「formation in width」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

An open width variable member 40 is provided in a prescribed part of the inlet formation part 22 to be capable of advancing/retreating in a width direction of the inlet 23.例文帳に追加

この導入口形成部２２の所定部分には、開口幅可変部材４０を導入口２３の幅方向に前進・後退可能に設ける。 - 特許庁

To provide an image carrier which is less in the number of components, small in occupancy space, small in size and low in cost and in which the full width for an image formation width of the image carrier is small to be made small in size and wide in image formation area, and to provide an image forming device provided with the image carrier.例文帳に追加

像担持体の必要な画像形成幅を得る為の全幅が小さく小形になり画像形成領域が広くなり、部品数が少なく、省スペースで小形で低コストの像担持体とその像担持体を具備する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image formation device which can form a picture in the optional position of a recording medium regardless of a paper width (even if the paper width is wide or narrow).例文帳に追加

紙幅を問わず（紙幅が広くても狭くても）記録媒体の任意の位置に画像を形成できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

An interval between an element formation region 4 in an NMOS region and another element formation region 4 adjacent to the element formation region 4 (in a gate width direction) is set to a predetermined interval (distance 2×LA).例文帳に追加

ＮＭＯＳ領域の素子形成領域４と、この素子形成領域４に隣り合う他の素子形成領域４との間隔（ゲート幅方向）が一定の間隔（距離２×ＬＡ）に設定されている。 - 特許庁

An interval between the element formation region 4 and an element formation region 8 adjacent to the element formation region 4 (in the gate width direction) is also set to the predetermined interval (distance 2×LA).例文帳に追加

また、この素子形成領域４と、この素子形成領域４に隣り合う素子形成領域８との間隔（ゲート幅方向）も一定の間隔（距離２×ＬＡ）に設定されている。 - 特許庁

In the imaging cartridge 3, a toner feeding port 39 is formed on one position in the width direction of image formation in the toner hopper 32.例文帳に追加

イメージングカートリッジ３では，トナーホッパ３２における画像形成の幅方向の１箇所にトナー補給口３９が形成されている。 - 特許庁

In the formation of the tire 1, a width Wmi of a lateral groove 332 in the circumferential direction of the tire is set smaller than a width Wmo of a lateral groove 342 in the circumferential direction of the tire.例文帳に追加

タイヤ１では、横溝３３２のタイヤ周方向における幅Ｗｍｉは、横溝３４２のタイヤ周方向における幅Ｗｍｏよりも小さくなるように形成されている。 - 特許庁

In addition, the area of the channel formation region can be increased by making a channel width longer than a channel length.例文帳に追加

また、チャネル幅の長さをチャネル長の長さよりも長くすることでチャネル形成領域の面積を大きくする。 - 特許庁

In addition, area of the channel formation region can be increased by making channel width longer than channel length.例文帳に追加

また、チャネル幅の長さをチャネル長の長さよりも長くすることでチャネル形成領域の面積を大きくする。 - 特許庁

Since the pad part 7 is concerned in formation of a nip part N, the nip pressure and the nip width can be sufficiently secured.例文帳に追加

上記パッド部７は、ニップ部Ｎの形成に関与しているので、ニップ圧やニップ幅を十分に確保できる。 - 特許庁

To provide a technique for facilitating dimensional control of the width (W) of a lower layer in formation of a resist pattern for lift-off.例文帳に追加

リフトオフ用レジストパターンの形成において、下層の幅（Ｗ）の寸法制御を容易とする技術を提供する。 - 特許庁

To provide a variable cross-section shield machine enabling the easy increase in width by a simple structure and also the easy formation of a shield structure.例文帳に追加

簡易な構造で容易に拡幅でき、シール構造を簡単にできる可変断面シールド掘進機を提供する。 - 特許庁

To realize space saving by making a trench isolation area in a boundary area formed around a memory cell formation area to narrow be in width.例文帳に追加

メモリセル形成領域の周辺部に形成する境界領域のトレンチ分離領域の幅寸法を狭くして省スペース化を図る。 - 特許庁

The depilation adhesive layer is preferably formed in strips or dots, with the formation width of the layer preferably smaller than the width of a portion where the layer is not formed.例文帳に追加

脱毛用粘着剤層は筋状やドット状に形成することが好ましく、脱毛用粘着剤層の形成幅は未形成部の幅よりも小さいことは好ましい。 - 特許庁

In the digital color image forming device of the electrophotographic system, the image formation maximum width of at least, one of image forming means, among the plural image forming means is made wider than the image formation maximum width of any other image forming device.例文帳に追加

電子写真方式のデジタルカラー画像形成装置において、複数の画像形成手段のうち少なくとも１つの画像形成手段の画像形成最大幅を、他の画像形成手段の画像形成最大幅より長くした。 - 特許庁

In addition, a channel width direction of each of a plurality of the channel formation regions is parallel to a longitudinal direction in a shape of the pixel electrode.例文帳に追加

そして、複数のチャネル形成領域のチャネル幅の方向を前記画素電極の形状における長尺方向と平行な方向とする。 - 特許庁

Further, in the processing formation of the grounding mechanism part, an adjusting hole is provided in a connecting part for adjusting the width of the connecting part.例文帳に追加

さらに前記の接地機構部を形成させる加工に際してその接続部に当該接続部の幅を調整する調整穴を設ける。 - 特許庁

To provide an optically coupled device, capable of formation with a precise groove width and readily reduced in size, and to provide a manufacturing method for the device.例文帳に追加

溝部幅が精度良く形成可能であり、小型化が容易な光結合装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for reducing a wiring width in the formation of a copper wiring by the semi-additive method of a printed circuit board, etc., suppressing an undercut and further forming a uniform wiring width in a plane.例文帳に追加

プリント配線板等のセミアディティブ法での製造での銅配線形成における配線幅の減少、アンダーカットを抑え、更に面内での均一な配線幅を形成させる技術を提供する。 - 特許庁

A pattern of a lower wiring layer Ma in a monitor mark formation region includes a part having the same pattern width and pattern pitch as a pattern of a lower wiring layer Ma of a function element formation region.例文帳に追加

モニター用マーク形成領域の下層配線層Ｍａのパターンは、機能素子形成領域の下層配線層Ｍａのパターンと同じパターン幅およびパターンピッチを有する部分を含む。 - 特許庁

In the electronic component 1, a concave portion 7 is formed on the substantial center portion of an end face of a terminal electrode 3, the formation width W1 of the concave portion 7 is 30% or more of a chip width W2.例文帳に追加

電子部品１では、端子電極３の端面の略中央部分に凹部７が形成されており、凹部７の形成幅Ｗ１は、チップ幅Ｗ２の３０％以上となっている。 - 特許庁

To reduce a size of an electrode formation part although it is difficult to make an opening size of strand in a photolithography step, and it is hard to even form an electrode of width 4 μm on a mesa of width 5 μm.例文帳に追加

電極形成部のサイズが小さくなると、フォトリソグラフィー工程における目合わせが難しく、例えば、幅５μｍのメサ上に幅４μｍの電極を形成することさえ難しい。 - 特許庁

The respective moving shelves 10 are moved in response to operation of a passage formation operation switch 10a until the shelf interval between the respective moving shelves 10 becomes desired closing width or the opening width previously set.例文帳に追加

通路形成操作スイッチ１０ａの操作に応じて、各移動棚１０間の棚間隔が、予め設定された所望の閉幅又は開幅となるまで、各移動棚１０が移動する。 - 特許庁

In a region 4 positioned at the center section in the element formation region 2, width at right angle to the direction of crystal growth is limited to 20 μm or less.例文帳に追加

素子形成領域２の中央部に位置する領域４は、結晶成長方向に対して直角方向の幅が２０μｍ以下に制限されている。 - 特許庁

A photo-mask 81 used in the formation of this photo-resist pattern 82 is provided with a recessed pattern 81f at the corner 81e of the step 81d in the width direction.例文帳に追加

このフォトレジストパターン８２の形成に用いるフォトマスク８１には、その幅方向の段差８１ｄのコーナー部８１ｅに、凹部パターン８１ｆを設ける。 - 特許庁

Additionally, the irradiation width of the continuous light is set to 10 μm or less, so that the formation of a crystal boundary in a crystal growth region is inhibited.例文帳に追加

また、連続光の照射幅を１０μｍ以下とすることで結晶成長領域の結晶境界の形成を抑える。 - 特許庁

The width w of the dummy pattern 23 is made 1/10-1/3 of one side of the wiring pattern formation block or made in 10 mm or more.例文帳に追加

ダミーパターン２３の幅Ｗは、配線パターン形成ブロック２２の一辺Ｌの１／１０〜１／３又は１０ｍｍ以上に形成する。 - 特許庁

To easily secure the lateral width reference dimension of an outer box and to positively prevent dew formation on an outer box flange in a refrigerator.例文帳に追加

冷蔵庫において、外箱の横幅基準寸法を容易に確保すると共に、外箱フランジの露付防止を確実に行うこと。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductive pattern which is excellent in insulation quality of a non pattern formation part and has a uniform and extremely small width or thickness.例文帳に追加

非パターン形成部の絶縁性に優れ、微細かつ均一な幅又は厚みの導体パターンを形成できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a joint structure which has its width variable and does not undergo formation of a joint gap even in a secular joint structure.例文帳に追加

同じ目地部材でも目地幅を変えることができ、しかも経年でも目隙が生じないようにできる目地構造を提供する。 - 特許庁

In a printer 1, first width restraining mechanisms 10a, 10b are disposed in the paper storage compartment 30a of a feed cassette 30, can move relative to the center C of the image formation area of an image formation part 50, and are positioned according to the width W of the paper.例文帳に追加

プリンタ１において、第１幅規制機構１０ａ、１０ｂは、給紙カセット３０の用紙収納室３０ａ内に配設され、画像形成部５０の画像形成範囲の中心Ｃを基準位置として移動可能であり、用紙の幅Ｗに対応して位置決めされる。 - 特許庁

To adjust opening width of a carrier without opening the inside of a film formation chamber to the atmosphere in forming films on substrates having different sizes; and to prevent considerable temporal loss in starting up operation of the film formation chamber.例文帳に追加

大きさの異なる基板に成膜する場合に成膜室内を大気開放することなく搬送具の開口幅を調整することができ、かつ成膜室の動作を立ち上げるのに多大な時間的ロスを発生させない。 - 特許庁

After that, a collector aperture 110 having a width W3 larger than the width W2 of an active region is formed in the film 108 and the layer 109 in an HBT formation region Rbp.例文帳に追加

その後、ＨＢＴ形成領域Ｒbpにおいて第１の堆積酸化膜１０８及びポリシリコン層１０９に活性領域の幅Ｗ２よりも広い幅Ｗ３を有するコレクタ開口部１１０を形成する。 - 特許庁

In addition, a channel width direction of each of a plurality of channel formation regions is parallel to a longitudinal direction of the pixel electrode.例文帳に追加

そして、複数のチャネル形成領域のチャネル幅の方向を前記画素電極の形状における長尺方向と平行な方向とする。 - 特許庁

The patterning method on the semiconductor element may include a two-stage spacer formation step in order to provide ultra-fine line width and interval.例文帳に追加

半導体素子上のパターン形成方法は、微細ライン幅及び間隔を提供するために２段階のスペーサ形成工程を含むことができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the width of an emitter layer can be made small while allowing easy formation of a contact part to the emitter electrode.例文帳に追加

エミッタ電極に対するコンタクト部を容易に形成しながら、エミッタ層の幅を小さくすることが可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

In the going path recording, width I2 can be shortened by making the width C2 of deceleration region of a recording head from point N to point R2 shorter than the width A of acceleration region from a going path acceleration starting position L1 to a going path pixel formation starting position M (operation shown at (a)).例文帳に追加

往路記録では、往路加速開始位置Ｌ１から往路画素形成開始位置Ｍまでの、記録ヘッドの加速領域の幅Ａよりも、点Ｎから点Ｒ２までの減速領域の幅Ｃ２を短くして、幅Ｉ２を短くできる（（ａ）に示す動作）。 - 特許庁

The interval between a plurality of the LED elements 18 is 1.5 mm or less, and the width W2 of the mounting region 17 of a plurality of the LED elements 18 in a place where the width of the light-emitting part 16 is widest, is 80% or more the width W1 of the formation region of the phosphor layer 19.例文帳に追加

複数のＬＥＤ素子18間の間隔は１．５ｍｍ以下で、かつ発光部16の幅が最も広い箇所での複数のＬＥＤ素子18の実装領域17の幅W2は蛍光体層19の形成領域の幅W1に対して８０％以上である。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition that find applications in formation of microscopic patterns for semiconductor production and that is superior to conventional products in exposure latitude, LWR (line width roughness) and pattern collapse performance.例文帳に追加

半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりも露光ラチチュード、ＬＷＲ、パターン倒れ性能に優れた感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

In addition, a plurality of small grooves 37 have an opening width and depth smaller than the score lines 33 are provided in the face part 15 of the body of the head except for the score line formation area 35.例文帳に追加

そして、スコアライン形成領域３５を除く、ヘッド本体のフェース部１５に、スコアライン３３より小さな開口幅と深さを有する複数本の小溝３７を設けた。 - 特許庁

A plurality of reinforcing stitches formed at the zigzag stitch formation planned sections 71a, 72a are formed at uniform intervals in the width direction of the zigzag stitches 71, 72 in particular.例文帳に追加

特に、各千鳥縫目形成予定部７１ａ，７２ａに形成される複数本の補強用縫目は、千鳥縫目７１，７２の幅方向に等間隔に形成される。 - 特許庁

A plurality of projection parts 50 are formed in a projection part formation range 45 positioned at the outside in a tire width direction of a ground-contact part 41 at a tread part 10 of the pneumatic tire 1.例文帳に追加

空気入りタイヤ１のトレッド部１０において接地部４１のタイヤ幅方向外方に位置する突起部形成範囲４５に突起部５０を複数形成する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which a transistor of such a structure as having a large gate width and preventing formation of a parasitic channel can be fabricated.例文帳に追加

ゲート幅が大きく、且つ寄生チャネルの形成を防止した構造のトランジスタを作成できるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition giving a resist film with high etching durability and reduced LWR (line width roughness) in EUV lithography that can achieve formation of an ultrafine pattern.例文帳に追加

極微細パターンを形成可能なＥＵＶリソグラフィーにおいて、エッチング耐性が高く、ＬＷＲを低減したレジスト膜を与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an image formation apparatus which can be made small in width and height, is compact with a reduced installation area, has a low center of gravity, and moreover prevents a body device from falling.例文帳に追加

幅、高さを小さくでき、小型で設置面積が少なく、また、重心が低く、さらに、本体装置が転倒しにくい画像形成装置を提供する。 - 特許庁