「formation processes」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the composite substrate includes: a pattern formation processes (S11-S13); an ion implantation process (S14); a bonding process (S15); and a separation process (S16).例文帳に追加

複合基板の製造方法は、パターン形成工程（Ｓ１１〜Ｓ１３）とイオン注入工程（Ｓ１４）と接合工程（Ｓ１５）と剥離工程（Ｓ１６）とを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a contact probe which enables formation of the contact probe having a curved portion in a desired shape and dimensions, by simple processes.例文帳に追加

所望の形状及び大きさの湾曲部を有するコンタクトプローブを簡単な方法で形成できるコンタクトプローブの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the formation of a pin hole at carrying out etching, to reduce the number of processes, and to reduce generation of the silicon nodule of a contact hole in an NPN-type transistor.例文帳に追加

ＮＰＮ型トランジスタにおいて、エッチング時のピンホールの形成を防ぎ、且つ工程数を削減でき、且つコンタクトホールのシリコンノジュールの発生を低減する。 - 特許庁

To eliminate the variation of film formation produced between a first batch and a second batch or after second batch by means of a substrate treating device including two or more high-temperature processes.例文帳に追加

２つ以上の高温プロセスを含む基板処理装置における、１バッチ目と２バッチ目以降との間に発生する成膜のばらつきを解消する。 - 特許庁

To provide a gray-scale mask that is advantageous for simplifying manufacturing processes of a display device and for formation of a pattern.例文帳に追加

本発明は、表示装置の製造工程の簡略化を図るとともに、パターンの形成に有利な階調マスクを提供することを主目的とする。 - 特許庁

The heating processes can be provided only after the respective grating formation process SN2 and Si2 of the grating 20N lastly manufactured and at least one other grating 20i.例文帳に追加

最後に作製されるグレーティング２０_Nおよび他の何れか１以上のグレーティングそれぞれのグレーティング形成工程の後に加熱工程を設けるだけでもよい。 - 特許庁

The influence of electrification resulting from an ion milling system is avoided by reducing the ion milling processes after formation of the magnetoresistive effect thin film magnetic head as much as possible.例文帳に追加

磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド形成後のイオンミリング工程をできるだけ減らすことにより、イオンミリング装置起因の帯電の影響を回避する。 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor storage device in which the formation of interfacial traps is inhibited and the total number of manufacturing processes is reduced, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

界面トラップの形成が抑制され、総製造工程数の低減が図られた不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

After formation of a word-line and a select-line on a semiconductor substrate 100, a capping film 120 is formed for protecting such a word-line and the like against plasma damage arising at subsequent processes prior to formation of an interlayer insulating film 122.例文帳に追加

半導体基板１００上にワードラインやセレクトラインを形成後、層間絶縁膜１２２を形成する前に後続工程で発生するプラズマダメージからそうしたワードラインなどを保護するためにキャッピング膜１２０を形成する。 - 特許庁

A burning formation point calculating section 18d processes the picture signal in an image region based on each of a plurality of points set on a reference ellipsoid determined by the three reference points so as to calculate out burning formation points forming a burning.例文帳に追加

バーニング構成点算出部１８ｄは、３つの基準点で決定される基準楕円上に設定した複数点の各々に基づく画像領域内で映像信号を処理し、バーニングを構成するバーニング構成点を算出する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device the plasma damages of which are reduced by only changing the shape in wring, and to provide a manufacturing method of the semiconductor device, without increasing mask processes and wiring formation processes in the semiconductor device having multilayer wiring.例文帳に追加

多層配線を有する半導体装置においてもマスク工程や配線形成工程の増加なしに、配線の形状が変更されるのみでプラズマダメージが低減された半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an indicator sheet and a packing bag for plasma sterilization capable of detecting at a glance both processes of a chemical filling process and a plasma formation process, because the detection of both processes are important for a plasma indicator.例文帳に追加

薬剤充填過程とプラズマ化の両過程を検知することが、プラズマ滅菌用インジケーターにとって重要であり、本発明は、両過程を一目で検知可能とするプラズマ滅菌用インジケーターシートおよび包装体を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To reduce a development period without any need for changing processes when applying a conventional process for forming a logic circuit that has been assembled by low-temperature heat treatment to a low breakdown voltage part by suppressing the increase in mask formation processes.例文帳に追加

マスク形成工程の増加を抑制し、また、低温の熱処理で組み立てられた従来のロジック回路形成用の工程を低耐圧部に適用する際でも工程変更の必要がなく、開発期間の短縮化を図ることができる。 - 特許庁

Since two processes of a heat treatment after a doping process and a heat treatment after the formation of a wiring can be substituted by a process for irradiating the substrate by a laser beam from the backside of the substrate, it is possible to reduce the number of processes.例文帳に追加

また、ドーピング処理後の熱処理と、配線形成後の熱処理という２つの工程を、配線形成後に基板の裏面側からレーザ光を照射するという１つの工程で行なうことで、工程数を削減することを可能とする。 - 特許庁

To provide chemical formation processes of preparing fractions from North American ginseng (Panax quinquefolium), and to provide pharmaceutical compositions containing the fractions.例文帳に追加

北アメリカ薬用人参（Ｐａｎａｘ ｑｕｉｎｑｕｅｆｏｌｉｕｍ）から分留物を調製する化学的形成方法およびこれらの分留物を含有する薬学的組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a metal-coated substrate capable of reducing manufacturing costs without undergoing troublesome processes, such as the film formation of a carrier layer and dissolution removal.例文帳に追加

キャリア層の成膜および溶解除去などの面倒な工程を経ずに、製造コストの低減を図ることのできる、金属被覆基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which efficiently processes a pattern formation surface of a wafer while preventing the diffusion of a chemical atmosphere that may occur during chemical processing.例文帳に追加

薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、ウエハのパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

By the use of the resin, the formation of a spacer layer and curing of the spacer layer becomes unnecessary, and 2 processes can be reduced from the production of the optical disc of multiple-layered information layers.例文帳に追加

本発明の樹脂の使用により、スペーサ層の形成及びスペーサ層の硬化は不要となり、多層の情報層の光学ディスクの製造から二工程の削減ができる。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing apparatus that perform processes from removal of a damage layer of a substrate formed during slicing to texture formation step together in a lump through dry etching.例文帳に追加

スライス時に生じる基板のダメージ層の除去からテクスチャー形成工程を一括してドライエッチングにより処理する処理方法及び処理装置を提供する。 - 特許庁

The composition for the formation of an antireflection film contains a polymer having a trialkylsilyl structure or a trialkoxysilyl structure and a crosslinking agent, and is used for lithographic processes for the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

トリアルキルシリル構造又はトリアルコキシシリル構造を有するポリマー、及び架橋剤を含む半導体装置製造のリソグラフィープロセスに用いる反射防止膜形成組成物。 - 特許庁

As a result, the illuminance detection sensor is simultaneously formed with the formation of the thin film transistor and the pixel electrode 98 to prevent the number of manufacturing processes from being increased.例文帳に追加

この結果、照度検出センサを薄膜トランジスタ及び画素電極９８の形成と同時に形成することができ、製造工程数が増加しないようにすることができる。 - 特許庁

To provide the metal wiring formation method of a semiconductor device, for performing oxidization processes for forming a metal deposition preventing film, in a closed space that is maintained at atmospheric pressure of lower.例文帳に追加

大気圧以下に保たれる密閉空間内で金属蒸着防止膜形成のための酸化工程を行なう半導体素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device which processes thin-film formation residues deposited in a vacuum exhaustion system of a CVD device and thin-film constitution residues sucked out of the vacuum exhaustion system into pollution-free residues.例文帳に追加

ＣＶＤ装置の真空排気系に堆積する薄膜形成残渣及び真空排気系より吸出される薄膜構成残渣を無害化処理する装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that has less number of processes such as film formation and etching, can control each process easily, and reliably and electrically join members.例文帳に追加

成膜、エッチング等の工程数が少なく、各工程のコントロールが容易で、部材間の電気的接合が確実な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a plurality of sheets from colliding even if a processing state is changed in the middle of continuous processes of a series of image formation to the sheets.例文帳に追加

複数のシートに対して一連の画像形成処理を連続して行なっている途中で処理状態が変更されたとしても、シートが衝突しないようにする。 - 特許庁

To provide a diffraction grating formation method, diffraction grating and optical semiconductor element, capable of manufacturing diffraction gratings having different heights, by a small number of processes.例文帳に追加

本発明は、工程数の少ないプロセスによって、高さの異なる回折格子を作製できる、回折格子の形成方法、回折格子及び光半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a solar battery utilizing a photocatalyst, particularly, a solar battery having improved productivity by improving its manufacturing processes, specifically, its technology allowing convenient formation of a photocatalyst layer.例文帳に追加

本発明は、光触媒を利用した太陽電池に関するものであり、詳しくは、その製造工程を改善して太陽電池としての生産性を向上させたものである。 - 特許庁

To improve the uniformity of the process within the substrates, between the substrates or batches for executing, at a time, the processes including a heat treatment such as formation of HSG to the two sheets of substrates.例文帳に追加

一度に２枚の基板に対して、ＨＳＧ形成等の加熱を伴う処理を施すにあたり、基板内、基板間、及びバッチ間における処理の均一性を向上する。 - 特許庁

To execute film formation by using raw materials preferable respectively in two CVD processes with different film forming conditions in CVD film formation for a copper film for wiring, to realize satisfactory burying characteristics and a high film forming rate and to improve film forming efficiency and film quality.例文帳に追加

配線用銅膜のＣＶＤ成膜で、成膜条件の異なる２つのＣＶＤプロセスのそれぞれで好ましい原料を使用して成膜を行い、良好な埋込み特性と大きい成膜速度を実現し、成膜効率と膜質を向上する。 - 特許庁

The image formation system comprises the plurality of image forming devices and is characterized in that a main image forming device and a subordinate image forming device carry out processes 1 to 5 to perform image formation set condition matching processing.例文帳に追加

画像形成システムは、複数の画像形成装置よりなり、主画像形成装置と副画像形成装置とにおいて、以下の工程１から工程５が行われることにより画像形成設定条件整合処理が行われることを特徴とする。 - 特許庁

Related to recognizing an individual board 16 of a single-side or multi-circuit formation body 14, the number of recognizing processes is reduced for the entire circuit formation body 14 by recognizing a bad mark 23 at the same time with recognizing an individual board mark 22.例文帳に追加

単一取りもしくは多面取り回路形成体１４の個別基板１６の認識処理において、バッドマーク２３の認識と、個別基板マーク２２の認識とを同時に行い、回路形成体１４全体での認識処理数を削減する。 - 特許庁

Or bias voltages applied to first transfer rolls in transfer devices of EP processes are increased according as the voltages shift from EP processes disposed in the upstream side of image formation toward those disposed in the downstream side.例文帳に追加

あるいは、ＥＰプロセスの転写装置の第一転写ロールに印加するバイアス電圧を画像形成の上流側に配置されるＥＰプロセスから下流側に配置されるＥＰプロセスに移行するにつれて、各第一転写ロールに印加するバイアス電圧を増加させる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for metal pattern formation and a method for manufacturing a device which can improve productivity by decreasing manufacturing processes and reducing manufacturing costs.例文帳に追加

製造工程を削減し、製造コストを削減し、生産性を向上することができる金属パターン形成装置、金属パターン形成方法並びにデバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a bulk acoustic wave (BAW) resonator capable of improving the crystallinity of a piezoelectric layer, recycling a piezoelectric layer formation substrate and simplifying its manufacturing processes.例文帳に追加

圧電層の結晶性を向上できるとともに圧電層形成基板の再利用が可能で且つ製造工程の簡略化を図れるＢＡＷ共振装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printed circuit board with a built-in chip easy in implementation of later processes because the chip is fixed to a central layer with plating in a central layer formation stage.例文帳に追加

チップを中心層形成段階でメッキによって中心層に固定させるので、以後の工程遂行が容易なチップ内蔵型プリント回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the pattern formed of the oxide film 14 is protected by the nitride film 16 until just before the formation of an ink supply hole 44, there is no risk that the pattern can be damaged in intermediate processes.例文帳に追加

酸化膜１４にて形成されたパターンはインク供給孔４４を形成する直前まで窒化膜１６によって保護されているので途中の工程で傷がつく恐れはない。 - 特許庁

To simplify working processes and configurations by dispensing with formation of any bump at an IC chip side or a substrate side, and to manufacture an RFID tag with satisfactory convenience and high reliability.例文帳に追加

ＩＣチップ側または基板側へのバンプ形成を不要として加工工程および構造を簡略化できるとともに、使い勝手が良く信頼性の高いＲＦＩＤタグを製造すること。 - 特許庁

Out of processes of manufacturing the solar cell, a silicon board cleaning process SW is carried out immediately after any process of a damaged layer removal process S2 and a texture formation process S3.例文帳に追加

太陽電池を製造する工程のうち、ダメージ層除去工程Ｓ２、およびテクスチャー形成工程Ｓ３のいずれかの工程の直後に、シリコン基板洗浄工程ＳＷを実施する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an alignment substrate having an alignment mark formed in the position to be in contact with a liquid crystal layer without increasing the number of processes relating to the formation of the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの形成に係る工程の増加を招くことなく、液晶層と接する箇所において形成されたアライメントマークを備える配向基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EL element realizing high emission efficiency and fetching efficiency, simple manufacturing processes and high-definition pattern formation.例文帳に追加

本発明は、発光効率や取り出し効率の高さ、製造工程の簡便さや高精細なパターンの形成を実現するＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The composition for the formation of an antireflection film contains a polymer having a polycyclic alicyclic structure and a crosslinking agent, and is used for lithographic processes for the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

多環式脂環式構造を有するポリマー及び架橋剤を含むことを特徴とする半導体装置製造のリソグラフィープロセスに用いられる反射防止膜形成組成物。 - 特許庁

To provide a production method for piezoelectric resonant component by which a number of processes required for partial polarizing processing and formation of various kinds of electrodes can be reduced and desired characteristics can be surely obtained.例文帳に追加

部分分極処理及び各種電極形成に必要な工程数を削減することができ、所望とする特性を確実に得ることができる圧電共振部品の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a vacuum casting core capable of enhancing the quality of a molded article while reducing the number of processes, a formation method therefor and a vacuum cast molding method using the core.例文帳に追加

成形品の品質を向上させるとともに、工数低減を図り得る真空注型用中子とその形成方法、さらにその中子を使った真空注型成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a color conversion substrate which has a rib excellent in mechanical strength and does not give an ill effect to the filling of fillers without increasing the number of processes upon the formation of the rib.例文帳に追加

リブを形成する際の工程数を増加させることなく、機械的強度に優れたリブを有し、リブが充填剤の充填に悪影響を与えない色変換基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a printed circuit board, in which an anchor profile is very small by the small number of processes and which is suitable for a fine pattern by a method, wherein a dry etching operation and a sputtering film formation operation are used.例文帳に追加

ドライエッチングやスパッタ成膜を用いることにより、少ない工程数でアンカープロファイルが非常に小さく、且つ微細パターン化に適したプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁