「formation in width」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a CPF pulse formation machine with which output pulses of a pulse width uniform for all wavelengths in a prescribed wavelength band and consistent quality can be obtained.例文帳に追加

所定の波長帯におけるすべての波長に対して、パルス幅が均等で均一な品質の出力パルスが得られるCPFパルス成型器を提供する。 - 特許庁

To allow the same manual feed unit to be used for image formation device products different in the maximum width of feedable sheets and different in the width of a required manual feed unit; and to improve cost reduction and reuse capability.例文帳に追加

給送できるシートの最大幅の異なり、要求される手差しユニットの幅の異なる画像形成装置の製品に対しても同じ手差しユニットを使用できるようにし、更なるコストダウンとリユース性を向上させること。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process, which can suppress variations in the line width of a first resist pattern and LWR (line width roughness) which may be caused by freezing treatment applied to the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method, and to provide a resist pattern formation method using the surface treatment agent.例文帳に追加

ダブルパターニング法において、第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理及び第二のレジストパターンの形成による、第一のレジストパターンの線幅並びにＬＷＲの変動を抑制することができるフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The function of the automatic change can be applied to a case where an operator changes a numerical value of a reconstruction slice width (picture width) during the planning and the image formation pitch is automatically changed in response to the change.例文帳に追加

この自動変更の機能は、再構成スライス厚（画像厚）の数値を操作者が計画途中で変更した場合にも適用でき、この変更に応答して画像生成ピッチが自動的に変更される。 - 特許庁

In the formation of the tire 1, a width Wmi of a lateral groove 332, which communicates with a ribbed thin groove 331, in the circumferential direction of the tire is set smaller than a width Wmo of a lateral groove 342, which communicates with a ribbed thin groove 341, in the circumferential direction of the tire.例文帳に追加

タイヤ１では、リブ細溝３３１に連通する横溝３３２のタイヤ周方向における幅Ｗｍｉは、リブ細溝３４１に連通する横溝３４２のタイヤ周方向における幅Ｗｍｏよりも小さくなるように形成されている。 - 特許庁

In this film, both the Young's moduli in the lengthwise direction of the film and in the width direction thereof are 30 kgf/cm2 or below, and the surface resistivity of the film after seventy-two hours from the formation of the film is 1.0×1.013 Ω or below.例文帳に追加

フィルムの長さ方向および幅方向のヤング率が共に３０（Ｋｇｆ／ｃｍ^2）以下であって、製膜して７２時間後の表面固有抵抗率が１．０×１０^13Ω以下のフィルムである。 - 特許庁

To achieve an image forming device capable of suppressing effects of bending of paper in the paper width direction in accompany with skew correction (loop formation) of the paper and of accurately positioning the paper and images in the main scanning direction.例文帳に追加

用紙の斜行補正（ループ形成）に伴う用紙幅方向の撓みの影響を抑えて、用紙と画像の位置を主走査方向で精度良く合わせることができる画像形成装置を実現する。 - 特許庁

To prevent deterioration in productivity in feeding a recording material of a size having a predetermined width or less for the subsequent job after image formation by controlling the start/stop timing of cooling means in an image forming device.例文帳に追加

画像形成装置において、冷却手段の起動／停止タイミングを制御することにより、画像形成後の次ジョブの所定幅以下のサイズの記録材の通紙における生産性低下を防止する。 - 特許庁

In the nanowire, ultrafine particles are linearly arranged in a single particle row by using self-organizing structure formation, and its average width is one to five times of an average diameter of the ultrafine particles.例文帳に追加

自己組織的構造形成を利用して、超微粒子を線状に単粒子配列させてなり、その平均幅が超微粒子の平均直径の１〜５倍であるナノワイヤを得る。 - 特許庁

In the case the quantity of strains accumulated in the steel wire rod before annealing is ≤0.200 degrees by the half value width, the increase of its deformation resistance and hardness caused by the formation of subgrains can be suppressed.例文帳に追加

焼鈍前に鋼線材に蓄積した歪量が前記半価幅で０．２００度以下であれば、サブグレインの形成による変形抵抗、硬度の上昇を抑制することができる。 - 特許庁

The information recorder controls a timing of laser beam irradiation and a quantity of laser beam, records main data in terms of pit or a mark length and a formation cycle, and records identification data in terms of a pit width.例文帳に追加

本発明は、レーザービーム照射のタイミングとレーザービームの光量とを制御し、主のデータをピット又はマークの長さと形成周期により記録し、識別データをピット幅により記録する。 - 特許庁

In a space formation mode, movable shelves 12, 13, 14 are scattered along a rail 11, and a space having a width W4 is formed in front of the receiving surface of each of the movable shelves 12, 13, 14.例文帳に追加

空間形成モードでは、可動棚１２，１３，１４がレール１１に沿って散開され、該各可動棚１２，１３，１４の収納面の前に幅がＷ４の空間が形成される。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Preferably, the sum of the width on the straight line for connecting the connection sections 3a, 3b at the opening 4 is not less than 4L/7 in the opening formation region 100.例文帳に追加

またかつ、開口部４の接続部３ａ、３ｂ間を結ぶ直線上における幅の総計は、開口部形成領域１００内に４Ｌ／７以上であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a film formation method capable of improving step coverage in forming a thin film even when the inner diameter and width of a recessed part formed on a surface of a processing object are small.例文帳に追加

被処理体の表面に形成されている凹部の内径や幅が小さくても、薄膜の成膜時のステップカバレジを向上させることが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an illumination optical system which has superior image formation performance and is proper in illumination equality, and can apply a linear beam with a thin line width with a large aspect ratio.例文帳に追加

優れた結像性能を有し、照度均一性が良く、細い線幅の大きなアスペクト比の線状ビームを照射できる照明光学系を提供すること。 - 特許庁

The image forming apparatus carries out image formation to a first transferred material and a second transferred material that has a shorter length in the width direction than the first transferred material.例文帳に追加

画像形成装置は、第１被転写材と、第１被転写材よりも幅方向における長さが短い第２の被転写材とに対して画像形成を行う。 - 特許庁

An opening part 14a with opening width 0.13 μm is formed in the gate formation region on the substrate protective film 13 and the first mask film 14.例文帳に追加

次に、基板保護膜１３及び第１のマスク膜１４上のゲート形成領域に該ゲート形成領域に開口幅が０．１３μｍの開口部１４ａを形成する。 - 特許庁

A transporting/post-processing unit is provided over an image formation part, and transfer sheets are aligned by a two-stage guide 101 in the width direction preliminarily and transported to a staple tray.例文帳に追加

画像形成部の上方に設けられた搬送・後処理ユニットにおいて、転写紙は、２段ガイド１０１で幅方向へ予備的に整合された後、ステープルトレイへ搬送される。 - 特許庁

To provide a waterless planographic printing original plate showing preferable reproducibility of a wiring pattern, allowing formation of a pattern with uniform line width in printing a wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンの印刷において、均一な線幅のパターンを形成することができ、配線パターン再現性が良好な水なし平版印刷版原版を提供すること - 特許庁

To prevent the formation of an impression, by enlarging a diameter of a rolling body for smoothing slide operation of an upper rail, without causing enlargement in the lateral width direction of a slide device.例文帳に追加

スライド装置の横幅方向の大型化を招くことなく、アッパレールのスライド動作を円滑にする転動体の直径を大きくして、圧痕の形成を防止することにある。 - 特許庁

To provide a screen printing method which enables the formation of an electrode with a thin linear width, a heavy wall and a heavy layer thickness in a successful adhesion-oriented way, as well as a screen printing device.例文帳に追加

細い線幅で肉厚、層厚の電極等を密着性良く形成することのできるスクリーン印刷方法およびスクリーン印刷装置を提供すること。 - 特許庁

To change the width of a cap film variously and to improve yields of a resin and the film and work efficiency in the formation of the film.例文帳に追加

キャップフィルム製造において、製品巾を種々に変更させることを可能にし、樹脂や製品の歩留を向上させ、作業効率を向上させることをにある。 - 特許庁

A coating film P1 containing a compound accelerating cristobalite-formation is formed on the outer surface A which is in the range of the width W1 from the upper edge of the quartz crucible 3a.例文帳に追加

石英るつぼ３ａの上端から幅Ｗ１の範囲にある外側表面Ａにクリストバライト化促進化合物を含有した塗布膜Ｐ１が形成されている。 - 特許庁

Data of the pattern for determination stored in a pattern data storage part 301 includes data in which light deflection surfaces 43, to which a light beam LB is radiated in formation of an electrostatic latent image of each thin-width pattern, are the same.例文帳に追加

パターンデータ記憶部３０１に記憶されている判定用パターンのデータは、各細幅パターンの静電潜像の形成において光ビームＬＢを照射する光偏向面４３が同じとなるデータを含む。 - 特許庁

To prevent wiring from being reduced in reliability and manufacturing yield due to it that a wiring pattern, which is formed resting on single minimum line width data in the formation of a wiring mask pattern, is used in a semiconductor device or the like.例文帳に追加

配線マスクパターン発生において、単一最小線幅データで発生させた配線パターンを半導体装置等で使用することに起因する配線の信頼性低下や製造歩留り低下を抑制する。 - 特許庁

The polyvinyl alcohol-based film is obtained in a drum film formation process and is specified to have ≤0.5 μm/mm variance in thickness in the TD direction of the film, 20 to 150 μm film thickness and ≥2 m film width.例文帳に追加

ドラム製膜によって得られたポリビニルアルコール系フィルムであって、フィルムのＴＤ方向の厚み変動を０．５μｍ／ｍｍ以下とし、フィルムの厚みを２０〜１５０μｍとし、フィルムの幅を２ｍ以上とする。 - 特許庁

Specifically, an image formation area 12i in a shape which is equal in height to a pixel area 12a of a liquid crystal light valve 12 and decreases in lateral width (dimension in a ±x direction) toward the tilt direction (+y direction) is set in the pixel area 12a.例文帳に追加

具体的には、液晶ライトバルブ１２の画素領域１２ａに、画素領域１２ａと同じ高さで、かつあおり方向（＋ｙ方向）に向かうほど横幅（±ｘ方向の寸法）が縮小する形状の画像形成領域１２ｉを設定する。 - 特許庁

Thus, only by controlling the formation of a thin film on a substrate, the accuracy of a track width is improved, formation and positioning are easy even in a narrow track, and the recording/reproducing efficiency and the off-track characteristic are improved.例文帳に追加

これにより、基板上の薄膜形成を制御するのみで、トラック幅の精度を向上させることができると共に、狭トラックでも容易に形成及び位置合わせすることができ、記録・再生効率及びオフトラック特性を高めることができる。 - 特許庁

To provide the formation method of wiring for signals for obtaining specific wiring width without causing the wiring to be side-etched in the formation method of the wiring for signals used for manufacturing a circuit board, and to provide the structure of the wiring.例文帳に追加

回路基板作製に用いられる信号用配線形成方法において、配線表面がエッチングされることなく、また配線がサイドエッチングされることなく所定の配線幅が得られる信号用配線形成方法とその構造を提供すること。 - 特許庁

Wiring 105 to be measured is placed at the center, and wiring width W, wiring interval S, wiring formation region X/Y, and data ratio D of wiring to be actually wired in the wiring formation region X×Y are variably changed so that the test pattern of wiring can be prepared.例文帳に追加

被測定配線１０５を中心に置き、配線幅Ｗ、配線間隔Ｓ、配線の形成領域Ｘ、Ｙ、配線形成領域Ｘ×Ｙに実際に配線される配線のデータ率Ｄを種々変えた配線のテストパターンを作成する。 - 特許庁

When forming the drainage closed conduit filled with the hydrophobic material in an upper part of a water feeding pipe laid in a groove bottom part, after forming a guide groove having a groove width not more than a groove width of a water feeding pipe buried groove in advance in a drainage closed conduit formation expected position, the drainage closed conduit is formed by using the drainage closed conduit forming device.例文帳に追加

溝底部に敷設された通水パイプの上部に疎水材を充填した排水暗渠を形成する際に、通水パイプ埋設溝の溝幅以下の溝幅を有するガイド溝を排水暗渠形成予定位置にあらかじめ形成した後、排水暗渠形成装置を使用して排水暗渠を形成する。 - 特許庁

The control means controlling the formation of a core thread holding section H where sewing is performed by reducing the width of at least one of the needle swing width of the needle bar or a stitch pitch along the button hole to be narrower than in the other sewing sections, at a sewing start end portion.例文帳に追加

そして、制御手段は、縫い開始端部に、針棒の針振り幅又は前記ボタン穴に沿った縫いピッチの少なくともいずれか一方を他の縫い区間よりも狭くして縫いを行う芯糸保持区間Ｈを形成する制御を行う。 - 特許庁

A slit 10 is formed along the formation direction of a signal pattern 4 formed at a time when the shape of the signal pattern 4 formed on a signal layer 1 is projected on a grounding layer 3, and it is formed in an opening width (w) which is narrower than the width W of the signal pattern 4.例文帳に追加

スリット１０を、信号層１に形成されている信号パターン４の形状をグランド層３に投影したときの信号パターン４の形成方向に沿い、かつ信号パターン４の幅Ｗよりも狭い開口幅ｗに形成する。 - 特許庁

There are provided a trench 3 formed in an element separation region which is so formed as to enclose an element formation region on a semiconductor substrate 1, and insulating films 4 and 5 which, formed with the same width as a trench width on the trench 3, form a void 50 in the trench 3.例文帳に追加

半導体基板１上の素子形成領域を囲むように形成される素子分離領域に形成されたトレンチ３と、トレンチ３上にトレンチ幅と略同一幅にて形成され、トレンチ３内に空隙５０を形成する絶縁膜４、５とを備えたものである。 - 特許庁

Compared with the arrangement in which the opening width of the lance hole is bounded to the inner surface position of the side wall, this widens the opening width of the lance hole 28 in a portion according to formation of the runoff part 29 at the inner surface of the side wall 26, to allow securing large the engagement margin between the lance hole 28 and resin lance 14.例文帳に追加

よって、ランス孔の開口幅を側壁の内面位置までに留めたものと比較すると、側壁２６の内面に逃がし部２９を形成した分だけ、ランス孔２８の開口幅が広くなり、ランス孔２８と樹脂ランス１４との係止代が大きく確保されている。 - 特許庁

In a structure like this, variation in width W of each thin film 33ae affects the formation of striped unevenness on a screen, and then pays attention to widths W to adjusts the widths W of respective organic EL elements almost to the same width.例文帳に追加

このような構造において、本願発明者は、各薄膜部３３ａｅの幅Ｗの変動が画面上の筋状のムラの発生に影響を与えることを見出し、当該幅Ｗに着目して、幅Ｗが各有機ＥＬ素子間で略同一となるように調整した。 - 特許庁

To secure and maintain the stable quality of a product formed of a sheet-like base material by preventing the formation of winding wrinkles of the sheet-like base material, and improving yield in a length direction and a width direction.例文帳に追加

シート状基材の巻き付けしわの発生を防止し、長さ方向および幅方向での歩留まりを向上させ、シート状基材からなる製品の安定した品質を確保、維持する。 - 特許庁

Moreover, a formation width L of the source electrode 4 connected to the node N1 is caused to be smaller than the sum of gate-source electrode overlap widths a1 and a2 in a region B of the transistor terminal portion.例文帳に追加

そして、ノードＮ１に接続されたソース電極４の形成幅Ｌをトランジスタ端部の領域Ｂでのゲート・ソース電極重なり幅ａ１及びａ２の和よりも小さくしている。 - 特許庁

To provide an image formation device which can obtain images not different in the density from images without being treated by a vertical scanning position adjustment, by making a density of a one dot width horizontal line constant.例文帳に追加

１ドット幅水平ラインの濃度を一定とすることで、副走査位置調整を行わない画像と濃度が変わらない画像を得ることができる画像形成処理装置を提供する。 - 特許庁

A minute opening part 101b whose aperture diameter (minimum width) is almost equal to or below the image resolution limit (image formation limit) of exposure light is formed like a rectangular frame in the alignment mark part 101B.例文帳に追加

アライメントマーク部１０１Ｂには、露光光の解像限界（結像限界）程度以下の開口径（最小幅）を持つ微細な開口部１０１ｂが方形枠状に形成されている。 - 特許庁

To perform reduction of the width of a picture frame in a light emitting device even when a thin film of one or plural layers constituting a sealing layer is formed by a formation method having a low position precision.例文帳に追加

発光装置において、封止層を構成する１層または複数層の薄膜を位置精度の低い形成方法で形成しても狭額縁化を実現することができるようにする。 - 特許庁

By this structure, the lateral diffusion width of a P-type diffusion layer 13 in the separation region 1 is suppressed, and the formation region of the separation region and the device size of the MOS transistor are reduced.例文帳に追加

この構造により、分離領域１のＰ型の拡散層１３の横方向拡散幅が抑制され、分離領域の形成領域及びＭＯＳトランジスタのデバイスサイズが低減される。 - 特許庁

The image reading unit 20 is formed such that each width dimension in a longitudinal direction (X direction) and a cross direction (Y direction) is smaller than the upper part of the image formation unit 30.例文帳に追加

画像読取ユニット２０は、左右方向（Ｘ方向）及び前後方向（Ｙ方向）の各幅寸法が画像形成ユニット３０の上部よりも小さい寸法に形成されている。 - 特許庁

After a trench 14 for contact is formed through anisotropic etching using an interlayer dielectric 11 having a narrow opening width as a mask, the trench 14 for contact is widened in width through isotropic etching and the interlayer dielectric 11 having a narrower opening width than the trench 14 for contact is used as a mask to perform ion implantation for contact region formation in a well region.例文帳に追加

狭い開口幅の層間絶縁膜１１をマスクとして異方性エッチングによりコンタクト用トレンチ１４を形成した後、等方性エッチングをおこないコンタクト用トレンチ１４の幅を広げ、コンタクト用トレンチ１４よりも狭い開口幅の層間絶縁膜１１をマスクとして、ウェル領域内にコンタクト領域形成のためのイオン注入を行う。 - 特許庁