「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent the occurrence of uneven exposure, when the conveying direction of an image forming medium is changed, in an image forming apparatus where the conveying direction of the long-sized image forming medium in process of image formation is changed to a prescribed direction.例文帳に追加

画像形成中の長尺サイズの画像形成媒体の搬送方向を所定の方向に変更する画像形成装置において、該画像形成媒体の搬送方向を変更する際の露光ムラの発生を防止する。 - 特許庁

To provide a radiation detector assembly which is low-cost and of high reliability by a method wherein the production process and the number of the radiation detector assembly are simplified and the creep of moisture to an element formation layer in a photoelectric conversion part from a scintillator substrate is prevented.例文帳に追加

放射線検出装置の製造工程・部材を簡略にし、シンチレータ基板から光電変換部の素子形成層への水分進入を防止し、低コストで高信頼性の放射線検出装置を提供する。 - 特許庁

When a polysilicon is used as the material of a lower-layer wiring 102, a side-wall deposit 118a comprising Si is formed on the side wall of a via hole 110 by sputtering on the surface of a lower-layer wiring 102 in a via hole formation process S5.例文帳に追加

下層配線１０２の材料にポリシリコンを適用すると，ビアホール形成工程Ｓ５において下層配線１０２表面でスパッタリングによってビアホール１１０側壁にＳｉからなる側壁堆積物１１８ａが形成される。 - 特許庁

The process for production comprises a surface roughening treatment step of subjecting the surface layer parts 9 of the palatal parts of the dentures 5a and 5b and the denture plate to rough surface formation by a sandblasting treatment and a polishing finishing step of buffing the rugged surfaces formed by the stage described above.例文帳に追加

当該製造方法は、義歯及び義歯床口蓋部表層部をサンドブラスト処理により粗面形成する粗面処理工程と、前記工程により形成された凹凸面をバフ摩きする摩き仕上工程とから成る。 - 特許庁

To provide a laminated packaging bag, which has a superior oxygen barrier property and pinhole resistance to solve the problem of the formation of a pinhole on an outer packaging bag, such as a transfusion bag, during a transportation process or the like.例文帳に追加

本発明は、輸液バックなどの外装袋が輸送工程等でピンホールが発生する問題点を解決するためになされたものであり、酸素バリア性を有し、耐ピンホール性に優れた積層包装袋を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a sheet treating device capable of preventing a two-folded sheet from breaking without prohibiting image formation in the fold-in part of the sheet, and thereby capable of applying a book binding process even to a sheet printed without margins safely and reliably.例文帳に追加

シートの折り込み部への画像形成を禁止することなく、二つ折りした際のシートの破損を防止でき、従って、縁無し印刷されたシートでも安全確実に整本処理を実施できるシート処理装置を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method is provided with a reduction process for reducing an aspect ratio of a partial region between gate electrodes and diffusion layers made to be lower than that of a region, except for the partial region between the gate electrodes, prior to the formation of an interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜を形成する前に、ゲート電極間かつ拡散層間の一部領域のアスペクト比を、このゲート電極間のこの一部領域以外の領域のアスペクト比より低減させる低減工程を備える。 - 特許庁

Then, before the formation of a second insulating film 19, a metal diffusion preventive layer 16 which is on the first insulating layer 11 and is unintentionally generated due to partially selective breakage, or remaining metal ions 17 or the like is removed through CMP process.例文帳に追加

その後、第２の絶縁膜１９形成前に、第１の絶縁膜１１上に存在する部分的選択破れにより意図せず生じた金属拡散防止膜１６や、残留金属イオン１７等を除去するＣＭＰ工程をする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an image formation method allowing short-time print operation without executing process control even when power is turned on a long time after power-off.例文帳に追加

電源がＯＦＦになってから長時間経過した後の電源投入時であっても、プロセスコントロールを実施することなく短時間でプリント動作を可能とすることができる画像形成装置および画像形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an ink ejection head in which half-curing or curing of the position of a nozzle formation layer used as a nozzle hole is prevented, and which can prevent the generating of an inferior good in an ultraviolet irradiation process of photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法の紫外線照射工程において、ノズル孔となる位置のノズル形成層の半硬化又は硬化を防止し、不良品の発生を防止することができるインク吐出ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device for which the rise of a process cost is reduced, element formation is facilitated, an almost uniform electric field is formed in the thickness direction of a semiconductor substrate, and the trade-off (effective ON resistance) of a withstand voltage and ON resistance is improved.例文帳に追加

プロセスコストの上昇が小さく素子形成が容易で、かつ半導体基板の厚み方向にほぼ均一の電界を形成し耐圧とオン抵抗とのトレードオフ（実効オン抵抗）を改善できる半導体装置を提供する。 - 特許庁

Since the protection film 3 can be formed on the reflecting film 2 directly without the aid of a formation process of the slit pattern after forming the reflecting film 2, the high-quality reflecting surface having few defects such as a dirt, a flaw or deterioration can be acquired.例文帳に追加

反射膜２の成膜後、スリットパターンの形成工程を経由しないで、直ちに、反射膜２上に保護膜３を成膜することができるため、汚れ、疵、劣化等の不具合が少ない良質の反射面を得ることが可能となる。 - 特許庁

To provide a wiring formation method capable of easily forming a wiring having high conductivity with high adhesiveness to a substrate, without addition of another process to form an adhesion layer etc. on a resin substrate.例文帳に追加

樹脂基板上に、接着層等を形成するための別の工程を加えることなく、基板との密着性の高い導電性配線を簡単に形成することができる配線形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent the load at the time of compression to a bar-like member penetrating through the powder, for forming a side hole even the density of green compact, and simplifying the process and facilitate the recycle of the powder discharged due to formation of the side hole.例文帳に追加

粉末に貫通させた横孔形成用の棒状部材に圧縮時の負荷がかからず、かつ圧粉体の密度が均一化され、さらに工程の簡素化ならびに横孔形成により放出された粉末の再使用化を容易とする。 - 特許庁

To provide a heat insulating label and a container with a label which are superior in heat insulating property and also superior in productivity since the need for a heat-treating process for a heat insulating coating material is dispensed and formation is enabled only by coating with the heat insulating coating material.例文帳に追加

断熱性に優れ、断熱性コーティング材料に加熱工程を不要とし、断熱性コーティング材料のコーティングのみで形成することができるため、生産性に優れる断熱ラベル、およびラベル付容器を提供する。 - 特許庁

Thereby, for example, the silicon wafer 10 is simply supported in a horizontal state so that only its own weight acts on a wafer stage of a stepper at a time of exposure in a device formation process, the wafer is prevented from being bent as compared with the conventional silicon wafer.例文帳に追加

これにより、例えばデバイス形成プロセスの露光時、ステッパのウェーハステージ上で、自重のみが作用するようにシリコンウェーハ１０を水平状態で単純支持したとき、従来のシリコンウェーハに比べて、ウェーハが撓みにくくなる。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of forming a given number of circuit layers, of forming insulating layers before or after the formation of the circuit layers, and of arranging the circuit layers and insulating layers alternately at prescribed positions and compressively bonding the layers together.例文帳に追加

所定数の回路層を形成する工程と、前記回路層を形成する以前または以後に絶縁層を形成する工程と、前記回路層と絶縁層を交互に所定の位置に配置して圧着する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a polymerizable monomer for use in a resist, suitable for microfabrication performed by dry exposure, immersion exposure or a double patterning process, and to provide a polymer of the same, a resist material using the same, and a pattern formation method.例文帳に追加

ドライ露光、液浸露光やダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用重合性単量体およびそれら重合体の提供それらを使ったレジスト材料およびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the process for image formation, a toner image is formed on the electrophotographic image-receiving sheet and the image forming surface of the electrophotographic image-receiving sheet is heated and pressurized by a fixing belt, cooled and then detached from the fixing belt.例文帳に追加

該電子写真用受像シートに、トナー画像を形成した後、前記電子写真用受像シートの該画像形成面を、定着ベルトにより、加熱及び加圧し、冷却した後、前記定着ベルトから剥離する画像形成方法である。 - 特許庁

To provide a solid electronic device base body structure, together, with its manufacturing method which reduces a load on a global environment, with no use of complex process, such as formation of a conductive film by electroless copper plating or film transfer of a circuit pattern.例文帳に追加

無電解銅めっきによる導電膜形成、あるいは回路パターンのフィルム転写などの複雑なプロセスを用いず、地球環境に対する負荷を軽減した、立体形状電子デバイス基体構造と、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem of a conventional construction method with an externally watertightness and heat insulation that an extra working process in needed resulting in high cost and long period of construction work because construction work for rendering watertight the outer surface of a circumferential wall and for thermally insulating is carried out after formation of the peripheral wall.例文帳に追加

従来の外防水、外断熱型枠工法は、周壁を形成した後、その周壁の外面に防水、断熱工事を行っていたので、この作業工程が余分にかかり、工費が高くつくと共に、工期も長引く。 - 特許庁

D. To make transactions related to index funds executed through program trading based on contracts and trust contract provisions (limited to transactions which have no risk of distorting the price formation process in light of liquidity and other factors related to the relevant issue). 例文帳に追加

ニ．契約又は信託約款等の規定に基づきシステム的に運用するインデックスファンドに係る取引等（ただし、当該銘柄に係る流動性等を勘案して、価格形成に影響を与えるおそれの無いものに限る。） - 金融庁

F. To make futures transactions, regarding which it is difficult to avoid the placement of orders for the same issue because of the small number of issues available for futures trading (limited to transactions which have no risk of distorting the price formation process in light of liquidity and other factors related to the relevant issue). 例文帳に追加

ヘ．銘柄数が少ないため、同一銘柄の注文を避けることが困難な先物取引等（ただし、当該銘柄に係る流動性等を勘案して、価格形成に影響を与えるおそれの無いものに限る。） - 金融庁

(limited to transactions regarding which there is not the risk of the price formation process being distorted in light of liquidity and other factors related to the relevant issue and, in cases where the transactions are executed by the same trader, the trader has no discretion over execution). 例文帳に追加

（ただし、当該銘柄に係る流動性等を勘案して価格形成に影響を与えるおそれが無く、かつ、同一トレーダーによる取引の場合は、当該トレーダーに執行についての裁量が与えられていないものに限る。） - 金融庁

To provide a process for selectively producing light olefins such as ethylene and propylene stably over a long period by using gaseous or liquid hydrocarbons as raw materials and inhibiting the formation of by-products such as aromatic hydrocarbons and heavy substances.例文帳に追加

ガス状又は液状炭化水素を原料とし、芳香族炭化水素や重質物等の副生物の生成を抑制し、長期間安定的にエチレン・プロピレン等の軽質オレフィンを選択的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To effectively suppress the formation of dioxins in an exhaust gas cooling process, thereby resulting in a secondary pollution prevention of dioxins and achieving the compaction of an exhaust gas treating device and a flying ash treating device for dioxin countermeasures installed downstream.例文帳に追加

排ガス冷却過程でのダイオキシンの生成を効果的に抑制し、その結果ダイオキシンの二次汚染防止、ならびに下流側に設置されるダイオキシン対策のための排ガス処理装置や飛灰処理装置のコンパクト化を達成する。 - 特許庁

When the projection 52 is detected in the first process, an interface part between the transparent substrate 54 and the opaque film 56 is observed from the opposite surface side opposite to the film-formation surface by the second camera 16.例文帳に追加

第１工程で突起５２が検出された場合に、その突起５２の位置において、第２カメラ１６により、成膜表面とは反対の反対面側から透明な基板５４と不透明な膜５６との界面部を観察する。 - 特許庁

Formation of an advanced control block 56 is initiated by creating an initial function control block having generic control logic 102 and control inputs and outputs communicatively connected to process outputs and inputs.例文帳に追加

アドバンスド制御ブロック５６は、汎用制御論理１０２を有し、プロセス出力および入力に通信可能に接続された制御入力および出力とを有する初期機能制御ブロックを作成することで形成が開始される。 - 特許庁

The process liquid for migration suppression layer formation contains azole compound and water, has a dissolved oxygen amount of 8 ppm, and is used to form a migration suppression layer that suppresses ion migration in copper wiring or copper alloy wiring.例文帳に追加

アゾール化合物と水とを含有し、溶存酸素量が８ｐｐｍ以下である、銅配線または銅合金配線におけるイオンマイグレーションを抑制するマイグレーション抑制層を形成するためのマイグレーション抑制層形成用処理液。 - 特許庁

To provide a process for producing surface treated silica particles which inhibit the lowering of flowability of the obtained epoxy resin composition even when incorporated into a liquid epoxy resin composition and further can inhibit the formation of aggregation.例文帳に追加

液状のエポキシ樹脂組成物に含有させても、得られるエポキシ樹脂組成物の流動性の低下を抑制でき、さらに、凝集の発生を抑制できる表面処理シリカ粒子を製造する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This method for producing the episulfide compound obtained by forming the epithio structure from the epoxy compound is characterized in that the epoxy compound is obtained by passing through an isothiuronium salt formation process in the presence of a cationic ion exchange resin.例文帳に追加

エポキシ化合物をエピチオ化し得られるエピスルフィド化合物の製造方法において、エポキシ化合物がカチオン型イオン交換樹脂の存在下でイソチウロニウム塩化工程を経ることを特徴とするエピスルフィド化合物の製造方法。 - 特許庁

To provide a production method, in which an esterified material can efficiently be produced by preventing the formation of hydrolysis products in the treatment process after an esterification reaction using an acid catalyst.例文帳に追加

酸触媒を使用するエステル化物の製造方法におけるエステル化反応後の処理工程において、加水分解生成物の発生を抑制することにより、効率よく製造することのできるエステル化物の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a gate electrode portion containing a metal which controls oxidation of a metal contained in the gate electrode portion during formation of a film on the side surface thereof and subsequent process.例文帳に追加

メタルを含むゲート電極部を有する半導体装置において、ゲート電極部の側面に形成される膜の形成時およびその後の工程で、ゲート電極部に含まれるメタルの酸化を抑えることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a production process of a sintered compact for a target with which when dried, no crack or no warpage is not caused in the green body and the dried green body shows high strength, by applying a slip casting method in formation of a large-sized green body.例文帳に追加

本発明は鋳込み成型法を適用して大型の成形体を得るに際して、乾燥時にクラックや反りを発生させないと同時に成形体強度の高いターゲット用焼結体を得る方法の提供を課題とする。 - 特許庁

This is a packing body of a powdered electrode material in which the powdered electrode material is packed in a packing bag which is constituted of a material that is dissolved in a dispersion medium in a temperature condition in a dispersion fluid coating process at the time of electrode formation.例文帳に追加

電極形成時の分散液塗布工程における温度条件下において分散媒に溶解する材料で構成された包装袋に、粉状電極材料を包装してなる粉状電極材料の包装体。 - 特許庁

To resolve the problem that conventionally polycrystalline silicon transistor which requires heat treatment process at a high temperature for the formation of source and drain regions, and that it is difficult to form a minute transistor due to diffusion of impurities from the source and drain regions.例文帳に追加

多結晶シリコントランジスタは、ソースおよびドレイン領域の形成のために高温の熱処理工程を必要とし、ソースおよびドレイン領域からの不純物拡散により微細なトランジスタを形成することが困難である。 - 特許庁

To prevent loss in an SAC nitride film formed on an upper portion of a gate and improve the hump characteristics of a transistor in a planarizing process of an interlayer dielectric for subsequent formation of a contact plug, even if a surface roughness exists on a metal silicide layer.例文帳に追加

金属シリサイド層に表面粗さが存在しても、後続のコンタクトプラグの形成のための層間絶縁膜の平坦化工程の際、ゲートの上部に形成されたSAC窒化膜の損失を防止し、トランジスタのハンプ特性を改善すること。 - 特許庁

To obtain a method for manufacturing a semiconductor device which can prevent variations in the thickness of an interlayer insulating film during formation of a multi-layered wiring structure, by a resist etch back process to thereby obtain a semiconductor device having a stable capacity between wiring layers.例文帳に追加

多層配線構造のレジストエッチバックによる形成プロセスにおいて、層間絶縁膜厚の変動を防ぎ、配線層間容量の安定した半導体装置が得られる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To stably carry out image formation well over a long period of time by preventing a fogging due to a developer entering a contact electrifying member in a transfer type image forming apparatus of a contact electrifying type and a cleanerless process.例文帳に追加

接触帯電方式・クリーナーレスプロセスの転写式画像形成装置について、接触帯電部材中に混入してくる現像剤に起因するカブリを防止して長期にわたって安定して良好な画像形成を行う。 - 特許庁

In the method for manufacturing a printed board, a metal layer on the surface of a substrate is polished by 5 μm or more by means of a tubular or planar polishing material having a hardness of about 1,000 HV or above in a surface smoothing process preceding to circuit formation.例文帳に追加

回路形成前の整面工程において基板表面の金属層を，硬度が概ね1000HV以上の円筒状又は板状の研磨材により５μｍ以上研磨することを特徴とする配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of preparing a prepolymer which can minimize the deterioration of a product, can minimize the formation of an undersirable by-product and can keep the desirable product viscosity in process for separating a monomer, can keep a desirable product viscosity, and has a low isocyanate monomer content.例文帳に追加

生成物の劣化を最低にし、モノマー分離工程における望ましくない副生成物の形成を最小にし、望ましい生成物粘度を維持する、低イソシアネートモノマー含量のプレポリマーの調製方法の提供。 - 特許庁

This method for forming a conductive pattern includes a process to apply solder paste 16 by screen printing with a part of an IC chip 12 covered with an elastic sheet 2 in which an opening 4 is formed in the formation area of solder 18, on the circuit board 11.例文帳に追加

回路基板１１上において、ハンダ１８の形成領域に開口４が形成された弾性シート２でＩＣチップ１２の少なくとも一部を覆った状態で、ハンダペースト１６をスクリーン印刷により塗布する工程を備える。 - 特許庁

To provide a source solution for bismuth compound that can reduce the use of the solvent in the formation of bismuth-containing thin film through the chemical vaporization deposition (CVD) process and can give the thin film of good flatness over a wide range of the substrate temperature.例文帳に追加

溶液気化ＣＶＤ法によるビスマス含有薄膜の作製において溶媒の使用量を少なくすることができ、かつ広い基板温度範囲で平坦性の良い膜が得られる、ビスマス化合物の原料溶液を提供する。 - 特許庁

In a process for performing the active patterning with respect to the Si layer 13, leg parts 13a are left in the groove h1 by allowing the Si layer 13 to be supported on the Si substrate 1 as it is even after the formation of the cavity part 25.例文帳に追加

Ｓｉ層１３に対してアクティブのパターニングを行う工程では、空洞部２５を形成した後もＳｉ層１３がＳｉ基板１上でそのまま支えられるようにその脚部１３ａを溝ｈ１内に残しておく。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metal fine particle by which a copper fine particle small in particle diameter, narrow in particle size distribution, excellent in dispersion stability and suppressive in formation of dendrite can be mass-manufactured by a simple process.例文帳に追加

粒径が小さく、粒度分布が比較的狭く、分散安定性に優れかつデンドロイト化が抑制された銅微粒子を、簡便な方法でかつ大量に生成することのできる金属微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁