「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of an inkjet recording head which improves a yield through a rapid decrease of the probability of cracking of an etching stopping layer during the formation of an ink supply port using anisotropic etching and permitting high definition printing.例文帳に追加

異方性エッチングを使ったインク供給口形成時のエッチングストップ層の割れの確率が飛躍的に低下して歩留まりが向上し、高品位な印字が可能なインクジェット記録ヘッドを提供する。 - 特許庁

When image formation is not performed, a recess portion 41 of a secondary transfer roller 4 faces an intermediate transfer belt 31 which is wound around a driving roller 32, and the elastic layer 43 is separated from the intermediate transfer belt 31.例文帳に追加

画像形成を行わない間、二次転写ローラー４の凹部４１が駆動ローラー３２に巻き掛けられた中間転写ベルト３１に対向し、弾性層４３が中間転写ベルト３１から離れている。 - 特許庁

Thereby, the formation of a spike is so suppressed in the vicinity of each isolating region 3 even in forming each silicide layer 11, thus suppressing the generation of a leaking current caused by such a spike.例文帳に追加

これにより、シリサイド層１１の形成を行った場合にも、素子分離領域３の近傍でのスパイクの形成が抑えられ、そのようなスパイクに起因したリーク電流の発生が抑えられるようになる。 - 特許庁

To provide a vapor-phase growth apparatus and a growth method which shorten a temperature decrease time of a wafer substrate after an epitaxial growth step to make it easy to realize a high throughput in film formation of an epitaxial layer.例文帳に追加

エピタキシャル成長工程後のウェーハ基板の降温時間を短縮させ、エピタキシャル層の成膜における高スループット化を容易にする気相成長装置及び成長方法を提供する。 - 特許庁

To provide a p type diffusion layer formation composition, a manufacturing method of a p type diffusion layer, and a manufacturing method of solar cells which form the p type diffusion layer area-selectively while suppressing internal stress and warpage of each substrate without significantly lowering the life time in a manufacturing process of the solar cells using crystal silicon substrates.例文帳に追加

結晶シリコン基板を用いた太陽電池セルの製造工程において、ライフタイムを大きく低下させずに、シリコン基板中の内部応力、基板の反りを抑制しつつ、部位選択的にｐ型拡散層を形成することが可能なｐ型拡散層形成組成物、ｐ型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法の提供。 - 特許庁

The method is used to manufacture a wiring board, wherein a pattern wiring is formed on a board, and it includes an aerosol film formation step of forming a conductive layer by collision of aerosol and a patterning step of patterning the conductive layer by etching and form the pattern wiring including the conductive layer.例文帳に追加

基板上にパターン配線が形成されてなる配線基板の製造方法であって、前記基板上に、エアロゾルの衝突によって導電層を形成するエアロゾル成膜工程と、前記導電層をエッチングによりパターニングして当該導電層を含む前記パターン配線を形成するパターニング工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁

In a method of manufacturing the semiconductor device including the thin-film transistor, where a semiconductor layer including a channel formation layer and a semiconductor layer including source and drain regions are made of oxide semiconductor layers each, purity of the oxide semiconductor layers is improved, and heat treatment (heat treatment for dehydration or dehydrogenation) for reducing moisture, namely an impurity, is performed.例文帳に追加

チャネル形成領域を含む半導体層、ソース領域及びドレイン領域を酸化物半導体層とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体層の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のための加熱処理）を行う。 - 特許庁

In the mesa formation step S15, width of the active layer is determined so that the difference between the oscillation wavelength of the distributed feedback type semiconductor laser element which depends on the width of the active layer in a direction crossing the predetermined direction and the period of the grating, and the gain peak wavelength of the active layer obtained at the measurement step falls within a predetermined range.例文帳に追加

メサ形成工程Ｓ１５において、所定方向と交差する方向における活性層の幅及び回折格子の周期に依存する、当該分布帰還型半導体レーザ素子の発振波長と、測定工程において得られる活性層の利得ピーク波長との差が所定の範囲内となるように、活性層の幅を決定する。 - 特許庁

A semiconductor wafer thinning method comprises an embrittlement layer formation step of irradiating a semiconductor wafer with laser beam while focusing on an inside of the semiconductor wafer and forming an embrittlement layer inside the semiconductor wafer by multiphoton absorption and a thinning step of thinning the semiconductor wafer by separating the semiconductor wafer into two using the embrittlement layer as a starting point.例文帳に追加

半導体ウェーハの内部に焦点を合わせてレーザー光を照射し、多光子吸収により半導体ウェーハの内部に脆化層を形成する脆化層形成工程と、脆化層を起点として半導体ウェーハを２枚に分離して、半導体ウェーハを薄厚化する薄厚化工程とを含む半導体ウェーハの薄厚化方法である。 - 特許庁

The magnetoresistance effect element 10 is manufactured by the method including a ferromagnetic layer formation process for forming a layer made of a ferromagnetic material on a substrate 14, and a patterning process for patterning the formed layer to set the maximum length of the nano-junction 12 for connecting the ferromagnetic layers 11, 13 to the Fermi length or smaller of the ferromagnetic material.例文帳に追加

こうした磁気抵抗効果素子１０は、基板１４上に強磁性材料からなる層を形成する強磁性層形成工程と、形成された層をパターニングして、前記２つの強磁性層１１，１３を連結するナノ接合部１２の最大長さを前記強磁性材料のフェルミ長以下にするパターニング工程とを有する方法により製造される。 - 特許庁

By using this system, an adhesive material layer having only a required amount of the adhesive as the adhesive layer can be formed on a reflective film surface, to avoid lowering of light reflectance caused by the formation of an excessive amount of the adhesive material layer on the reflective film surface, and to secure adhesive strength of the reflective film.例文帳に追加

本装置を使用すれば、接着層として必要な量の接着材だけを接着材料層を反射膜上に形成させることができ、過量の接着材料層が反射膜表面に形成されることによる光反射率の低下を回避することができるとともに、反射膜の接着強度を確保することもできる。 - 特許庁

In a manufacturing method of a multilayer wiring substrate which is formed by laminating an insulation layer formed of a resin insulation film and a wiring layer alternately formed of a conductor film, after a hole part for via hole formation is formed from a wiring layer side of a multilayer wiring substrate by means of laser drill processing, dross generated in a hole part opening end is removed by using the laser drill.例文帳に追加

樹脂絶縁膜よりなる絶縁層と導体膜よりなる配線層とが交互に積層されてなる多層配線基板の製造方法において、多層配線基板の配線層側からビヤホール形成のための孔部をレーザードリル加工を用いて形成後に、前記レーザードリルを用いて孔部開口端に発生するドロスを除去する。 - 特許庁

The semiconductor device has a silicon single-crystal substrate 1, a GaP buffer layer 2 that is formed on the silicon-single crystal substrate 1 to the thickness of a critical film, and a plurality of semiconductor layers 3 each comprising a III-V compound semiconductor layer where formation is made on the GaP buffer layer 2 and nitrogen is added so that substantial lattice matching is made to a silicon signal crystal.例文帳に追加

シリコン単結晶基板１と、シリコン単結晶基板１上にその臨界膜厚以下の厚さに形成されたＧａＰバッファ層２と、ＧａＰバッファ層２上に形成されシリコン単結晶に実質的に格子整合するように窒素を添加したIII −Ｖ族化合物半導体からなる複数の半導体層３とを有する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the organic photoelectric conversion element 10 having the photoelectric conversion layer 14 between a first electrode and a second electrode, a step of forming the photoelectric conversion layer includes a step in which a solution for photoelectric conversion layer formation is jetted from a plurality of nozzles of an inkjet device.例文帳に追加

第一の電極と第二の電極の間に光電変換層１４を有する有機光電変換素子１０の製造方法において、前記光電変換層の形成工程がインクジェット装置の複数のノズルから光電変換層形成の溶液が射出される工程を含むことを特徴とする有機光電変換素子の製造方法。 - 特許庁

When the epoxy resin layer contains an epoxy resin having bisphenol S skeleton and an alicyclic epoxy resin, the layer has balanced heat-resistance and strength, high light transmittance, small linear expansion coefficient and excellent dimensional stability and, accordingly, the formation of electrode and color filter becomes easy by using the layer as the substrate of various image displaying devices.例文帳に追加

エポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂と脂環式エポキシ樹脂とを含む場合は、耐熱性と強度の良好なバランスがとれており、光透過率が高く、かつ線膨張係数が小さく寸法安定性に優れているので、各種画像表示装置の基板等として用いることにより、電極形成やカラーフィルター形成が容易となる。 - 特許庁

On a TFT array substrate 10 of the reflection type electrooptic device 100, an unevenness formation layer 6g in the same layer the a data line 6a is formed in a specified pattern below a light reflecting film 8a and a photosensitive resin layer 7a is formed of photosensitive resin 7 above it by half-exposure through an exposure mask 200, development, and heating.例文帳に追加

反射型電気光学装置１００のＴＦＴアレイ基板１０において、光反射膜８ａの下層側には、データ線６ａと同層の凹凸形成層６ｇが所定のパターンで形成され、その上層には、感光性樹脂７に対して、露光マスク２００を介してのハーフ露光、現像、および加熱を行って感光性樹脂層７ａを形成してある。 - 特許庁

The coating film formation method comprises the steps of forming an under coating layer by applying a base adjustment material containing polymer cement mortar to a base substrate and forming a top coating layer on the under coating layer by applying a top coating material containing a hydroxyl-containing vinyl polymer having a number average molecular weight of 1,000 to 20,000 and polyisocyanate.例文帳に追加

塗膜の形成方法は、ポリマーセメントモルタルからなる下地調整材を下地基材上に塗工して下塗り層を形成する工程と、下塗り層上に数平均分子量１０００〜２００００である水酸基を有するビニル重合体及びポリイソシアネートを含有する上塗り塗料を塗工して上塗り層を形成する工程とよりなるものである。 - 特許庁

In addition, a layer that does not contain an impurity element giving the one conductivity-type or a layer of considerably lower concentration of an impurity element that gives the one conductivity-type than others is provided between a pair of semiconductor films functioning as a source region or a drain region and a layer containing an impurity element functioning as the channel formation region.例文帳に追加

また、ソース領域またはドレイン領域として機能する不純物元素を含む一対の半導体膜と、チャネル形成領域として機能する不純物元素を含む層との間に、一導電型を付与する不純物元素を含まない、もしくは他の層に比べて一導電型を付与する不純物元素の濃度が著しく低い層を設ける。 - 特許庁

To provide an electroplating method and electroplating equipment capable of preventing the flow of a large current, such as a surge current, between a main substrate and an auxiliary substrate after the end of formation of a plating layer and well maintaining the quality of the plating layer by appropriately controlling switching and controlling output before discharging a plating solution after the plating and forming of the prescribed plating layer in particular.例文帳に追加

特に所定のメッキ層をメッキ形成した後、メッキ液を排液する前にスイッチング制御及び出力制御を適切に行うことで、メッキ層の形成終了後に主基板と補助基板間にサージ電流等の大電流が流れるのを防止し、メッキ層の品質を良好に保つことが可能な電気メッキ方法及び電気メッキ装置を提供。 - 特許庁

This method of manufacturing the high-voltage transistor with the extended drain region comprises the formation of a first-conductivity type epitaxial layer 101 on a first-conductivity type substrate 10 and the etching of the epitaxial layer 101 to form a pair of spaced-apart trenches that define the first and second sidewall portions of the epitaxial layer 101.例文帳に追加

拡張ドレイン領域を有する高電圧トランジスタを作製する方法は、第一の導電型である基板１０上に第一の導電型であるエピタキシャル層１０１を形成し、そして、エピタキシャル層１０１をエッチングして、エピタキシャル層１０１の第一及び第二の側壁部を形成する一対の離間した溝部を形成することを含む。 - 特許庁

The method includes in a first reaction chamber converting at least a part of the copper containing surface layer 4 into a copper halide surface layer 5 and in a second reaction chamber removing at least a part of the copper halide surface layer 5 by exposing it to a photon atmosphere 6, thereby initiating formation of volatile copper halide products 8.例文帳に追加

この方法は、第１反応チャンバ中で、銅含有表面層４の少なくとも一部を、ハロゲン化銅表面層５に変える工程と、第２反応チャンバ中で、光子含有雰囲気６に晒して、ハロゲン化銅表面層５の少なくとも一部を除去して、揮発性のハロゲン化銅生成物８の形成を始める工程とを含む。 - 特許庁

A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加

可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ５μｍ未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁

The image formation device comprises a first inkjet recording head for forming a layer with an unevenness corresponding to the image to be recorded, a second inkjet recording head for carrying out image recording, and a third inkjet recording head for forming a layer with an unevenness corresponding to the image to be recorded which is smaller than the unevenness of the layer formed by the first inkjet recording head.例文帳に追加

記録する画像に応じた凹凸を有する層を形成する第１のインクジェット記録ヘッドと、画像記録を行う第２のインクジェット記録ヘッドと、第１インクジェット記録ヘッドが形成する層の凹凸よりも小さい、記録する画像に応じた凹凸を有する層を形成する第３のインクジェット記録ヘッドとを有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

The optical member comprises a substrate having a curved face in at least a part thereof, and on the substrate a layer of single aluminum or a compound containing aluminum formed in a vapor phase and subjected to a hydrothermal treatment to form a concavo-convex structure on the outermost surface; and the optical member includes a dielectric layer between the substrate and the concavo-convex structure, the dielectric layer formed by vapor phase film formation.例文帳に追加

少なくとも一部に曲面を有する基材と、該基材上に、アルミニウム単体、及びアルミニウムを含む化合物の少なくともいずれかを気相成膜した層を水熱処理して最表面に凹凸構造を有してなり、前記基材と前記凹凸構造の間に、気相成膜により形成された誘電体層を有する光学部材である。 - 特許庁

A method for manufacturing a ferroelectric thin film comprises the steps of forming a seed layer containing an ultra-fine particle powder which contains a constituting element of the ferroelectric thin film, on the surface of a substrate for constituting a substrate prior to a formation of the ferroelectric thin film, forming the ferroelectric thin film on an upper surface of the seed layer, and crystallizing the thin film with the seed layer as a nucleus.例文帳に追加

強誘電体薄膜の形成に先立ち、下地を構成する基板表面に、前記強誘電体薄膜の構成元素を含む超微粒粉を含むシード層を形成し、このシード層の上層に、強誘電体薄膜を形成し、このシード層を核として結晶化を行うようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

After the formation of the layer 12, an ink image receiving layer 16 for receiving an ink image is formed; and a water-based emulsion-like coating, which contains a polyurethane resin component, and at least one kind of silica particulate and alumina particulate, is prepared, and applied in an application quantity of 15-35 g/m^2, so as to form the ink image receiving layer 16.例文帳に追加

この発泡樹脂層１２形成後に、インクを受像するインク受像層１６を形成すし、ポリウレタン樹脂成分と、シリカ微粒子およびアルミナ微粒子のうち少なくとも１種と、を含む水性エマルジョン状の塗料を作成し、前記水性エマルジョン状の塗料の塗布量１５ｇ／ｍ^２〜３５ｇ／ｍ^２で塗布して前記インク受像層１６を形成する。 - 特許庁

As a barrier rib formation process to form the barrier rib 110 on a rear substrate of the PDP, a first process to form a barrier rib forming material layer 120, a second process to pattern the barrier rib forming material layer 120, and a third process to form the barrier rib 110 by calcining the patterned barrier rib forming material layer 120 are implemented.例文帳に追加

ＰＤＰの背面基板１０３に隔壁１１０を形成する隔壁形成工程として、隔壁形成材料層１２０を形成する第１工程と、隔壁形成材料層１２０をパターニングする第２工程と、パターニングされた隔壁形成材料層１２０を焼成して隔壁１１０を形成する第３工程と、を実施する。 - 特許庁

This electronic paper manufacturing method has an electronic paper formation process in which a thin film transistor 8 is formed on an electronic paper support film 7 to obtain a driver layer while temporarily fixing the electronic support film 7 on a support plate 6 by a double-sided adhesive tape 5, and further a display layer 9 having an image display function is adhered on the driver layer.例文帳に追加

電子ペーパーの製造方法は、電子ペーパー支持フィルム７を両面粘着テープ５で支持板６に仮固定した状態で、該電子ペーパー支持フィルム７上に薄膜トランジスタ８を形成してドライバ層を得、さらに、該ドライバ層上に画像表示機能を有する表示層９を貼り合わせる電子ペーパー形成工程を有する。 - 特許庁

To provide a production method of a light absorption layer for a compound thin film solar cell in which formation of a discontinuous layer (insular In film) can be prevented when a pure In film is deposited by sputtering, and oxidation of Ga can preferably be minimized when a CIGS based light absorption layer, or the like, containing Ga is produced.例文帳に追加

スパッタリング法によって純Ｉｎ膜を成膜したときにおける不連続層生成（島状Ｉｎ膜の形成）を防止でき、好ましくはＧａを含むＣＩＧＳ系光吸収層などを製造する場合には、Ｇａの酸化を抑制することが可能な化合物薄膜太陽電池用光吸収層の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, formation of plural adhesive layers 4a and 4b different in characteristics next to each other in the adhesive layer-forming surface region 2 gives an adhesive layer durable in a high temperature environment and also resistant to impact as a whole in the adhesive layer-forming surface region 2 thereby enabling improvement in reliability of adhesion of a product.例文帳に追加

このように、特性が異なる複数の接着層４ａ，４ｂを接着層形成面領域２に隣り合わせに形成することによって、接着層形成面領域２の全体では、高温環境に強く、かつ、衝撃に強い接着層が形成されていることとなり、製品の接着の信頼性を向上させることが可能となる。 - 特許庁

The process for growing the III-V compound semiconductor layer 5 comprises processes of: heating the substrate 1 so that the temperature of the substrate 1 becomes a value Tsub (2) which is higher than the first value Tsub (1) at formation start time of the III-V compound semiconductor layer 5; and lowering the temperature of the substrate 1 as the III-V compound semiconductor layer 5 grows.例文帳に追加

III−Ｖ族化合物半導体層５を成長させる工程は、III−Ｖ族化合物半導体層５の成長開始時に、基板１の温度が第１の値Ｔｓｕｂ（１）よりも高い第２の値Ｔｓｕｂ（２）になるように基板１を加熱する工程と、III−Ｖ族化合物半導体層５の成長と共に、基板１の温度を低下させる工程とを含む。 - 特許庁

The partial sticking of the film layer to the base material layer is such that the specific region of the film layer including the opaque material can be removed after the image formation to expose the indication variably recorded on the thermal image forming membrane, and recorded indication such as a bar code and other security patterns is protected by a permanently coupled film region.例文帳に追加

基材層へのフィルム層の部分接着は熱像形成被膜上に可変的に記録された表示を露出させるべく不透明材料を含むフィルム層の特定領域が像形成後に除去でき、バーコードや他のセキュリティ模様等の他の記録済み表示は永続的に結合されたフィルムの領域によってを保護される。 - 特許庁

In a transistor comprising a gate electrode 11, a gate insulating film 2, a source electrode 17, a drain electrode 16 and the organic semiconductor layer 3 formed on a substrate, the sealing layer 4 is included on the semiconductor layer, and a printing method is used for its formation to form a stripe shape, by which a pattern is simply formed, and high alignment accuracy is obtained together with the high yield.例文帳に追加

基板上に形成されたゲート電極１１、ゲート絶縁膜２、ソース電極１７、ドレイン電極１６および有機半導体層３を含んでなるトランジスタにおいて、半導体層上に封止層４を有し、その形成に印刷法を用い、ストライプ状にすることで、簡易にパターンを形成でき、歩留まりよく、高いアライメント精度が得られる。 - 特許庁

A method for forming an insulating film of a semiconductor element substrate has an application process for forming a coated film 2 by applying a constitutional coat for the insulating film, a surface layer curing process for curing the surface layer side 2a of the coated film 2 after the application process, and a pore formation process for forming pores 4 in the coated film 2 after the surface layer curing process.例文帳に追加

半導体素子基板上に絶縁膜を形成する方法において、 前記絶縁膜の構成塗料を塗布して塗膜２を設ける塗布工程と、 前記塗布工程の後、前記塗膜２の表層側２ａを硬化させる表層硬化工程と、 前記表層硬化工程の後、前記塗膜２にポア４を形成するポア形成工程とを具備する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the photo cathode formed by forming alkali metal or a coating layer made of oxides or the like on a light absorbing layer made up of semiconductor crystal, a plurality of single wavelength lights different from one another in peak wavelength are alternately irradiated during formation of the coating layer, and the forming modes of the coating layer are controlled respectively based on discharge currents by light radiation from the respective single wavelength lights.例文帳に追加

半導体結晶からなる光吸収層上に、アルカリ金属又はこれらの酸化物などからなる被覆層を形成してなるフォトカソードの製造方法において、前記被覆層の形成中に、ピーク波長が互いに異なる複数の単波長光を交互に照射し、各単波長光からの光照射による放出電流にそれぞれ基づいて、前記被覆層の形成態様を制御するようにした。 - 特許庁

The positive electrode plate for nonaqueous secondary battery has an electrode active material layer installed on a current collector by jointing active materials containing at least lithium and two or more metal elements selected from a group of cobalt, nickel, and manganese without using a resin binder, and the electrode active material layer is provided with a dense layer which is positioned on the current collector side and does not have a void substantially and has a void formation layer.例文帳に追加

樹脂製結着材を用いずに、少なくともリチウムと、コバルト、ニッケルおよびマンガンからなる群から選択される２以上の金属元素と、を含む活物質同士が接合することにより集電体上に電極活物質層が設けられており、該電極活物質層は、上記集電体側に位置する実質的に空隙を有しない緻密層と、空隙形成層とを備えて構成される。 - 特許庁

The manufacturing method of the liquid jet head includes a step of laminating a first metal layer 191 enhancing adhesion and a second metal layer 192 serving as wiring on one surface of a channel formation substrate 10 where a piezoelectric actuator is formed, a step for patterning the second metal layer 192 by wet etching, and a step for patterning the first metal layer 191 by dry etching.例文帳に追加

圧電アクチュエーターが一方面に形成された流路形成基板１０の当該一方面に密着を向上する第１の金属層１９１と、配線となる第２の金属層１９２とを積層する工程と、前記第２の金属層１９２をウェットエッチングによりパターニングする工程と、前記第１の金属層１９１をドライエッチングによりパターニングする工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of organic photoreceptor is a method of manufacturing an organic photoreceptor formed by laminating an organic photosensitive layer and a protective layer on a conductive support in this order, and includes the step of applying a coating liquid for protective layer formation containing a polymerizable compound component to form a curable resin constituting the protective layer and a thickener component for polymerization reaction with the polymerizable compound component.例文帳に追加

有機感光体の製造方法は、導電性支持体上に、有機感光層および保護層がこの順に積層されてなる有機感光体を製造する方法であって、保護層を構成する硬化樹脂を形成すべき重合性化合物成分と、この重合性化合物成分と重合反応する増粘剤成分とを含有する保護層形成用塗布液を塗布する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

A semiconductor device comprises metal wiring 34 consisting primarily of copper, uppermost layer wiring 5 formed in an upper layer than the metal wiring 34 and a fuse film 4 at least a part of which is formed on a plug formation layer 10 in which a plug 9 for connecting the metal wiring 34 with the uppermost layer wiring 5 is formed and formed from a conductive material consisting primarily of a metallic material other than copper.例文帳に追加

半導体装置は、銅を主成分とするメタル配線３４と、メタル配線３４よりも上層に形成された最上層配線５と、メタル配線３４と最上層配線５との間を接続するためのプラグ９が形成されるプラグ形成層１０に少なくとも一部が形成され、銅以外の金属材料を主成分とする導電性材料で形成されたヒューズ膜４とを含む。 - 特許庁

To secure connection reliability between a lower-layer conductor circuit and an upper-layer conductor circuit as a whole in a multilayered wiring board, even when connection defects occur in some of a plurality of via holes by collectively forming the via holes at formation of via holes through the interlayer insulating layer, on which the upper-layer conductor circuit is formed by a semi-aditive method.例文帳に追加

セミアディティブ法により上層導体回路が形成された層間絶縁層にバイアホールを形成するに際して複数のバイアホールを集合して形成することにより、複数のバイアホールの内いくつかに接続不良が発生した場合においても、配線板全体として下層導体回路と上層導体回路との接続信頼性を確実に保持することが可能な多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for an element separation formation and an element used for the method hardly generating defects such as misalignment wherein the capacity of a diffusion layer does not increase, and takes place even if a complex mask is employed while well ion implantation and thermal process can be omitted after formation of STI.例文帳に追加

拡散層容量が増加することがなく、複雑なマスクの使用による目ずれの発生する虞がなく、しかもＳＴＩ形成後にウェルイオン注入＋熱処理省略可能とした、転位等の欠陥が生じることの少ない素子分離形成方法および該方法に使用される素子の提供。 - 特許庁

The optical device includes a substrate 11, a plurality of optical elements 13 formed in an element formation region 12 of the substrate 11, a plurality of lenses 15 formed over the element formation region 12 so as to correspond to the plurality of optical elements 12, and a protective layer 17 formed so as to cover the plurality of lenses 15.例文帳に追加

光学デバイスは、基板１１と、基板１１における素子形成領域１２に形成された複数の光学素子１３と、素子形成領域１２の上に、複数の光学素子１２と対応して形成された複数のレンズ１５と、複数のレンズ１５を覆うように形成された保護層１７とを備えている。 - 特許庁

Disclosed is the letterpress for pattern formation characterized in that a protective layer 205 is provided by a vacuum thin-film forming method to resin-made projection portions 201 of the letterpress 200 for pattern formation, wherein: the protective film is a mixed thin film of an organic substance and an inorganic substance; and the vacuum thin-film forming method is a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

パターン形成用凸版２００の樹脂製凸部２０１に真空薄膜形成法により保護層２０５を設けたことを特徴とするパターン形成用凸版であって、前記保護層が有機物と無機物の混合薄膜であって、前記真空薄膜形成法が、化学気相成長法であることを特徴とする。 - 特許庁

The material for the organic electroluminescent element is a diarylamine-based organic material having a chrysene skeleton provided to film formation of any of at least one organic layer included in the organic electroluminescent element, and has water content before the film formation, as measured by a Karl Fischer method is of 100 ppm or more and 1000 ppm or less.例文帳に追加

有機電界発光素子に含まれる少なくとも一層の有機層のいずれかの層の成膜に供するクリセン骨格を有するジアリールアミン系有機材料であって、カールフィッシャー法により測定した場合の成膜前の含水率が１００ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下である、有機電界発光素子用材料。 - 特許庁

To provide a thermoacid generator for antireflective film formation, a composition for antireflective film formation, and an antireflective film using the composition, exhibiting excellent etching resistance characteristics and antireflective performance against short wavelength light (absorptivity for short wavelength light) and capable of suppressing generation of scum in an upper-layer photoresist film.例文帳に追加

耐エッチング特性や、短波長光に対する反射防止能（短波長光の吸収能）が良好であり、さらに上層のホトレジスト膜におけるスカムの発生を抑制することができる、反射防止膜形成用熱酸発生剤、反射防止膜形成用組成物、およびこれを用いた反射防止膜の提供。 - 特許庁