask for controlling a micropore production initiating position when performing micropore formation onto substrate material such as aluminum and silicon according to an electrochemical process and, thereby, efficiently and reliably forming a regular hole array structure.例文帳に追加
インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the partition of the biochip 100 including a substrate 10 and the partition 20 for partitioning its surface includes a first film formation process for forming a first film on the substrate 10 by using the radiation-sensitive composition containing a color former (A), and a partition forming process for forming the partition 20 by patterning the first film by a lithography method.例文帳に追加
基板10とその表面を区画する隔壁20とを備えるバイオチップ100における隔壁製造方法で、カラーフォーマー(A)を含む感放射線性組成物を用いて基板10上に第1膜を形成する第1膜形成工程と、第1膜をリソグラフィー法によりパターニングして隔壁20を形成する隔壁形成工程と、を備える。 - 特許庁
To provide an anti-glare film that has excellent anti-glare properties and can sufficiently suppress the occurrence of discoloration and scintillation even when used in a high definition display, and can also sufficiently suppress the formation of cracks during a polarizing element laminating process or a liquid crystal cell assembly process, and changes in anti-glare property with time.例文帳に追加
防眩性に優れるとともに、高精細化ディスプレイに適用した場合であっても、白茶けやシンチレーションの発生を充分に抑制でき、更に、偏光素子との貼合工程や液晶セル組立工程の途上でのクラックの発生や、防眩性の経時変化を充分に抑制することができる防眩性フィルムを提供する。 - 特許庁
To solve the problem that Lov dimensions in a TFT cannot be formed with excellent controllability since a resist pattern sidewall tapering angle occurs from a desired tapering angle, in a photolithography process utilizing diazo naphto quinone(DNQ)-novolac resin-based positive resist in the gate electrode formation process of a GOLD structure TFT.例文帳に追加
GOLD構造TFTのゲート電極形成工程のジアゾナフトキノン(DNQ)−ノボラック樹脂系ポジレジストを利用するフォトリソグラフィ工程に於いて、レジストパターン側壁テーパー角が所望のテーパー角より起っている為、当該TFTのLov寸法を制御性良く形成できない問題があり、この問題を解決することを課題とする。 - 特許庁
To provide a process for manufacturing an easy-to-manufacture droplet discharge head which can be miniaturized while attaining high resolution by achieving formation of nozzles at high density and fine pitch wiring incident thereto, and to provide a droplet discharge head manufactured through this process, and a droplet discharge device equipped with that droplet ejection head.例文帳に追加
製造しやすい上に、ノズルの高密度化と、それに伴う微細ピッチ配線の形成を実現可能にして高解像度化が図れ、かつ小型化も図れる液滴吐出ヘッドの製造方法と、その製造方法によって製造される液滴吐出ヘッドと、その液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置の提供を課題とする。 - 特許庁
The magnetoresistance effect element 10 is manufactured by the method including a ferromagnetic layer formation process for forming a layer made of a ferromagnetic material on a substrate 14, and a patterning process for patterning the formed layer to set the maximum length of the nano-junction 12 for connecting the ferromagnetic layers 11, 13 to the Fermi length or smaller of the ferromagnetic material.例文帳に追加
こうした磁気抵抗効果素子10は、基板14上に強磁性材料からなる層を形成する強磁性層形成工程と、形成された層をパターニングして、前記2つの強磁性層11,13を連結するナノ接合部12の最大長さを前記強磁性材料のフェルミ長以下にするパターニング工程とを有する方法により製造される。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a semiconductor device using a laser crystallization process for preventing formation of a grain boundary in the channel forming region of a TFT, significant lowering in mobility of the TFT due to the grain boundary, reduction of on current, or increase of off current, and to provide a semiconductor device fabricated by that method.例文帳に追加
TFTのチャネル形成領域に粒界が形成されるのを防ぎ、粒界によってTFTの移動度が著しく低下したり、オン電流が低減したり、オフ電流が増加したりするのを防ぐことができるレーザー結晶化法を用いた、半導体装置の作製方法及び該作製方法を用いて作製された半導体装置の提供を課題とする。 - 特許庁
To provide a transparent conductive layer, and a photovoltaic element employing it, which exhibits superior photoelectric conversion characteristics even under a high temperature, high humidity or long term use or when a process in reducing atmosphere, e.g. annealing or hydrogen processing, is included in the process following to formation of a transparent conductive layer containing zinc oxide.例文帳に追加
高温下、多湿下、あるいは長期間にわたる使用下などにおいても、あるいは酸化亜鉛を含む透明導電層を形成した後の行程において加熱処理、アニール処理、水素処理のような還元雰囲気の行程を含む場合にも優れた光電変換特性をもつ透明導電層、それを用いた光起電力素子を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a green sheet and its manufacturing method in which a manufacturing process is simplified and a loss of a material used for an electrode is prevented and an electrode pattern can be formed without a drying process during a formation of the electrode, and provide a plasma display panel using the above green sheet and a manufacturing method of the plasma display panel.例文帳に追加
プラズマディスプレイパネル及びその製造工程において、製造工程を単純化し、電極に用いられる材料の損失を防止し、電極形成時、乾燥工程なしに電極パターンを形成できるグリーンシート及びその製造方法と製造装置、並びにこれを用いたプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加
可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ5μm未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁
An oxide film formation method for the semiconductor element comprises: a stage for providing a silicon substrate wherein a natural oxide film is removed; a stage for performing an oxidizing process to form an oxide film on the silicon substrate; and a stage for performing a high-temperature heat treatment process under a mixed gas atmosphere of inert gas and oxygen gas in order to reduce trap charge existing in the oxide film.例文帳に追加
自然酸化膜の除去されたシリコン基板を提供する段階と、酸化工程を行って前記シリコン基板上に酸化膜を形成する段階と、前記酸化膜の内部に存在するトラップチャージを減少させるために不活性ガスと酸素ガスとの混合ガス雰囲気の下で高温熱処理工程を行う段階とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
The fixture tool for the thin substrate having the weak adhesion layer formed on one surface of a flat plate is characterized in that the adhesive strength of the weak adhesion layer is less than three times that before the component packaging after the layer goes through a reflow process, namely a component packaging process of the thin substrate, by a post heat treatment after formation of the weak adhesion layer.例文帳に追加
平板の片面に弱粘着性層を形成した薄型基板用固定治具において、弱粘着性層形成後の後熱処理によって、薄型基板の部品実装工程であるリフローを通過した後の弱粘着性層の粘着強度が、部品実装前の粘着強度に対し3倍未満とされていることを特徴とする。 - 特許庁
This manufacturing method of semiconductor parts includes a process that starts the work of a semiconductor wafer, where the new element materials are subjected to film formation by using a conventional manufacturing device, and a process that cleans the region of the surface of the wafer which is in contact with the conventional manufacturing apparatus.例文帳に追加
課題を解決する半導体部品の製造方法は、新規な素子材料を成膜された半導体ウェハを、従来の製造装置を用いて着工する工程と、当該ウェハの表面であって、前記の従来の製造装置と接触する領域を洗浄する工程(以下、本発明にかかる洗浄工程という)とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
The membrane formation method for the surface of the porous cylindrical body comprises: the immersing/pulling-up process of immersing the porous cylindrical body in a liquid with membrane forming components and then pulling it up; and the rotating/drying process of rotating the porous cylindrical body, scattering the excess liquid with gas separation membrane forming components by centrifugal force at the time of rotation and then drying it.例文帳に追加
多孔質円筒体を膜成形性成分を有する液に浸漬したのち引き上げる浸漬・引き上げ工程と、該多孔質円筒体を回転させ、回転時の遠心力によって、過剰なガス分離膜成形性成分を有する液を飛散させた後、乾燥させる回転・乾燥工程とを有する多孔質円筒体の表面の製膜方法。 - 特許庁
To provide a display device and a manufacturing method of a display device capable of omitting a high-vacuum process, after formation of an electron emission part by eliminating a process of exposing the electron emitting part in the atmosphere, capable of reducing the manufacturing cost, restraining to a minimum a volume of gas molecules desorbing from a substrate surface, and restraining degradation of the lifetime.例文帳に追加
電子放出部を大気に晒す工程をなくすことで、電子放出部形成後の高真空工程を省略でき、製造コストを低減できるとともにガス分子が基板表面から脱離する量を最小限に抑え、寿命劣化を抑制することが可能となる表示装置及び表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The smear removing method comprises (a) a process of applying an ultraviolet laser beam to the insulating resin layer of a workpiece having an insulating resin layer coating a metal-made inner wiring layer for the formation of a via hole in the insulating resin layer, and (b) a process of removing smears residual on the via hole bottom floor by exposure to rare gas plasma.例文帳に追加
スミアの除去方法は、(a)金属からなる内層配線層を被覆する絶縁樹脂層を有する加工対象物の該絶縁樹脂層に紫外レーザを照射して前記絶縁樹脂層にビアホールを形成する工程と、(b)前記ビアホールの底面に残留するスミアを、希ガスのプラズマに晒して除去する工程とを有する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device and a harmful particle removal device of a spraying air, by which any corrosive reaction formation impurity is hard to be formed, even if any adhesion prevention process of a harmful particle caused by the spraying of a cleaning gas accompanied by using an ionizer is added to a manufacturing process of a semiconductor wafer in a clean room.例文帳に追加
クリーンルーム内での半導体ウエハの製造工程に対して、イオナイザーの使用を伴う清浄ガスの吹き付けによる有害パーティクルの付着防止工程を加えても、腐食性のある反応生成不純物が生成され難い半導体装置の製造方法および吹き付けエアーの有害パーティクル除去装置を提供すること。 - 特許庁
To prevent a blade from sounding by making the friction small between a cleaning member and a photosensitive drum when a process speed is lowered without consuming much toner in an image forming apparatus that removes toner on an image carrier with a cleaning member which wipes and cleans the toner, for example, a blade and can vary an image forming speed (process speed) according to image formation modes.例文帳に追加
像担持体上のトナーの除去を掻き取ってクリーニングするクリーニング部材、例えばブレードにて実施しており、又、画像形成速度(プロセス速度)を画像形成モードに対応して変更できる画像形成装置において、多量のトナー消費を伴わずに、プロセス速度を下げている時のクリーニング部材と感光ドラムの摩擦を小さくし、ブレード鳴きを防止する。 - 特許庁
This method for forming the amino acid comprises a first process for preparing minerals which are weathered and eroded and further subjected to soil formation and pulverizing the minerals by making them collide with one another, while supplying them with a gas under a heating and pressurizing condition, so as to obtain a pulverized material, and a second process for soaking the pulverized material in water and forming the amino acid in the water.例文帳に追加
本発明のアミノ酸生成方法は、風化侵食を受け、土壌化された鉱物を用意し、加熱および加圧下において、ガスを供給しつつ前記鉱物同士を衝突させることにより粉砕して粉砕物を得る第1の工程と、該粉砕物を水に浸漬し、該水中にアミノ酸を生じさせる第2の工程とを有する。 - 特許庁
The miniaturization is allowed by sharing the frame section, the manufacturing cost is low because collective formation on one chip is allowed by a process of photolithography, etching or the like, and the acceleration detection axes of the plurality of sensor elements are aligned at a high photolithography mask accuracy.例文帳に追加
枠部を共有するため小型化でき、フォトリソやエッチングなどの工程で一つのチップに一括形成できるので製造コストが低く、かつ複数のセンサー素子の加速度検出軸をフォトリソマスク精度で高精度に一致させることができる。 - 特許庁
The retainer 20 is equipped with both circular ring sections 21 axially arranged at a predetermined space, and a plurality of pillar sections 30 which connect these both circular ring sections 21, and process in partitioning formation a plurality of pockets 25 housing the plurality of rollers 11, respectively.例文帳に追加
保持器20は、軸方向に所定間隔で配置された両円環部21と、これら両円環部21を連結すると共に、複数のころ11をそれぞれ個別に収納する複数のポケット25を区画形成する複数の柱部30とを備える。 - 特許庁
To provide a method for inhibiting the polymerization of (meth)acrylic acid or the like which method solves a problem such as the formation of a precipitate in a pipe in the process of inhibiting the polymerization of (meth)acrylic acid or the like in a distillation column or the like using a copper dialkyldithiocarbamate solution.例文帳に追加
蒸留塔などにおける(メタ)アクリル酸等の重合防止にジアルキルジチオカルバミン酸銅塩溶液を用いる際に発生する、パイプ内での析出物の生成などの問題を解決した、(メタ)アクリル酸等の重合防止方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor which does not give rise to surface staining in spite of formation by spray coating, an image forming apparatus mounted with the electrophotographic photoreceptor and an electrophotographic process using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加
スプレー塗工で形成しても局部的な地肌汚れが発生しない電子写真感光体、およびこの電子写真感光体を搭載した画像形成装置、さらにはこの電子写真感光体を用いた電子写真プロセスを提供すること。 - 特許庁
To provide an optical writing unit enabling an output image with a less-uneven density of image to be obtained by keeping the luminescence quantity of light fixed even if the luminescence profile with each luminescence-element array chip is uneven, an image formation device and a process cartridge.例文帳に追加
各発光素子アレイチップにおける発光特性にばらつきがあっても、発光光量を一定にし、画像の濃度むらの少ない出力画像を得ることができる光書込ユニット、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
Since the surface roughness of the synthetic resin liner 30 is 0.1 μm or more, this hinders the formation of an imperfect mold portion, such as a weld line, in the process of forming the synthetic resin liner 30, and improves the sealing performance of the container.例文帳に追加
合成樹脂製ライナー30の表面粗さが0.1μm以上とされているため、合成樹脂製ライナー30の成形時に、ウェルドラインなどの不完全成形部分が形成されにくくなり、容器の密封性を向上することができる。 - 特許庁
To provide a cleaning device having a cleaning blade whose edge has superior wear resistance and chipping resistance and which can maintain improved cleaning performance for a long period, a process cartridge using the same, and a method and an apparatus for image formation.例文帳に追加
ブレードエッジの耐摩耗性及び耐欠け性に優れ、クリーニング性が向上し、長期間に渡ってクリーニング能力を維持できるクリーニングブレードを有するクリーニング装置、並びにそれを用いたプロセスカートリッジ、画像形成方法及び画像形成装置の提供。 - 特許庁
To provide a method for purifying a hydroxyalkyl (meth)acrylate, capable of inhibiting formation of by-products, such as diester and (meth)acrylic acid dimmer, capable of assuring purity of the hydroxyalkyl (meth)acrylate, and further capable of stably conducting operation without causing troubles such as polymerization, when purified through a distillation process.例文帳に追加
蒸留工程においてジエステル、(メタ)アクリル酸ダイマ−等の副生を抑え、且つ、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ−トの純度を確保でき、重合などのトラブルを起こさずに安定運転可能な、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ−トの精製方法を提供する。 - 特許庁
High-frequency power is applied to the mesh member 16, and plasma of processing gas is formed in a plasma formation chamber 18 between the shower plate 15 and the mesh member 16, and radical of process gas is emitted from the mesh member 16 toward a substrate 5.例文帳に追加
メッシュ状部材16に高周波電力を印加し、シャワープレート15とメッシュ状部材16の間のプラズマ形成室18において処理ガスのプラズマを形成して、メッシュ状部材16から基板5に向って処理ガスのラジカルを放出する。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor having a protective layer excellent in the cleaning property for a toner or in the preventing property against buckling of a cleaning blade, to provide a method for manufacturing the photoreceptor, and to provide a method for image formation, an image forming device and a process cartridge by using the photoreceptor.例文帳に追加
本発明はトナーのクリーニング性やクリーニングブレードのめくれ防止に対して優れた保護層を有する電子写真感光体、該感光体の製造方法、該感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供。 - 特許庁
The message input form formation sentence 312 including the data is transmitted to the client device 2 and when the message is accepted according to the message input form (S103), a ciphering/digital signature process is performed according to the data (S104).例文帳に追加
上記のデータを含むメッセージ入力フォーム形成文312はクライアント装置2に送信され、メッセージ入力フォームに応じてメッセージが受け付けられると(S103)、上記のデータに応じて暗号/ディジタル署名処理が行なわれる(S104)。 - 特許庁
To provide an organic thin-film transistor which can be fabricated by a solution process with a high production efficiency, exhibiting high solution resistance after formation and having a gate insulating film formed with a uniform film thickness, and to provide its fabrication method.例文帳に追加
生産効率が高い溶液プロセスによって製造することが可能で、形成後は高い耐溶剤性を有し、しかも均一な膜厚で形成されたゲート絶縁層を有する有機薄膜トランジスタ、及び有機薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a film formation method where, in an AD (Aerosol Deposition) process of depositing raw material powder on a substrate by jetting the raw material powder toward the substrate, a dense film of high quality can be produced by paying attention on the dispersibility of the raw material powder.例文帳に追加
原料粉を基板に向けて噴射することにより、原料粉を基板上に堆積させるAD法において、原料粉を分散性に着目することにより、緻密で高品質な膜を作製できる成膜方法を提供する。 - 特許庁
To facilitate management of a manufacturing process by supplying inspection data capable of inspecting the electrical characteristics of a TFT formed on the same substrate and the formation defect of a contact hole provided on a transparent organic insulating film to an inspection apparatus.例文帳に追加
同一基板上に形成されたTFTの電気的特性及び透明有機絶縁膜に設けられたコンタクトホールの形成不良を検査可能な検査データを検査装置に供給し、製造プロセスの管理を容易にすることを課題とする。 - 特許庁
The objective method for screening the highly ammonia-oxidizing bacteria comprises collecting at least one kind of microorganisms from a filter bed tank in an effluent treatment process equipped with a bioreactor using humic soil pellets, culturing the microorganisms and then subjecting the microorganisms to screening with the presence/absence of nitrous acid formation as indicator.例文帳に追加
腐植土ペレットを用いたバイオリアクターを付設した排水処理工程におけるろ床槽から一種以上の微生物を採取し、培養した後、亜硝酸生成の有無を指標としてスクリーニングする、高アンモニア酸化細菌のスクリーニング方法。 - 特許庁
To provide a biodegradable base material for medical purpose, having cytophilic property, and especially facilitating entering of cell to the inside of a base material to have a structure close to a thick woven fabric without a technically difficult process such as multi-layer formation or weave knitting.例文帳に追加
細胞親和性、特に基材内部への細胞侵入を容易にし、重層化や織り編み等の技術的に困難な工程を伴うことなく、厚みある織布に近い構造を有する医療用の生分解性基材を提供する。 - 特許庁
To provide a thermal head, capable of preventing the heat of a heater from transferring to a driver IC while enabling formation of a flip chip by directly connecting the driver IC to the heater on the same substrate to reduce the operation process number and improve the yield.例文帳に追加
ドライバICとヒータとを同一の基板上にてダイレクト接続するフリップチップ化を可能として、作業の工程数減少及び歩留まりを改善するとともに、ヒータの熱がドライバICに伝達されることを防止できるサーマルヘッドを提供する。 - 特許庁
Before executing a process of forming a light shielding part 300 and gate electrodes 22G, 23G, 24G, 25G of pixel transistors PTr, the film formation of a conductive material (polysilicon) with a light shielding nature is carried out so as to cover a region including a forming region thereof, and a polysilicon film 400 is formed.例文帳に追加
遮光部300と画素トランジスタPTrのゲート電極22G,23G,24G,25Gを形成する工程の実施前に、その形成領域を含む領域を被覆するように、遮光性の導電材料(ポリシリコン)を成膜して、ポリシリコン膜400を形成する。 - 特許庁
To provide an image forming condition setting device and an image forming condition setting program that allow the result of formation of an image to fall within the allowed range set by a user, the image having been subjected to an image process for reducing an amount of color material.例文帳に追加
色材の量を削減するための画像処理が施された画像の形成結果を、ユーザの許容範囲内に確実に収めることを可能にする画像形成条件設定装置および画像形成条件設定プログラムを提供する。 - 特許庁
To provide a plasma substrate processing apparatus which suppresses the deposition of a film on a hole and near the hole, the hole connecting a buffer chamber with a reaction chamber, prevents the formation of particles by the deposited film, and can process a substrate without degrading quality of the substrate.例文帳に追加
バッファ室と反応室を連通させる孔及び孔の近傍に膜が堆積することを抑制し、堆積した膜によるパーティクルの発生を防止し、基板の品質を低下させることなく処理可能なプラズマ基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a solar cell silicon wafer which has an expanded light-receiving area to obtain high photoelectric conversion efficiency and dispenses with an irregularity formation process different from slicing, making it possible to greatly cut down the manufacturing cost of a silicon based solar cell, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加
受光面積を拡大させて高い光電変換効率が得られ、スライスとは別の凹凸形成工程が不要で、シリコン系太陽電池の製造コストも低減可能な太陽電池用シリコンウェーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus such as a copying machine, a facsimile machine and a printer for adjusting an image process condition according to image area ratio and an image forming method capable of carrying out good image formation.例文帳に追加
画像面積率に応じて画像プロセス条件を調整する、複写機、ファクシミリ、プリンタ等の画像形成装置及び画像形成方法であって、さらに良好な画像形成を行うことを可能とする画像形成装置及び画像形成方法の提供。 - 特許庁
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