「formation processes」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The processes of image formation and primary transfer are switched, so as to make the order (a layer position) of the toner image Ty of yellow on recording paper P different in the case of selecting a plain paper mode and in the case of selecting a coat paper mode.例文帳に追加

普通紙モードを選択した場合とコート紙モードを選択した場合とで、イエローのトナー像Ｔｙの記録用紙Ｐ上での順番（層位置）が異なるように作像及び一次転写のプロセスを切り換えるように構成した。 - 特許庁

It is a feature of this image forming method that the electrophotographic sensitive body including a pigment which is obtained through a process performing freezing treatment after the acid paste treatment is used and the image formation is performed through electrification, image exposure and reversal development processes.例文帳に追加

アシッドペースト処理後に凍結処理を行う工程を経て得られた顔料を含有する電子写真感光体を用い、帯電、像露光、反転現像工程を経て画像形成されることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

To provide the structure of a PCa wall-slab joining section in which processes such as the formation of a sleeve joint, filling works, welding or the like can be omitted and PCa wall slabs can be joined mutually at the same time as the completion of slabs.例文帳に追加

スリーブジョイントの形成や充填作業及び溶接等の工程を省略し、スラブの完成と同時にＰＣａ壁版相互を接合することが出来るＰＣａ壁版相接合部の構造を提供するものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element which can planarize a device region, without the further addition of processes to a conventional STI formation process flow, and to provide a photomask which is used for the manufacturing method.例文帳に追加

従来のＳＴＩ形成工程フローに対して新たな工程を追加することなく、デバイス領域の平坦化を図ることが可能な半導体素子の製造方法、およびその製造方法に用いられるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide miniaturization of a device and simplification of manufacturing processes by continuously depositing with the same target at a negative electrode (an active material layer and a collector layer) formation section in a thin film solid lithium secondary battery manufacturing process.例文帳に追加

薄膜固体リチウム二次電池製造工程中の、負極（活物質層および集電体層）形成部分において、同一ターゲットで連続的に成膜することにより、装置の小型化および製造工程の簡素化を提供する。 - 特許庁

To realize an etching method, where a hard mask is used, wherein the hard mask is formed of a material which is high in adhesion with respect to an electrode material and does not have complicated formation and removal processes through a simple process and whose selection ratio of etching to the electrode material is high.例文帳に追加

電極材料に対し密着性が高く、かつ電極材料に対しエッチング選択比が高く、しかも形成および除去の工程が複雑でない材料をハードマスクに用いたエッチング方法を実現する。 - 特許庁

To judge whether an image can be formed during paper feeding and to perform none of processes for image formation, fixation, etc., for transfer paper on which an image can not be formed even if transfer paper on which an image can be formed and transfer paper on which an image can not be formed are mixed.例文帳に追加

転写紙の画像形成可能なものと不可のものが混在していても、給紙中に画像形成可否を判断し、画像形成が不可のものには画像形成、定着等の処理を行わないことを可能にする。 - 特許庁

To perform processes from formation of a tilted groove to division of a chip efficiently in series when dividing a laminated work wherein a region to be cut does not surface, such as a laminated capacitor, into chips.例文帳に追加

積層コンデンサーのような表面に切削すべき領域が現れない積層被加工物を個々のチップ状に分割する際に、傾斜溝の形成からチップへの分割工程を一連に効率よく遂行できるようにすること。 - 特許庁

In processes beginning with a protected statin-ester derivative, the protecting group is hydrolyzed during salt formation by contact with calcium hydroxide, or is brought into contact with an acid catalyst followed by contact with calcium hydroxide.例文帳に追加

保護されたスタチン・エステル誘導体を用いて始める方法において、保護基を、水酸化カルシウムとの接触により塩形成中に加水分解するか、又は酸触媒と接触させた後に水酸化カルシウムと接触させる。 - 特許庁

To prevent a supporting material from being carelessly peeled off in a manufacturing processes, to easily peel off the supporting material from a metal layer and to improve the formability of electric wirings when manufacturing a photoelectric wiring consolidated board by using a laminated material in which the supporting material, the metal layer for electric wiring formation and a resin layer for optical wiring formation are laminated.例文帳に追加

支持材、電気配線形成用の金属層及び光配線形成用の樹脂層を積層した積層材を用いて光電気配線混載基板を製造するにあたり、製造プロセスにおける支持材の不用意な剥離を防止、金属層からの支持材の剥離時における容易な剥離、電気配線の成形性向上を達成する。 - 特許庁

It has a function layer formation process which forms a function layer 302 on an electrode 301 formed on a substrate 300, and a counter-electrode formation process which forms the counter electrode 303 which counters the electrode 301 on both sides of the function layer 302 by vacuum evaporation, then, the upper and lower sides of the substrate 300 are reversed between the both processes.例文帳に追加

基板３００上に形成された電極３０１上に機能層３０２を形成する機能層形成工程と、機能層３０２を挟んで電極３０１に対向する対向電極３０３を蒸着により形成する対向電極形成工程とを有し、両工程の間で、基板３００の上下を反転させる。 - 特許庁

To provide a film formation method whereby a film can be formed at a low cost while simple processes and equipment are used to a local region of an inner peripheral face of a through hole formed in a base material, and to provide a liquid feeding head equipped with a liquid-repellent film formed by the film formation method, and to provide a liquid feeder equipped with the liquid feeding head.例文帳に追加

基材に設けられた貫通孔の内周面の局所領域に、簡易な工程・設備を用いながら、低コストで膜を形成することができる成膜方法、および、かかる成膜方法により形成された撥液膜を備える液体供給ヘッド、および、この液体供給ヘッドを備えた液体供給装置を提供すること。 - 特許庁

In the method of manufacturing a thin-film transistor which has a semiconductor thin film consisting of an oxide containing a zinc oxide (ZnO) as a main component and a gate insulation film consisting of a silicon-based insulation film and joined to the semiconductor film, the formation of the semiconductor film and the formation of the gate insulation film are executed in continuous processes in a vacuum state.例文帳に追加

酸化亜鉛（ZnO）を主成分とする酸化物からなる半導体薄膜と、シリコン系絶縁膜からなり該半導体薄膜に接するゲート絶縁膜を有する薄膜トランジスタの製法において、前記半導体薄膜の形成と前記ゲート絶縁膜の形成が、真空中にて連続した工程で行われることを特徴とする薄膜トランジスタの製法。 - 特許庁

The cleaning device 3 is provided with the cleaning blade 3-1 for cleaning toner remaining in an image carrier 2, wherein contact/separation operation with/from the image carrier 2 is repeated at the end of image formation after performing cleaning operation of the prescribed number of times, and bias is applied to the cleaning blade 3-1 over the whole processes of image formation, cleaning and contact/separation operation.例文帳に追加

像担持体２に残留したトナーをクリーニングするためのクリーニングブレード３−１を備えたクリーニング装置３において、所定回数クリーニング動作が行われた後の作像終了時に像担持体２への接離動作が繰り返されると共に、作像、クリーニング、接離動作の全工程に渡ってクリーニングブレード３−１にバイアスが印加される。 - 特許庁

In order to protect the dielectric against intrusion of hydrogen in following manufacturing processes, a first barrier layer (5) is embedded in the isolation layer (4) and, after formation of the memory capacity, a second barrier layer (10) connected to the first barrier layer (5) is deposited.例文帳に追加

誘電体をさらなる製造工程において水素の侵入から保護するために、アイソレーション層（４）内に第１のバリア層（５）を包埋しかつメモリキャパシタの製造後に、第１のバリア層（５）と結合する第２のバリヤー層（１０）を堆積させる。 - 特許庁

The following processes are performed successively, namely a laminate manufacture process of manufacturing an unfired ceramic laminate, a break groove formation process of forming a break groove, a firing process of obtaining a ceramic sintered compact, and a division process of dividing the ceramic sintered compact along the break groove.例文帳に追加

未焼成セラミック積層体を作製する積層体作製工程と、ブレイク溝を形成するブレイク溝形成工程と、セラミック焼結体を得る焼成工程と、セラミック焼結体をブレイク溝に沿って分割する分割工程とを順次行う。 - 特許庁

Transmission beams are formed in a plurality of directions in parallel, reception beams are formed in respective directions, and above parallel formation processes are repeated, so that transmission beams and reception beams are formed respectively in a plurality of directions over a plurality of times.例文帳に追加

並列的に複数の方向に送信ビームを形成して各方向ごとに受信ビームを形成し、その並列的な形成処理を繰り返すことにより、複数の方向の各々について複数回に亘って送信ビームと受信ビームを形成する。 - 特許庁

To adjust the threshold voltage of a p-channel type field effect transistor and n-channel type field effect transistor with a relatively thin gate insulating film, without increasing the number of photomasks and the number of formation/removal processes for the photoresist pattern.例文帳に追加

フォトマスクの枚数およびフォトレジストパターンの形成・除去工程数を増やすことなく、相対的に薄いゲート絶縁膜を持つｐチャネル型の電界効果トランジスタおよびｎチャネル型の電界効果トランジスタのしきい値電圧を調整する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently manufacturing a semiconductor device mounting thinned tape board which is capable of improving handling properties, such as the transfer of intermediate products from one to the other process in manufacturing processes or the formation of interconnecting lines on a base.例文帳に追加

製造過程の中間製品の工程間の搬送やベース上への配線形成を含めたハンドリング性を向上させることができる、半導体装置実装用の薄型化したテープ基板を効率よく製造可能な方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of producing a surface metal film material and a method of producing a metal pattern material, which allow the formation of a metal film or a metal pattern high in thermal shock resistance and superior in adhesion to a flat and smooth substrate, by simple and convenient processes.例文帳に追加

熱衝撃耐性が高く、平滑な基板との密着性に優れる金属膜又は金属パターンを簡便な工程により形成しうる表面金属膜材料の作製方法、及び金属パターン材料の作製方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a cigarette filter tip material not requiring complicated processes such as sheet formation, drying, etc., while maintaining removing performances of nicotine, tar components, etc., of cigarette being characteristics of fibrillated cellulose ester and yet having excellent flavor.例文帳に追加

フィブリル状のセルロースエステルの特長であるタバコのニコチン、タール成分等の除去性能を維持しながら、シート化、乾燥等の煩雑な工程を必要としないタバコフィルター材料であって、しかも香喫味が良好であるフィルター材料を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring substrate and its manufacturing method, and a laser drill device for removing dross generated in a hole opening end for via hole formation by means of laser drill processing, without having to use special processes such as physical polishing and chemical polishing.例文帳に追加

ビアホール形成用の孔開口端に発生するドロスの除去を物理研磨や化学研磨等の専用工程を用いることなくレーザードリル加工で行う多層配線基板及びその製造方法、並びにレーザードリル装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electro-optical device and an electro-optical device with improvement made in aspects of environment and cost with processes simplified, by applying an image formation technology of carrying out toner development like electronic photograph.例文帳に追加

電子写真的にトナー現像する画像形成技術を応用して、環境面およびコスト面での改善を行うとともに、工程の簡素化を図ることのできる電気光学装置の製造方法、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

By these processes, the formation of the inter-metal wiring abnormal film caused by etching a part of the metal wiring 101A when the inter-metal layer insulating film 104 is formed is prevented, to suppress the deterioration of the element characteristics.例文帳に追加

以上の工程を経ることで、金属層間絶縁膜１０４を形成する際に金属配線１０１Ａの一部がエッチングされてしまうことで金属配線間に異常膜が形成されるのを防ぎ、それにより素子特性の劣化を抑える。 - 特許庁

To provide a material for forming a protective film that can simultaneously prevent alteration of a resist film during liquid immersion lithography and alteration of the liquid used for the liquid immersion lithography and that can result in formation of a resist pattern having a preferable profile without increasing the number of processes.例文帳に追加

液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成可能な保護膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

To form a transistor having an LDD structure by self-alignment by preventing a positional shift without increasing the number of masks or the number of processes when a side wall for transistor formation of the LDD structure in the peripheral circuit of a solid-state imaging device is formed.例文帳に追加

固体撮像素子の周辺回路におけるＬＤＤ構造のトランジスタ形成のためのサイドウォールの形成にあたり、マスク数あるいは工程数の増大を招くことなく位置ずれを防止し、セルフアラインでＬＤＤ構造のトランジスタを形成する。 - 特許庁

Since the spiral channel 11 is directed in the direction crossing the direction of slide of the plunger 7, it is formed simply with turning employed in screw threading, and the number of machining processes required for formation of the respiration passage in the magnetic circuit is reduced to reduce manufacturing cost.例文帳に追加

螺旋溝１１はプランジャ７の摺動方向に対して交差する方向に指向するので、螺子切りなどに使用する旋削加工することで済み、磁気回路の呼吸路の形成に要する加工工程数が減って製作コストが減少する。 - 特許庁

The method of screening a substance for an ability to affect the formation of the retinoid X receptor homodimer, comprises processes for combining the substance and the solution containing the retinoid X receptor, determining the presence of homodimer formation and determining the presence of the homodimer by detecting activation of transcription through the retinoid X receptor homodimer.例文帳に追加

レチノイドＸレセプターホモダイマーの形成に影響を及ぼす能力について物質をスクリーニングする方法であって、該物質とレチノイドＸレセプターを含む溶液とを合わせる工程、およびホモダイマー形成の存在を測定する工程であって、ここで該ホモダイマー形成の存在が該レチノイドＸレセプターホモダイマーによる転写の活性化を検出することにより測定される、工程を包含する、方法。 - 特許庁

To provide an element isolation film forming method of a semiconductor memory element capable of minimizing the depth of a moat formed on an element isolation film by shortening a cleaning process time using a DHF solution in which processes from trench formation to element isolation film formation take place during the process of forming the element isolation film of the semiconductor memory element.例文帳に追加

本発明は、半導体メモリ素子の素子分離膜形成工程時にトレンチ形成工程から素子分離膜形成工程まで行われる、ＤＨＦ溶液を用いた洗浄工程時間を短縮させて、素子分離膜に形成されるモウトの深さを最小化することが可能な半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To improve the takeout efficiency of light emitted from a luminous layer, and also to improve the external quantum efficiency of a light-emitting element by a gallium-nitride-based compound semiconductor without performing any complex processes, such as the formation of an irregular structure by dry etching and the removal of a substrate.例文帳に追加

ドライエッチングによる凹凸構造形成や基板除去等の複雑な工程を行うことなく、発光層で発光した光の取り出し効率を向上させ、窒化ガリウム系化合物半導体による発光素子の外部量子効率を向上させること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device that can reduce shape defects of a contact hole by more securely performing the formation of the contact hole in such a shape that a conductive layer is easily formed, especially, dry etching after wet etching without greatly increasing processes.例文帳に追加

工程を大幅に増加させずに導電層を形成しやすい形状のコンタクトホールの形成、特にウェットエッチング後にドライエッチングをより確実に行うことによってコンタクトホールの形状不良を低減することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a capacitor formed by laminating capacitor cylinders in multiple stages where the formation of a multistage capacitor and the removal of a support insulating film for supporting the capacitor cylinders in the peripheral circuit region can be attained without increasing the number of manufacturing processes.例文帳に追加

多段キャパシタの形成およびキャパシタシリンダを支えるサポート絶縁膜の周辺回路領域における除去を工程数を増大させることなく達成する、キャパシタシリンダが多段に積層されたキャパシタを有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

By using a semiconductor manufacturing apparatus having a purifying apparatus, a plurality of reaction chambers, a heating chamber, a laser apparatus, and an etching apparatus, processes from the formation of a ground film to the gettering of the catalyst element and the removal of a gettering layer are continuously carried out.例文帳に追加

洗浄装置、複数の反応室、加熱室、レーザー装置およびエッチング装置を有する半導体製造装置を用いることにより、下地膜形成から、当該触媒元素のゲッタリングおよびゲッタリング層の除去までを連続的に処理するものである。 - 特許庁

To flatten the surface of a thick film dielectric layer of an EL element without involving, in contrast to existing techniques, the formation of a flattening layer, the addition of hydrostatic press and other processes for the thick film dielectric layer, and an increase in materials used.例文帳に追加

ＥＬ素子の厚膜誘電体層の表面の平坦化を、従来技術におけるように、平坦化層の形成や、厚膜誘電体層への静水圧プレス等の工程の増加や使用する材料の増加を伴なうことなく、達成することを課題とする。 - 特許庁

This formation method of a conductive film includes processes of: arranging a liquid material 12 containing a fine particle material on a substrate P; and forming the conductive film by baking the liquid material 12 on the substrate P by light radiation using a flash lamp.例文帳に追加

本発明の導電膜の形成方法は、基板Ｐ上に微粒子材料を含む液体材料１２を配置する工程と、前記基板Ｐ上の液体材料１２をフラッシュランプを用いた光照射により焼成して導電膜を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

Thereby, since all the processes to be performed up to the bump formation can be implemented in a fab line, the problems of contamination etc. will not occur; and tests for electrical characteristics can be preformed, using inexpensive probe cards by using the bumps for testing as test objects.例文帳に追加

これにより、バンプ形成までの全ての過程がファブライン（ｆａｂ ｌｉｎｅ）で成されるため、汚染などの問題が発生せず、テスト用バンプをテスト対象にすることによって、低廉なテスト用プローブカードを用いて電気的な特性テストを遂行することができる。 - 特許庁

To form a high-concentration impurity diffusion region, and to provide measures against dishing in CMP treatment without adding any photolithography processes with a configuration, where transistors having gate insulation films with different film thicknesses are provided and a guard ring is provided around an element formation region.例文帳に追加

膜厚の異なるゲート絶縁膜のトランジスタを備えると共に素子形成領域の周囲にガードリングを設ける構成で、フォトリソグラフィ工程を追加することなく、高濃度の不純物拡散領域の形成とＣＭＰ処理のディッシング対策を行えるようにする。 - 特許庁

An image formation part 17 processes sequentially an image data inputted from an image reading part 16 with a density transformation means, a color correction means, the density gradient correction means, a gradation correction means and a halftone processing means, and prepares output data, and an output part 18 prints out the output data.例文帳に追加

また、画像形成部１７は、画像読取部１６から入力される画像データを、濃度変換手段、色補正手段、濃度勾配補正手段、階調補正手段、中間調処理手段により順次処理して出力データを生成し、出力部１８が出力データを印刷する。 - 特許庁

To provide an image formation device capable of reducing economical burden by improving itself so as to generally recognize a plurality of printing processes for printing work by output of an optical sensor and preventing lowering of working efficiency due to setting of the optical sensor.例文帳に追加

印刷作業のための複数の印刷プロセスを光センサの出力によって総括的に認識できるように改善することで、経済的負担を減少させ、光センサ設置による作業効率低下を防止できる画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that there is a method based on information about image data as the method for calculating an amount of collected toner, however, large deviation is generated in an image forming apparatus in which complication of image formation processes for higher image quality, and the network correspondence and colorization of the image forming apparatus are taken.例文帳に追加

回収トナーの量を計算する方法として、画像データの情報に基づくものがあるが、高画質化のための画像形成プロセスの複雑化、画像形成装置のネットワーク対応、カラー化等が進んだ画像形成装置では、計算に大きな狂いがでるという問題を解決する。 - 特許庁

As a result, exposure can be performed suitably since the atmosphere of the interface 12 is controlled to have prescribed humidity or oxygen concentration when a wafer W travels on the interface 12 in processes before and after exposure by an aligner 13, so that accurate pattern formation is enabled.例文帳に追加

これにより、露光装置１３による露光前及び露光後の工程において、ウエハＷがインターフェース部１２を行き来する際、当該インターフェース部１２の雰囲気が所定の湿度又は酸素濃度に制御されているので、好適に露光を行うことができ、正確なパターン形成を行うことができる。 - 特許庁

A manufacturing process in which the ion implantation for the implantation separation area of the high-withstand voltage transistor and the ion implantation for the retrograde well formation are performed at the same time is provided to decrease the number of masks, reduce manufacturing processes accompanying them, and further provide a low-cost semiconductor device.例文帳に追加

高耐圧トランジスタの注入分離領域とレトログレードウェルの作成の為のイオン注入を同時に行う製造プロセスを提供することによってマスク枚数の削減とそれに伴う製造工程の縮減さらには低コストの半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a gate insulating film without deterioration caused by depositions contained in spike and metal wiring and a gate electrode having a high work function, and also to provide the manufacturing method of the semiconductor device manufacturable via reduced resist mask formation processes.例文帳に追加

スパイクや金属配線に含有される析出物による劣化のないゲート絶縁膜と、高い仕事関数を有するゲート電極とを含む半導体装置、及び、少ないレジストマスク形成行程を介して製造可能な該半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Since the first and second device layers 20 and 40 are formed separately in manufacturing processes for the first device unit 2 and the second device unit 4, the formation method for a device layer is not limited, whereas it is limited when a plurality of device layers are sequentially laminated.例文帳に追加

第１のデバイス層２０および第２のデバイス層４０は、第１のデバイスユニット２と第２のデバイスユニット４の製造工程においてそれぞれ個別に形成されるので、複数のデバイス層を順次積層形成する場合のようにデバイス層の形成方法が限定されない。 - 特許庁

A coating film formation device (SOD system), where a coating- liquid is applied on a substrate W to form a coating film, comprises a processing part 1 for processing the substrate W with a series of processes for forming a coating film and a substrate transfer mechanism 18 for transferring the substrate in the processing part.例文帳に追加

基板Ｗに塗布液を塗布して塗布膜を形成するための塗布膜形成装置（ＳＯＤシステム）は、基板Ｗに対して塗布膜を形成するための一連の処理を施す処理部１と、処理部内で基板を搬送する基板搬送機構１８とを具備する。 - 特許庁