「fabrication process」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A polytetrafluoroethylene (PTFE) porous membrane is used for a filter medium of an air filter for filtering process gases in semiconductor device fabrication.例文帳に追加

半導体素子製造におけるプロセスガス濾過用エアフィルタ濾材として、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）多孔質膜を使用する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of semiconductor device where the focus management can be performed with high sensitivity for the amount of defocus.例文帳に追加

デフォーカス量に対する感度が高いフォーカス管理を行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which a gate electrode having various patterns can be subjected to full silicification.例文帳に追加

様々なパターンを有するゲート電極をフルシリサイド化することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In yet another integrated circuit fabrication process, a multilayer amorphous carbon anti-reflective coating is used for DUV lithography.例文帳に追加

さらに別の集積回路製造工程では、多層アモルファスカーボン反射防止膜がＤＵＶリソグラフィのために用いられる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the resistance of an interconnect line can be prevented from increasing during fabrication process even the memory cell area is reduced.例文帳に追加

メモリセル面積が減少しても製造時における配線抵抗の増大を防止できる半導体装置の提供。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device which can carry out sufficient heat treatment while minimizing aggravation of the surface state of an SiC wafer, and to provide a semiconductor device which is fabricated by the fabrication process and exhibiting excellent characteristics.例文帳に追加

ＳｉＣウェハの表面状態の悪化を抑制しつつ、十分な熱処理を実施することが可能な半導体装置の製造方法、および当該製造方法により製造されることにより、優れた特性を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of an organic semiconductor structure comprising an organic semiconductor layer having uniform charge transport characteristics in a large area, and to provide an organic semiconductor structure fabricated by that fabrication process and an organic semiconductor device.例文帳に追加

大きな面積において均一な電荷輸送特性を持つ有機半導体層を形成してなる有機半導体構造物の製造方法、その製造方法により製造された有機半導体構造物及び有機半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film element in which connection reliability can be enhanced by preventing short circuit of a connection line; and to provide its fabrication process, a thin film circuit device and its fabrication process, and an electronic apparatus equipped with the thin film circuit device.例文帳に追加

接続配線の短絡を防止して、接続信頼性を向上させることができる薄膜素子およびその製造方法、薄膜回路装置およびその製造方法、並びに当該薄膜回路装置を備えた電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric element in which delamination is prevented in a lower electrode, and to provide its fabrication process, a liquid ejection head, its manufacturing process, and a liquid ejector.例文帳に追加

下電極内の層間剥離を防止した圧電素子及びその製造方法、液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor element in which the fabrication process can be simplified and the characteristics can be enhanced without increasing the number of steps.例文帳に追加

製造工程を簡素化することできると共に、工程数を増加させずに特性を向上させることができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Other process is similar to existing process for fabricating silicon integrated circuit in the fabrication of a semiconductor device, e.g. a double gate field effect transistor.例文帳に追加

また、その他のプロセスは、主に、既存のシリコン集積回路作製プロセスと同等のものを採用することにより、ダブルゲート構造電界効果トランジスタ等の半導体素子を製造する。 - 特許庁

To provide a dry etching process for suitably and selectively etching silicon nitride from a conductive oxide material in order to use in a semiconductor fabrication process.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおいて使用するために、導電性酸化物材料から窒化シリコンを好適に選択的にエッチングするドライエッチングプロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor in which the dead zone and the dark current characteristics can be enhanced simultaneously using a selective epitaxial growth process, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

選択的なエピタキシャル成長工程を用いてデッドゾーンと暗電流の特性を同時に向上させることのできるＣＭＯＳイメージセンサとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical element in which high precision alignment can be achieved, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

本発明の目的の１つは、高精度のアライメントが実現可能な光素子及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an in-plane switching mode liquid crystal display device which simplifies a fabrication process andto provide a method for fabricating the in-plane switching mode liquid crystal display device.例文帳に追加

製造工程を単純化するインプレーンスイッチング方式液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device in which initial variation of via resistance is suppressed, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

信頼性が高くかつ初期のビア抵抗値のばらつきが小さい半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device in which conduction between drain and substrate contact can be prevented, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ドレイン−基板コンタクト間導通を防止できる、高信頼性を有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The CAD data of the circuit pattern used in fabrication of an imprinting stamper can be reutilized in the inkjet printing process.例文帳に追加

また、インプリンティングスタンパの製作に使用された回路パターンのＣＡＤデータをインクジェットプリンティング工程で再活用することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can suppress variation of forming voltage incident to scaling-down, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

微細化に伴うフォーミング電圧の変動を抑制することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This process is ideal in the fabrication of the optical component formed from the substrate with a near-zero coefficient of thermal expansion.例文帳に追加

このプロセスは、ゼロに近い熱膨張係数を有する基板から形成される光学コンポーネントの製造において理想的である。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can form an impurity region precisely at a desired position, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

所望の位置に不純物領域を精度よく形成することのできる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high performance semiconductor device for enhancing the driving power of an MOS-FET, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ＭＯＳ−ＦＥＴの駆動力を向上させる高性能な半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a termination structure composed of silicon carbide having low surface roughness, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

表面粗さの低い炭化珪素からなる終端構造を有する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

SURFACE LIGHT EMITTING LASER ELEMENT, PROCESS FOR FABRICATION THEREOF, 2D SURFACE LIGHT EMITTING LASER ARRAY, OPTICAL SCANNER AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

面発光レーザー素子及びその製造方法及び二次元面発光レーザーアレイ及び光走査装置及び画像形成装置 - 特許庁

To provide an ion purifying apparatus and method suitable for supplying an ultrapure chemical reagent to semiconductor fabrication process.例文帳に追加

超高純度化学薬品を半導体製造プロセスへ供給することに適したイオン精製装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonvolatile memory device having a ferroelectric capacitor exhibiting sufficient hydrogen barrier properties, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

十分な水素バリア性を有する強誘電体キャパシタを備えた不揮発性記憶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

FABRICATION PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE, ETCHING CONDITIONS SETTING METHOD, CONDUCTIVE FILM REMOVING CONDITIONS SETTING METHOD, AND RETICLE例文帳に追加

半導体装置の製造方法，半導体装置、エッチング条件の設定方法、導電膜除去条件の設定方法、及びレチクル - 特許庁

To provide a diamond semiconductor element exhibiting excellent transistor characteristics and emitting UV-rays with high efficiency, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

トランジスタ特性が優れ、また高効率で紫外線発光が可能なダイヤモンド半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminate material which can stop a secondary fabrication process located downstream following a lamination process when a trouble has occurred in the secondary fabrication process a restoration work for the trouble is under way with regard to the lamination of a continuous length sheet such as a web form sheet printed with a toner.例文帳に追加

トナー印字等が施された連続フォーム用紙等の長尺シートのラミネートにおいて、ラミネート工程に続く下流の二次加工工程においてトラブルが発生した場合、前記トラブルの復旧に際し前記二次加工工程を停止させることができるラミネート物の製造方法を提供する。 - 特許庁

The system for receiving production order of wafer comprises a client terminal of a device manufacturer and a client computer of a wafer manufacturer wherein the client terminal receives device fabrication process information and transmits it, and the client computer receives the device fabrication process information and selects a corresponding wafer production process.例文帳に追加

ならびにデバイスメーカのクライアント端末とウエーハメーカの顧客コンピュータから成り、前記クライアント端末はデバイス製造工程情報を入力され送信し、前記顧客コンピュータは前記デバイス製造工程情報を受信し、対応したウエーハ製造工程を選択する半導体ウエーハ製造の受注システム。 - 特許庁

The method for producing a semiconductor wafer comprises a step for acquiring device fabrication process information, a step for selecting a corresponding wafer production process, and a step for producing a wafer by a selected production process.例文帳に追加

デバイス製造工程情報を入手する段階と、対応したウエーハ製造工程を選択する段階と、選択された製造工程によりウエーハを製造する段階とから成る半導体ウエーハの製造方法。 - 特許庁

To manage the characteristics of a semiconductor substrate in the fabrication process using a fabrication apparatus clustered in an environment isolated from the atmosphere and the thickness of a film formed thereon on the interface, in the film and on the surface.例文帳に追加

大気と絶縁された雰囲気でクラスタリングされた製造装置を用いた製造工程中における半導体基板と、その上に形成された膜の界面、膜中、表面及び膜厚の特性管理に関する。 - 特許庁

Next, testing fabrication is done (S205), a curing shape is measured (S206), slice data are prepared (S207), actual fabrication is done (S208), the shape of fabricated article is evaluated (S209), and a process is completed (S210).例文帳に追加

次いで、テスト造形行い（Ｓ２０５）、硬化形状の測定を行い（Ｓ２０６）、スライスデータの作成を行い（Ｓ２０７）、実際の造形を行い（Ｓ２０８）、造形物の形状評価を行い（Ｓ２０９）、完成する（Ｓ２１０）。 - 特許庁

To provide a single crystal substrate used suitably in fabrication of a GaN-based LED device having an enhanced light extraction efficiency, and also to provide a fabrication process of a GaN-based LED device using that single crystal substrate.例文帳に追加

光取り出し効率を高めたＧａＮ系ＬＥＤ素子の製造に好適に用いられる単結晶基板と、その単結晶基板を用いたＧａＮ系ＬＥＤ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a solar cell element having a series multilayer structure exhibiting excellent effect of increasing light scattering and excellent power generation efficiency per unit area in which fabrication cost can be reduced because of simple fabrication process.例文帳に追加

光の散乱を増加させる効果に優れ、単位面積当たりの発電効率に優れ、製造工程が簡単なため低コストでの製造が可能な、直列積層構造を有する太陽電池素子を提供する。 - 特許庁

To provide a display device including an oxide thin film transistor, the fabrication process of which can be simplified, and to provide a method for fabricating the display device including the oxide thin film transistor.例文帳に追加

工程を単純化することのできる酸化物薄膜トランジスタを備えた表示素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the batch fabrication of a thin-film resonator which is used for high-frequency filtering and frequency control applications, this process is used.例文帳に追加

高周波フィルタリング、周波数制御アプリケーションで用いられる薄膜共振器のバッチファブリケーションにおいて、このプロセスは使用される。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device which can prevent fault in CMP processing without increasing the fabrication cost.例文帳に追加

製造コストを高めることなくＣＭＰ処理における不具合を防ぐことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of semiconductor device in which fall of yield can be suppressed by employing an oil immersion exposure device in the lithography step.例文帳に追加

歩留りの低下を抑制できる、リソグラフィー工程に液浸露光装置を用いる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system that easily and accurately measures the illumination levels that are directed on wafers during a photolithography process in wafer fabrication.例文帳に追加

ウェーハ製造におけるフォトリソグラフィープロセス中にウェーハ上に向けられる照明レベルを簡易かつ正確に測定するシステムの提供。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor element capable of employing a wet process in fabrication and exhibiting a high carrier mobility and low deterioration in the air.例文帳に追加

作製にウェットプロセスを採用でき、高いキャリア移動度を示し、空気中での劣化の少ない有機薄膜トランジスタ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a solar photovoltaic generator circuit adapted to simplify a fabrication process and cut down a unit cost without impairing reliability and performance quality.例文帳に追加

信頼性や性能品質を損なわずに、製造加工を簡易化し単位原価を削減した太陽光発電回路を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing an integrated circuit includes: a step of computing fixed scaling factors for a first fabrication process based on a second fabrication process; a step of computing the optionally settable scaling factors for the integrated circuit to be fabricated using the first fabrication process; a step of determining parameters of the integrated circuit based on the optionally settable scaling factors; and a step of manufacturing the integrated circuit using the determined parameters.例文帳に追加

集積回路の製造方法は、第二製造プロセスに基づいた第一製造プロセスの固定スケーリング係数を計算するステップと、第一製造プロセスにより集積回路を製造するため、任意設定スケーリング係数を計算するステップと、任意設定スケーリング係数に基づいて、集積回路のパラメータを決定するステップと、決定されたパラメータにより、集積回路を製造するステップと、からなる。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which the gate electrode can be prevented from falling when an LDD region is formed.例文帳に追加

ＬＤＤ領域を形成するときにゲート電極が倒れることを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for generating integrated circuit (IC) simulation information regarding an effect of design and fabrication process decisions.例文帳に追加

本発明は、デザインと製作プロセスの決定の影響に関する集積回路(ＩＣ)シミュレーション情報の生成法と生成システムを含む。 - 特許庁