「fabrication process」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor device in which lowering of impurity concentration in a channel region caused by a sacrificial oxidation process or a gate oxide formation process is suppressed and thereby impurity concentration in the channel region can be controlled easily and a desired Vt can be obtained, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

犠牲酸化工程やゲート酸化形成工程に起因するチャネル領域の不純物濃度の低下を抑制し、それによってチャネル領域の不純物濃度の制御が容易で且つ所望のＶｔを得ることが可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the structure of a piezoelectric oscillator in which processing is carried out consistently under the state of glass or silicon wafer from manufacturing process, surface mounting is possible, and a signal of desired oscillation frequency can be outputted even if the oscillator is miniaturized, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ガラスあるいはシリコンウエハ状態で製造工程から一貫して処理する表面実装可能な圧電発振器を小型化しても所望の発振周波数信号を安定して出力できる構造と製造方法の実現。 - 特許庁

Such devices, also referred to as process diagnostic vehicles (PDVs), are configured for in-line monitoring of electrical characteristics of PV cell feature parts and are formed on the substrate using the same process steps for PV cell fabrication.例文帳に追加

このような装置は、プロセス診断ビヒクル（ＰＤＶ）とも称されるが、ＰＶセル特徴部の電気的特性をインライン監視するように構成され、ＰＶセル製造のための同じプロセスステップを使用して基板上に形成される。 - 特許庁

To realize a method for fabricating a semiconductor device, which does not require time management can be incorporated into a conventional process, has less loss in fabrication, and has a chip cleaning process by UV irradiation.例文帳に追加

時間管理に留意する必要がなく、従来の製造工程の中に組み込むことができ、生産上のロスが少ない、ＵＶ照射によるチップ洗浄工程を有する半導体装置の製造方法の実現を課題とする。 - 特許庁

To provide a process for laying wiring at the periphery of a product circuit without changing the conventional substrate fabrication process to find substrate and resist cracks invisible in appearance check and to electrically detect substrate damage due to the cracks.例文帳に追加

外観確認で検出できない基板、およびレジストクラックを検出するための配線を製品回路の外周に、従来の基板作成プロセスを変えることなく配置し、基板へのダメージを電気的に検出できるようにする。 - 特許庁

To provide a solid state image sensor in which sensitivity can be enhanced by suppressing unevenness in sensitivity and color thereby enhancing transmissivity above a light receiving section and generation of a dark current due to hydrogen annealing can be suppressed during fabrication, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

感度ムラや色ムラの発生を抑えて、受光部上の透過率を高くして感度の向上を図ることができると共に、製造中の水素アニールにより暗電流の発生を抑制することが可能な固体撮像素子及び固体撮像素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The three-dimensional article is manufactured by a method in which a slice drawing of a unit thickness in a fabrication object is depicted on a powdered material placed in a unit thickness, and a process for solidifying the material in each unit thickness is repeated as required over the whole thickness of the fabrication object.例文帳に追加

三次元物品の作成を、単位厚さに敷設された粉末材料上に、造形対象における単位厚さのスライス図をレーザ描画し、上記粉末材料を該単位厚さづつ固形化する行程を、上記造形対象全体の厚さに亙って必要回数行って作成する。 - 特許庁

To provide a process for producing an epitaxial wafer for nitride semiconductor light-emitting diode, in which a moderately roughened surface exhibiting high light take-out efficiency is provided, without bringing about increase in fabrication method and fabrication cost, as in the methods where wet etching or a resist pattern have been used for a long time.例文帳に追加

長時間のウエットエッチングやレジストパターンを用いる方法のように製造工程及び製造コストの増加をもたらすことがなく、光取出し効率の高い適度に荒れた表面を有する窒化物半導体発光ダイオード用エピタキシャルウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The fabrication process further comprises a primary heat treatment step for forming a silicide layer, and a secondary heat treatment step for removing the cap metal film and a nonreaction part of the metal film to provide a low resistance silicide layer.例文帳に追加

シリサイド層を形成する第１次熱処理工程、キャップ金属膜及び未反応の金属膜の部分を除去し、低抵抗のシリサイド層とする第２次熱処理工程を経る。 - 特許庁

To provide a semiconductor element in which strength characteristics of a supporting substrate is excellent, reflection light from the supporting substrate is little, and light take-out efficiency is enhanced, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

支持基板の強度特性に優れるとともに、該支持基板からの反射光が少なく、光取り出し効率を向上させた半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the S-factor can be reduced effectively, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

Ｓ−ｆａｃｔｏｒを効果的に低減可能は半導体ディバイスを提供すること及び、Ｓ−ｆａｃｔｏｒを効果的に低減可能は半導体ディバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a high reliability/high quality piezoelectric element in which a high orientation effect is realized even in a nonthermally deposited/annealed piezoelectric film and damage on the piezoelectric film is lessened during fabrication process.例文帳に追加

非加熱成膜・アニールによる圧電性膜でも高配向性を実現し、かつ製造過程での圧電性膜へのダメージを軽減した、高信頼性・高品質な圧電素子を提供する。 - 特許庁

To provide an InGaAs light-receiving element array which has photosensitivity in a wavelength region exceeding 1.7 μm, with superior responsiveness, and a low dark current, and to provide its fabrication process and a detection apparatus.例文帳に追加

１．７μｍを超える波長域に受光感度をもち、応答性に優れ、暗電流の低いＩｎＧａＡｓ受光素子アレイ、その製造方法および検出装置を提供する。 - 特許庁

A method is provided for converting an integrated circuit design into a set of masks for fabrication of an integrated circuit that optimizes use of the edge base imaged transfer mask process.例文帳に追加

そのエッジ・ベースのイメージ転写マスク・プロセスの使用を最適化する集積回路の形成用の１組のマスク・セットに集積回路設計を変換するための方法を対象とする。 - 特許庁

To provide a thin film of high temperature superconducting oxide (RE)Ba_2Cu_3O_7 (RE=Y, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb) (hereinafter, referred to (RE)BCO thin film) having a high critical current density and causing no cracking, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

高臨界電流密度であり、かつ、クラックの生じない高温超電導酸化物(RE)Ba_2Cu_3O_7 (RE = Y, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho, Er, Yb)（以下 (RE)BCO 薄膜と略称）の薄膜及びその作製方法を提供する。 - 特許庁

Compared with conventional magnetic tunnel junction structures, the disclosed structure can be switched faster and has improved compatibility with a standard semiconductor fabrication process.例文帳に追加

従来型の磁気トンネル接合構造に比べると、開示される構造はより高速に切り換えること可能であり、また標準的な半導体製造工程との適合性が改善される。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit device in which poor read/write of a signal from/into a capacitor can be reduced, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

本発明によれば、キャパシタへの信号の書き込み/読み出し不良の発生を低減することができる半導体集積回路装置及びその製造方法を提供することができる。 - 特許庁

This contact structure is prepared by forming a contactor 530 on the surface of a substrate 520 using a micro fabrication process, and comprises the substrate 520 and the contactor 530 formed on the substrate 520.例文帳に追加

コンタクトストラクチャは、基板表面上にマイクロファブリケーション行程を用いてコンタクタを形成することにより作成され、基板と、その基板上に形成されたコンタクタにより構成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which wiring resistance is stabilized by employing integrated circuit wiring having a W plug where abnormal oxidation on the surface of the W plug is suppressed, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

Ｗプラグ表面の異常な酸化を抑制し、Ｗプラグを有する集積回路配線として配線抵抗の安定した半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, i.e. an MIS transistor having a gate insulating film composed of a material having a high dielectric constant, in which controllability of threshold is improved, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

高誘電率材料からなるゲート絶縁膜を有するＭＩＳトランジスタであって、閾値の制御性が良好である半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, the display system can be driven by low voltage, thereby simplifying its fabrication process, reducing the manufacturing cost and enhancing image contrast.例文帳に追加

それ故、本発明によれば、ディスプレイデバイスを低電圧で駆動することが可能となり、ディスプレイデバイスの製造工程を簡易にし、製造コストを低減し、コントラストを向上させることができる。 - 特許庁

This is a technique that can be applied as a complementary process or a replacement for various lithographic processing steps in the fabrication of integrated circuits and other microdevices.例文帳に追加

これは、集積回路その他のマイクロデバイスの製造における種々のリソグラフィ処理工程の相補的な工程として、又は置換工程として適用することができる技術である。 - 特許庁

To provide a photodetector consistent with the fabrication process of Si integrated circuit well, having sensitivity even for a wavelength of 1 μm or more, and operating at a high speed.例文帳に追加

本願発明では、Ｓｉ集積回路の作製プロセスとの整合がよく、１μｍ以上の波長でも感度を有し、高速で動作する光検出器を提供することを目的とする。 - 特許庁

A process step of fitting the sheet material with the thread-like members 11 having the elastic elongatability by means of adhesives 14 is included in a fabrication line for the throw-away wearing article.例文帳に追加

使い捨て着用物品の製造ラインにおいて、シート材料に弾性的な伸長性を有する糸状部材１１を接着剤１４によって取り付ける工程が含まれる。 - 特許庁

To provide a continuous oscillation laser capable of enhancing the processing efficiency of a substrate, and to provide a laser irradiation method and a fabrication process of a semiconductor device utilizing the laser.例文帳に追加

基板処理の効率を高めることができる連続発振のレーザー装置、レーザー照射方法及び該レーザー装置を用いた半導体装置の作製方法の提供を課題とする。 - 特許庁

POLISHING SLURRY, SURFACE TREATMENT METHOD OF GROUP III NITRIDE CRYSTAL, GROUP III NITRIDE CRYSTAL SUBSTRATE, GROUP III NITRIDE CRYSTAL SUBSTRATE WITH EPITAXIAL LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS FABRICATION PROCESS例文帳に追加

ポリシングスラリー、ＩＩＩ族窒化物結晶の表面処理方法、ＩＩＩ族窒化物結晶基板、エピタキシャル層付ＩＩＩ族窒化物結晶基板、半導体デバイスおよびその製造方法 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit device equipped with an ESD protective circuit which prevents malfunction at the time of power on without using any special fabrication process.例文帳に追加

特別な製造工程を用いる必要がなく、また電源投入時の誤動作を防止することのできるＥＳＤ保護回路を備えた半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of an optical semiconductor device having high photosensitivity characteristics by reducing reflectivity of the light-receiving surface particularly for short wavelength light centering on blue light.例文帳に追加

特に青色光を中心とした短波長光に対し、受光面における反射率が低減され、高受光感度特性となっている光半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image sensor enhancing uniformity among unit pixels by reducing relative photosensitivity difference of respective colors of RGB or YMgCy, and also to provide its fabrication process.例文帳に追加

ＲＧＢまたはＹＭｇＣｙの各カラーの相対的な光感度差を減らし、単位画素間の均一性を高めることができるイメージセンサ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for fabrication of a nitride semiconductor substrate with a low dislocation, especially, making to suppress a stress which is inherent in the nitride semiconductor substrate with a little curvature.例文帳に追加

低転位であり、特に、窒化物半導体基板に内在する応力を抑制させて、反りの少ない窒化物半導体基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a practical transistor employing an oxide semiconductor in the channel layer and an organic substance as a gate insulating film, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

本発明は、酸化物半導体をチャネル層に、有機物をゲート絶縁膜として用いた構成で実用に供するトランジスタおよびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device in which increase in contact resistance of source-drain is suppressed and the difference in amount of signal for discriminating between data "0" and data "1" is increased, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ソース・ドレインの接触抵抗の増大を抑制し、データ“０”とデータ“１”とを区別する信号量の差が大きい半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for charged particle exposure along with its process for fabrication capable of forming a square, even if a pattern is micronized while an interval in arrangement of the pattern is not limited.例文帳に追加

パターンが微細化しても矩形形状を形成することができ、かつパターンの配置間隔が制約されないような荷電粒子露光用マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a crystal silicon solar cell having a reverse side insulation layer composed of an organic material by using a fabrication process which is suitable for mass production and less likely to have adverse effects.例文帳に追加

有機材料からなる裏面絶縁層を有する結晶シリコン太陽電池を、量産に適した悪影響の少ない工程により作製するための作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic memory device in which regions for regulating movement of a magnetic domain wall can be formed surely at predetermined intervals even when the width of a recording layer is narrowed, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

記録層の幅を狭くする場合であっても磁壁の移動を規制する規制領域を所定の間隔で確実に形成しうる磁気メモリ装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Saddle stitching binding printed matter to which the square back process is performed can be created using a saddle stitching binding means capable of performing the saddle stitching binding process to a printed sheet for a job to be processed and a fabrication means capable of performing the square back process to form a flat surface on the back portion of the sheet to which the saddle stitching binding process is performed.例文帳に追加

処理すべきジョブのために、印刷処理が行われたシートの中綴じ製本処理が実行可能な中綴じ製本手段と、中綴じ製本処理が行われたシートの背の部分に平坦面を形成するスクエアバック処理を実行可能な加工手段とを用いて、スクエアバック処理が行われた中綴じ製本印刷物を作成可能にする。 - 特許庁

The method for receiving production order of semiconductor wafer comprises a step for connecting the client computers of a device manufacturer and a wafer manufacturer, a step for receiving device fabrication process information through the client computer, and a step for selecting a corresponding wafer production process.例文帳に追加

およびデバイスメーカとウエーハメーカの顧客コンピュータを接続する段階と、顧客コンピュータがデバイス製造工程情報を受信する段階と、対応したウエーハ製造工程を選択する段階とから成る半導体ウエーハ製造の受注方法。 - 特許庁

A method of forming silicon(Si) target tiles in the fabrication of a silicon film for an integrated circuit(IC) deposited by sputtering comprises a process of forming silicon tiles, and a process of beveling the edges of the silicon tiles to minimize the generation of impurity particles.例文帳に追加

集積回路（ＩＣ）用のスパッタリング堆積されたシリコン膜の製造におけるシリコン（Ｓｉ）ターゲットタイルを形成する方法は、シリコンタイルを成形する工程と、不純物粒子の生成を最小にするためにシリコンタイルの辺を処理する工程とを包含する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric actuator in which uniformity of pattern dimensions by etching can be enhanced and the degree of freedom of setting conditions in etching process can be enhanced, and to provide its fabrication process, a droplet ejection head equipped with it, and a droplet ejector.例文帳に追加

エッチングによるパターン寸法の均一性を向上できるとともに、エッチングプロセスにおける条件設定の自由度を向上できる圧電アクチュエーターとその製造方法並びにそれを備えた液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置の提供を課題とする。 - 特許庁

Fabrication process of a semiconductor laser element is simplified by forming a structure for preventing intrusion of a returning light into an active layer using a substrate for growing semiconductor having a laser light absorbing power.例文帳に追加

レーザ光に対する光吸収性を持つ半導体成長用基板を用い、戻り光の活性層への侵入を防止する構造とすることで、半導体レーザ素子の製造工程を簡単化する。 - 特許庁

To provide a fabrication method of a semiconductor device in which an etching process is eliminated by removing residue of a pattern obtained from mold pressing, and even a fine pattern having a size equal to a wavelength of irradiated light or less can be formed.例文帳に追加

モールドプレスすることにより得られたパターンの残渣をなくすことでエッチング工程をなくし、照射光の波長以下の微細パターンまで形成可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device in which the fabrication process is simplified by fabricating a full depletion device and a partial depletion device separately on an SOI substrate by self alignment.例文帳に追加

同一ＳＯＩ基板上で完全空乏型デバイスと部分空乏型デバイスを自己整合的に作り分けることにより製造工程を簡略化した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor which can be fabricated easily in a simple process while suppressing the carrier mobility from lowering in the fabrication method, and to provide its fabricating method.例文帳に追加

簡易な製造方法により、容易に有機薄膜トランジスタを提供することができ、更には製造工程におけるキャリア移動度の低下を抑えた有機薄膜トランジスタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high performance semiconductor device in which variation of characteristics is suppressed and a method for fabricating the semiconductor device by a convenient high yield fabrication process.例文帳に追加

非常に高性能で特性ばらつきの少ない半導体装置およびその半導体装置を簡便で高歩留まりな製造プロセスにより作製できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light-emiting device in which an upper/lower electrode type light-emiting diode having an upper electrode and a lower electrode is mounted on a heat sink substrate with fins, and also to provide its fabrication process.例文帳に追加

本発明は、上部電極および下部電極を備えた上下電極型発光ダイオードをフィン付きヒートシンク基板に載置した発光装置および発光装置の製造方法に関するものである。 - 特許庁