「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a trimmer capacitor wherein even if, in a formation process of a stator, a top face of a stator is ground in order to give a higher flatness of the top face of the stator and a front face of a fixing electrode molded on the stator, an electrostatic capacity does not vary and more stable characteristics are provided.例文帳に追加

ステータの形成工程において、ステータ上面およびステータにモールドされている固定電極表面の平面度を上げるためにステータ上面を研磨しても静電容量が変化せず、安定した特性を有するトリマコンデンサを提供する。 - 特許庁

In such a way, a gate insulating film and a semiconductor layer are continuously formed in a low-temperature deposition process and a heat treatment subsequent to the formation of the gate insulating film and the semiconductor layer is substituted for the first heating treatment at the time of the above crystal growth to contrive a reduction in defects in the interface between the gate insulating film and the semiconductor layer.例文帳に追加

こうして、ゲート絶縁膜と半導体層とを低温デポ工程で連続的に形成し、ゲート絶縁膜/半導体層形成後の熱処理を上記結晶成長時の第１の加熱処理で代行させ、界面欠陥の低減を図る。 - 特許庁

The evaluation method of the resist composition, which is used in the resist pattern forming method including a process of immersion exposure, includes forming of a resist film, selectively exposing, performing a treatment in which the resist film is brought into contact with a immersion solvent used in the process of immersion exposure, baking after exposure (PEB), developing, and evaluating the obtained resist pattern formation performance.例文帳に追加

浸漬露光する工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物の評価方法であって、 レジスト膜を形成し、選択的露光し、前記レジスト膜に前記浸漬露光する工程に用いる浸漬溶媒を接触させる処理を行い、露光後加熱（ＰＥＢ）し、現像し、得られたレジストパターン形成性能を評価することを特徴とするレジスト組成物の評価方法。 - 特許庁

This invention relates to a polymerization process and the resulting polymer composition, the process comprising a step of polymerizing one or more addition polymerizable monomers and a polymerizable shuttling agent in the presence of at least one addition polymerization catalyst comprising a metal compound or complex and a cocatalyst under conditions characterized by the formation of a branched polymer, preferably comprising pseudo-block molecular architecture.例文帳に追加

重合方法及び結果として得られるポリマー組成物であって、該方法は、好ましくは擬似ブロック分子構造を含む分岐ポリマーの形成を特徴とする条件下、金属化合物又は複合体と共触媒とを含む、少なくとも１種の付加重合触媒の存在下で、１以上の付加重合性モノマーと重合性シャトリング剤とを重合するステップを含む。 - 特許庁

To maintain satisfactory image quality over a long period in an image forming apparatus adapted to execute image formation by applying, to an image carrier driven to rotate, an image forming process including a process for electrifying the image carrier by a charging means, by enabling responding to an image flow even in a state where power supply from a commercial power source to the image forming apparatus is interrupted.例文帳に追加

回転駆動される像担持体に、この像担持体を帯電手段により帯電させる工程を含む画像形成工程を適用して画像形成を実行する画像形成装置において、商用電源から画像形成装置への電力供給が遮断された状態時においても、画像流れへの対応を可能にして、長期に亘って良好な画像品質を維持する。 - 特許庁

To provide a process for preparation of an alkenylphosphonic acid derivative free from formation of a coupling product, accepting reaction temperature below 200°C, accepting high yield more than 75%, being sufficient without use of an expensive noble metal catalyst and having improved yield and selectivity compared to conventional process.例文帳に追加

カップリング生成物を形成せず、明らかに２００℃を下廻る反応温度を許容し、殊に７５％を上廻る高い収率を可能にし、高価な貴金属触媒の使用なしに十分であり、かつ欧州特許出願公開第１２０３７７３号明細書Ａ１と比較して改善された収率および選択性を有する、アルケニルホスホン酸誘導体の製造法を見出す。 - 特許庁

To provide a process for batchwise producing polyamide in which the formation of a massive deposit in a stirring apparatus is suppressed to enhance production efficiency, and the resultant product includes less unmelted material due to the deposit, with respect to a process for batchwise producing polyamide through direct melt polymerization of a diamine component comprising paraxylylenediamine and a dicarboxylic acid component in the substantial absence of solvents.例文帳に追加

パラキシリレンジアミンを含むジアミン成分とジカルボン酸成分とを実質溶媒の非存在下に直接溶融重合させるポリアミドのバッチ式製造方法において、撹拌装置への塊状の付着物の生成を抑制して生産効率を上げると共に、得られる製品中に該付着物を起因とする未溶融物の混入が少ないポリアミドのバッチ式製造方法を提供。 - 特許庁

The method of manufacturing the filter for display panels includes: function layer formation processes A, B for forming the electromagnetic material and the functional coating layer on the base material film successively, a conductive tape arrangement process C for arranging the conductive tape on the functional coating layer, and a knurling process D for performing knurling from the surface of the conductive tape for allowing the conductive tape to come into contact with the electromagnetic sealing material.例文帳に追加

基材フィルム上に、電磁波シールド材および機能性塗工層を順次形成する機能層形成工程（Ａ），（Ｂ）と、機能性塗工層上に導電性テープを配置する導電性テープ配置工程（Ｃ）と、導電性テープ表面からローレット加工を施して、導電性テープと電磁波シールド材とを接触させるローレット加工工程（Ｄ）と、を含む。 - 特許庁

To provide the manufacture of a semiconductor device, which can cope with micronization by enabling a thin oxide film to be formed on the surface of a silicon substrate by the same thermal oxidation process before ion implantation process for formation of source and drain diffused layers, and enabling an oxide film of sufficient thickness to secure reliability to be formed at the sidewall of a gate electrode, and the end of a gate.例文帳に追加

ソース、ドレイン拡散層形成のためのイオン注入工程前に、同一の熱酸化工程によりシリコン基板表面に薄膜の酸化膜を形成できると共に、ゲート電極側壁及びゲートエッジ端に信頼性を確保するのに十分な膜厚の酸化膜を形成できることより、微細化に対応可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of a wiring board formed by laminating at least one conductor layer and one resin insulation layer includes a groove formation process in which a groove is formed on a main surface side of the resin insulation layer and Cu paste supply process in which a Cu paste is supplied on the groove and the main surface of the resin insulation layer and the conductor layer is formed with the Cu paste.例文帳に追加

導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも１層積層されてなる配線基板の製造方法であって、前記樹脂絶縁層の主面側に溝部を形成する溝部形成工程と、前記溝部及び前記樹脂絶縁層の主面上にＣｕペーストを供給し、このＣｕペーストから前記導体層を形成するＣｕペースト供給工程と、を備える。 - 特許庁

The image forming apparatus for forming an image on recording material using an electrophotographic formation process, includes a storage means for storing information regarding the type of recording material obtained by deciding, based on the temperature of the recording material and an image forming means for executing image formation at the set fixing starting temperature, set according to the information regarding the recording material type are provided.例文帳に追加

画像形成装置は、電子写真形成プロセスを用いて記録材上に画像を形成する画像形成装置であって、前記記録材の温度に基づいて判定して得られた記録材種に関する情報を格納する記憶手段と、前記記録材種に関する情報に応じて設定された定着開始温度で画像形成を実行する画像形成手段と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a conductive paste, a flexible printed wiring board having jumper wiring formed of the conductive paste, and an electronic apparatus having the flexible printed wiring board, capable of coping with high-density conductive wiring with a small circuit pitch, securing high connection reliability, and enabling the formation of the jumper wiring by one time coating process to achieve a thin formation of the flexible printed wiring board.例文帳に追加

高密度な導体配線に対応可能な、回路ピッチが微小で、且つ高い接続信頼性を確保できると共に、フレキシブルプリント配線板の薄型化を実現できるジャンパー配線を１回の塗布工程で形成可能とする導電性ペースト、該導電性ペーストにより形成されるジャンパー配線を備えるフレキシブルプリント配線板及び該フレキシブルプリント配線板を備える電子機器の提供を課題とする。 - 特許庁

The thin film formation device 1 for forming a plurality of thin films in a substrate 10 in the same chamber 2 by an antenna type plasma CVD method (chemical vapor deposition) has a residue removal means for removing residue which affects property of a second thin film formed next to a first thin film of a plurality of thin films and is caused in a first thin film formation process.例文帳に追加

アンテナ式プラズマＣＶＤ法（化学的気相成長法）により基板１０に複数の薄膜を同一チャンバ２内で形成する薄膜形成装置１であって、複数の薄膜のうち第１薄膜の次に形成する第２薄膜の特性に影響を与え、かつ、第１薄膜形成過程に起因した残留物質をチャンバ２内から除去する残留物質除去手段を備えることを特徴とする。 - 特許庁

Furthermore, only surface refining treatment having favorable reproducibility is employed to control the surface tension, whereby required surface tension is readily obtained, and it is not necessary to regulate the surface tension after completing the formation of the liquid immersion status afterward, whereby the oil immersion exposure process can be finished simply.例文帳に追加

しかも、表面張力を制御するために再現性のよい表面改質処理しか使用しないため、所望の表面張力が得られやすいと共に、液浸状態の完成後において表面張力を事後的に調整する必要がないため、液浸露光工程が簡単で済む。 - 特許庁

In all transistors TA-TC, a well 11 is formed in the same manner, and a quantity of impurity to be injected to the surface of a substrate 100 for adjusting threshold voltage is set, thereby simplifying a thermal history during formation of impurity area and easing setting up of a wafer process.例文帳に追加

すべてのトランジスタＴＡ〜ＴＣで、ウェル１１を同じに形成するともにしきい値電圧調整用の基板１００の表面部への不純物注入量を同じに設定して不純物領域形成時の熱履歴を単純にし、ウェハプロセスの立ち上げを容易にする。 - 特許庁

When the seed layer is formed by an ionization PVD process, the power for plasma formation and RF bias are adjusted, and an initial seed layer where the bottom of the opening is formed is resputtered for depositing onto the side wall of the opening, thus forming the seed layer with the superior side-wall step coverage characteristics.例文帳に追加

イオン化ＰＶＤ工程によるシード層の形成の時、プラズマ形成用の電力およびＲＦバイアスを調節してオープニングの底の形成される初期シード層をリスパッタリングしてオープニングの側壁に再蒸着して、側壁ステップカバレージ特性が優秀なシード層を形成できる。 - 特許庁

To provide a developing method for photoresist film which can not only shorten the process time but also can improve the wavelength area selection ratio to enable the formation of a photoresist pattern of a sharp shape, a manufacturing method for a semiconductor device using the developing method, and a developer suitable for excuting the developing method.例文帳に追加

処理時間を短縮できるのはもちろん選択比を向上してシャープな形状のレジストパターンの形成を可能にしたレジスト膜の現像方法、及びこの現像方法を用いた半導体装置の製造方法、さらに現像方法の実施に好適な現像装置を提供する。 - 特許庁

Since ruggedness resulting from dents 55H provided in the insulator layer 55 is fully eased in a polishing process, when a plurality of thin film magnetic heads are formed on a wafer in parallel, the formation thickness of principal magnetic pole layers 10 become to be hardly fluctuated among respective thin film magnetic heads.例文帳に追加

研磨過程において絶縁層５５に設けられている窪み５５Ｈに起因する凹凸が十分に緩和されるため、ウェハに複数の薄膜磁気ヘッドを並列的に形成する場合に、各薄膜磁気ヘッド間において主磁極層１０の形成厚さがばらつきにくくなる。 - 特許庁

To provide felt materials to be applied for such a photographic image formation process or various working equipment as an electronic copying machine, a laser beam printer and a facsimile machine for achieving the leakage prevention of toner and the scraping of residual toner by bringing it close contact with the peripheral faces of a photoreceptor drum, developing roller and fixing roller or the like.例文帳に追加

フェルト材として主に電子複写機、レーザビームプリンタ、ファクシミリのような写真画像形成プロセスまたは各種の作業機器に適用し、感光ドラム、現像ローラや定着ローラなどの周面に密接することにより、トナーの漏出防止および残トナーの掻き取りなどを達成する。 - 特許庁

To process a good pattern without remainders, while preventing precipitation of copper or silicon generated in a step of forming a film containing Al as a main component and containing at least Cu or Si, or in a thermal step of peeling off a defective resist pattern during pattern processing after the film formation.例文帳に追加

Ａｌを主成分とし、少なくともＣｕあるいはＳｉを含んだ膜の成膜時、あるいは成膜後におけるパターン加工時の不良レジストパターンの剥離時の熱工程時に発生する銅あるいはシリコンの析出を防ぎ、残渣のない良好なパターンを加工する。 - 特許庁

In order to make a resist pattern to be transferred or a substrate pattern to be formed via passing process have a desired size and form, the formation means (6) sets the position coordinates of the longitudinal direction of the four practical surface light sources to be made practically different from the position coordinates in the traversal direction.例文帳に追加

瞳形状形成手段は、転写されるレジストパターンまたはプロセスを経て形成される基板パターンを所望の大きさおよび形状とするために、４つの実質的な面光源の縦方向の位置座標と横方向の位置座標とが実質的に異なるように設定する。 - 特許庁

This is the manufacturing method of the oxide thin film to form the oxide thin film (for example, interlayer 2) on the oriented metal substrate 1, having a process of cutting the oxide layer 1b of the surface of the oriented metal substrate 1 just before oxide thin film formation.例文帳に追加

配向金属基板１上に酸化物薄膜（たとえば中間層２）を形成する酸化物薄膜の製造方法であって、酸化物薄膜形成の直前に配向金属基板１の表面の酸化層１ｂを切削する工程を有する酸化物薄膜の製造方法。 - 特許庁

The reaction of the non-silicone substance with the silicone substance in the presence of the crosslinker may be initiated with a process of mixing the composition, or of injection molding the composition (formation of the first half shell of and the second half shell of the golf ball), or of compression molding their shells above the central part of the golf ball.例文帳に追加

架橋剤の存在下での非シリコーン物質とシリコーン物質の反応は、組成物の混合、組成物の射出成形（ゴルフボールの第一ハーフシェルと第二ハーフシェルを形成）、またはゴルフボールの中心部分の上でのそれらシェルの圧縮成形の工程によって開始されてもよい。 - 特許庁

In a process of forming the well region, a part of a part (silicon oxide film 51) which is formed in the formation scheduled region A2 of the MOS transistor 4 of the silicon oxide film 31 is removed by wet etching and after that, the first ion implantation is performed by using the silicon oxide film 31 as a mask.例文帳に追加

ウェル領域を形成する工程では、シリコン酸化膜３１のうちＭＯＳトランジスタ４の形成予定領域Ａ２に形成されている部分（シリコン酸化膜５１）の一部をウェットエッチングにより除去してから、シリコン酸化膜３１をマスクとして第１のイオン注入を行う。 - 特許庁

This radiation-sensitive resin composition is used for forming a resist film for use in a resist pattern formation method including a liquid dipping exposure process using bicyclohexyl as a liquid for liquid dipping exposure, and the static contact angle of a formed resist film to the hydroxyl is 30-90°.例文帳に追加

液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法で使用されるレジスト膜の形成に用いられ、形成されたレジスト膜の、ビシクロヘキシルに対する静的接触角が３０〜９０°である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To prevent a heat history of the manufacture process of a memory circuit from affecting a well region of a logic circuit, and to prevent introduction of contaminants to a substrate at the time of ion implantation for well region formation in a semiconductor device for which the memory circuit and the logic circuit are consolidated.例文帳に追加

記憶回路部と論理回路部とを混載する半導体装置において、記憶回路部の製造工程の熱履歴が論理回路部のウエル領域に影響を与えないようにし、また、ウエル領域形成のイオン注入時に基板への汚染物質の導入を防止できるようにする。 - 特許庁

Then, in an extrusion process, the chip element 1 inserted from one opening 11a is pushed by a press pin 20 inserted from the other opening 11b of the holding hole 11 to the wide parts 17 and 18, and an electrode formation part A in the chip element 1 is exposed from one opening 11a.例文帳に追加

そして、押出工程において、保持穴１１の他方の開口部１１ｂから幅広部１７，１８に挿入したプレスピン２０で一方の開口部１１ａから挿入されたチップ素体１を押して、チップ素子１における電極形成部Ａを一方の開口部１１ａから露出させる。 - 特許庁

To provide a laminate having a continuous metal oxide layer, having sufficient barrier properties, and reduced in the deterioration due to the contact of the hard coad layer of the laminate with the metal oxide layer of another laminate generated at continuous formation of a film due to a roll-to-roll process.例文帳に追加

連続した金属酸化物層を有し、十分なバリア性があり、かつＲｏｌｌ−ｔｏ−Ｒｏｌｌによる連続成膜時に起こる積層体のハードコート層と他の積層体の金属酸化物層の接触による劣化の低減された積層体を提供することを目的とする。 - 特許庁

This method is to make the gravure printing plate by forming a gravure cell by corrosion and features the repetition of a normal/reverse rotation cycle of a gravure cylinder in its rotating direction inside a release tank, in a process to release the film of the sensitizing agent after the formation of the gravure cell by corrosion.例文帳に追加

腐食によりグラビアセルを形成するグラビア版の製版方法であって、 腐食によるグラビアセル形成後の感光剤皮膜剥離工程において、剥離槽内でのグラビアシリンダーの回転方向を正逆繰り返すことを特徴とするグラビア版の製版方法である。 - 特許庁

To control a document (image data) to be a printing target and printing direction individually, and to provide an image formation device which can materialize a printing process which enables selection and re-using of a printing direction by a client PC user.例文帳に追加

本発明の課題は、印刷対象となる文書（画像データ）と印刷指示書とを個別に管理すると共に、クライアントＰＣの利用者による印刷指示書の選択及びを再利用を可能とする印刷処理を実現する画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a duct for reducing noise of a compressor of an air conditioner and wind noise of air passing through the duct, having excellent dew formation preventing nature, heat insulation, heat resistance and lightweight nature, having satisfactory strength in practical use, and manufactured in a simple process.例文帳に追加

本発明は、エアコンのコンプレッサーが発生する騒音や、ダクトを通る空気の風切り音を低減でき、しかも結露防止性、断熱性、耐熱性、軽量性に優れ、実用上十分な強度を有すると共に、簡素な工程で製造可能なダクトを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor laser element for performing control in a shape of a process at the time of the formation of a ridge stripe and control in etching depth, and for preventing the deterioration of a characteristic and a yield caused by the existence of an ending point detecting layer.例文帳に追加

リッジストライプ形成の際の加工形状の制御性とエッチング深さの制御性とを両立させることができ、かつ、終点検出層が存在することによる特性劣化や歩留りの低下を防ぐことができる半導体レーザ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process for forming the thin film transistor wherein a polycrystalline silicon thin film is used as an active layer on a glass substrate (11), at least a part or all of metal patterns (12) which exist at the peripheral part of the glass substrate and do not concern the formation of thin film transistors (13) are removed by photolithography.例文帳に追加

ガラス基板(11)上に多結晶シリコン薄膜を活性層に用いた薄膜トランジスタを形成する過程において、前記ガラス基板周辺部の薄膜トランジスタ(13)形成に関与しない金属パターン(12)の少なくとも一部または全部をフォトリソグラフィによって除去する。 - 特許庁

Removal of a mask in a region to form the semiconductor element and removal of a sacrifice layer and the mask in the region to form the micro structure are carried out in the same process by forming the sacrifice layer by using a mask material to carry out pattern formation of a film in manufacturing the micro machine.例文帳に追加

マイクロマシンの作製に際して、膜のパターン形成を行うためのマスク材料を用いて犠牲層を形成し、半導体素子を形成する領域におけるマスクの除去と、微小構造体を形成する領域における犠牲層とマスクの除去を同一の工程にて行う。 - 特許庁

On a semiconductor substrate 11 participating in the constitution of a photovoltaic cell, an etching-resistant porous film 13 is formed by using a paste, and the etching-resistant porous film 13 serves as a mask in an etching process for the formation of a very finely corrugated antireflection structure 15 on the semiconductor substrate 11.例文帳に追加

太陽電池を構成する半導体基板１１上に、ペーストを使用して多孔質の耐エッチング性膜１３を形成し、多孔質の耐エッチング性膜１３をマスクとして用いて、エッチングを行うことにより、半導体基板１１上に、微細な凹凸からなる反射防止構造１５を形成する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescence element allowing fine processing easily and certainly in the element manufacturing process by accurately forming film formation preventive layers in the desired shape and having a very small light emission probability of an organic light emission layer in the non-selected portion.例文帳に追加

所望の形状の成膜防止層を精度良く形成することにより、有機電界発光素子の製造工程における微細加工を容易かつ確実に行って、非選択部分の有機発光層の発光確率が著しく小さい有機電界発光素子を製造する。 - 特許庁

To provide a production process of a flexible circuit board in which a sufficient adhesion strength is provided between a polyimide layer and a conductor layer after circuit formation, and which prevents the adhesion strength from being deteriorated after heat loading, and also to provide the flexible circuit board made by this production method.例文帳に追加

回路形成後のポリイミド層と導体層との間において充分な密着力が得られ、かつ熱負荷後の密着力低下を防ぐことを可能としたフレキシブル回路基板の製造方法及び該製造方法により得られるフレキシブル回路基板を提供する。 - 特許庁

To provide a production method of a cold cathode field electron emission display device in which the accurate and inexpensive formation of an emitter is enabled without employing a positioning device, and in which the quality deterioration of an emitter material is prevented when forming the emitter in a gate hole by an after insertion process of the emitter.例文帳に追加

エミッタの後入れプロセスでゲートホール内にエミッタ形成する際、エミッタ材料の品質低下を防ぎ、位置合わせ装置を使用せずに精度よく、安価に形成することができる冷陰極線電界電子放出表示装置の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge in which deformation of the tip of a first blade by rolling of the tip in image formation is prevented, and contamination of a charging roller by a lubricant splashed by rolling of the tip of a second blade in reverse rotation of an image carrier is also prevented.例文帳に追加

画像形成時の第１ブレード先端の巻き込みによるブレード先端の変形を防止するとともに、像担持体逆回転時に第２ブレード先端の巻き込んで潤滑剤を弾き飛ばし帯電ローラを汚染させることを防止する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device having a high-k film 21 and a gate electrode 24 formed on a silicon substrate 11, annealing treatment 23 is applied to the substrate after formation of the high-k film in a fluorine atmosphere, and thereafter, the process temperature is set to be lower than 600°C.例文帳に追加

シリコン基板１１上にｈｉｇｈ−ｋ膜２１とゲート電極２４を形成する半導体装置の製造方法において、ｈｉｇｈ−ｋ膜形成後にフッ素雰囲気でアニール処理２３を施し、その後のプロセス温度を６００℃以下で行う、半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the process, a first temporary gate sidewall spacer defines a rising source/drain formation area, a second temporary spacer defines a source/drain injection and source/drain silicification area, and the temporary gate is protected from being silicified by the hard mask.例文帳に追加

その処理において、第１の一時ゲート側壁スペーサは隆起したソースおよびドレインの形成用の領域を定義し、第２の一時スペーサはソースおよびドレインの注入用ならびにソースおよびドレインの珪化用の領域を定義し、一時ゲートはハードマスクによって珪化から保護される。 - 特許庁

On the surfaces of a mother ceramic substrate 10, break grooves 11 are formed in a grid pattern by a laser scribing method, and the mother substrate is primarily divided along the break grooves which extend in one direction, then dross which is produced in the break groove formation process is removed by barrel polishing or the like.例文帳に追加

セラミック製マザー基板１０の表面にレーザスクライビング法によってブレーク溝１１を格子状に形成し、該マザー基板を一方向に延在するブレーク溝に沿って１次分割し、ブレーク溝形成時に発生した溶融再凝固物（ドロス）をバレル研磨等で除去する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording head capable of performing high-quality printing with an inexpensive process under low temperatures, which keeps an etching sacrifice layer taper-angled to drastically lower the cracking probability in an etching stop layer during the formation of an ink supply port using anisotropic etching, with an improved yield.例文帳に追加

エッチング犠牲層にテーパー角を付けることによって、異方性エッチングを使ったインク供給口形成時のエッチングストップ層の割れの確率が飛躍的に低下して歩留まりが向上し、低温で安価なプロセスを使って高品位な印字が可能なインクジェット記録ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an element isolation film in a semiconductor device capable of dissolving the problem that F ions are diffused in a boundary between the element isolation film and the element in an element isolation film formation process and cause the characteristic degradation of the element.例文帳に追加

本発明は、素子分離膜の形成工程時にＦイオンが素子分離膜及び素子間の界面に拡散して素子の特性劣化を引き起こすという問題点を解決することが可能な半導体素子の素子分離膜形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To surely perform the capillary suction of a specimen soln. in particular while dispensing with the formation of a surfactant layer to simplify a manufacturing process to improve productivity, in a biosensor using a very small amt. of a liquid specimen to rapidly and simply measure a specific component in the specimen highly accurately.例文帳に追加

微量の液体試料を用いて、その試料中の特定成分を迅速、高精度、簡便に測定することができるバイオセンサに関し、特に試料液の毛細管吸引が確実に行えると共に、界面活性剤層の形成を不要にして製造工程を簡略化し、生産性を良くする。 - 特許庁