「fabrication process」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a semiconductor wafer, and method and system for receiving production order of wafer in which wafers are supplied in accordance with the device fabrication process of a device manufacturer.例文帳に追加

デバイスメーカのデバイス製造工程に合ったウエーハを供給する半導体ウエーハの製造方法、ウエーハ製造の受注方法、受注システムを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which level difference is reduced between the regions where transistors having gate oxide films of different thicknesses are formed, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

膜厚の異なるゲート酸化膜を備えたトランジスタがそれぞれ形成される領域の段差が低減される半導体装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light emitting diode exhibiting excellent luminous intensity distribution characteristics such as uniform directivity, low light loss and high output while suppressing impairment with time, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

均一な指向性などの配光特性に優れ、光の損失が少なく高出力で、更に経時劣化の少ない発光ダイオード及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method in which surface roughness can be recovered easily when it is worsened by cleaning in the fabrication process of an SOI substrate.例文帳に追加

ＳＯＩ基板の製造工程において、洗浄により表面粗さが悪化した場合でも、表面粗さを容易に回復させることができる洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a high breakdown voltage system MIS element capable of coping with microfabrication of next generation, and to provide its fabrication process, and to provide an MIS high breakdown voltage transistor.例文帳に追加

次世代型の微細化に対応可能な高耐圧系のＭＩＳ型素子を有する半導体装置及びその製造方法、ＭＩＳ型高耐圧トランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for improving productivity concerning a configuration having a line-and-space pattern formed by using a sidewall fabrication process.例文帳に追加

側壁加工プロセスを用いて形成されたラインアンドスペースパターンを備える構成について、生産性の向上を可能とする、半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a contact member ensuring good conductive connection between an electronic component and a mother board even when the electronic component is shrunk, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

電子部品の微細化によっても電子部品とマザー基板間の導通接続を良好に図ることが可能な接点部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device in which the electrical characteristics of an element formed in a semiconductor chip can be varied without complicating the fabrication process.例文帳に追加

製造工程を複雑化することなく、半導体チップに形成された素子の電気的特性を変えることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a contact member ensuring good conductive connection between an electronic component and a mother board even when the electronic component is shrunk, and to its fabrication process.例文帳に追加

電子部品の微細化によっても電子部品とマザー基板間の導通接続を良好に図ることが可能な接点部材及びその製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a light emitting element in which power consumption of the light emitting element can be reduced without lowering emission intensity, and to provide its fabrication process and a GaN substrate.例文帳に追加

発光強度を低下させずに発光素子の消費電力を低減することのできる発光素子、発光素子の製造方法、およびＧａＮ基板を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of reducing the number of masks to simplify fabrication process and, at the same time, capable of enhancing an aperture ratio, and to provide a method for fabricating the liquid crystal display device.例文帳に追加

マスク数を減少させて製造工程を単純化すると共に、開口率を向上させた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cushion which physically eliminates the feel of directly or indirectly touching a bottom has soft and safe feeling, decreases process steps for fabrication, can be inexpensively fabricated and provides convenience.例文帳に追加

身体的に，直接間底付き感を無くし、ソフト感を安心感を与え、製作工程も少なくし、安価に製作し、利便性を得るクッションを提供することである - 特許庁

When a short circuit occurs between the contactors 42, 43, a positioning error or a defect is assumed on the insulating sheet 8 in the semi-fabricated product 4, and so the semi-fabricated product 4 is removed from the fabrication process.例文帳に追加

コンタクタ71，72間が短絡している場合は、半製品４の絶縁シート８の位置のずれあるいは欠品があるため、半製品４を製造工程から排除する。 - 特許庁

Evaluation information 107 can be used to evaluate how one or more processes including the particular fabrication process indicated by the performance parameter value 106 have been performed.例文帳に追加

評価情報１０７は、性能パラメータ値１０６が示した特定の製造プロセスを含む１つ以上のプロセスが実施された方法を評価するために使用することができる。 - 特許庁

To provide a high quality nonvolatile semiconductor memory device in which deterioration in erasing speed is suppressed even when the gate dimensions are shrunk, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ゲート寸法が微細化された場合においても消去速度の低下が抑制された高品質の不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide a process of fabricating rotating hardware, as an example, rotating components of a turbomachine, joining techniques used in the fabrication, and the rotating hardware formed thereby.例文帳に追加

ターボ機械の回転構成要素のような回転ハードウェアを製作する方法、その製作で使用する接合法、及びそれによって形成した回転ハードウェアを提供する。 - 特許庁

To realize a semiconductor device ensuring high reliability by sustaining a low impedance of interconnect lines even if a defect resulting from a dust occurs during fabrication process.例文帳に追加

製造工程中でゴミなどに起因する欠陥が生じても配線の低インピーダンスを維持し、高い信頼性を確保することができる半導体装置を実現する。 - 特許庁

Thus, the failure of photodiode 2, during the cutting process of the scintillator 1, is suppressed, and improvement in the yield and fabrication efficiency of radiation detector can be realized.例文帳に追加

シンチレータ１切断工程におけるフォトダイオード２の破損を抑制し、放射線検出器の歩留まり向上と加工能率の向上を実現することができる。 - 特許庁

To provide a solid state imaging device in which luminance shading is suppressed by making the sensitivity at each light receiving portion uniform in the substrate plane, and to provide its fabrication process and a camera.例文帳に追加

基板面内における各受光部の感度を均一にして、輝度シェーディングを抑制した固体撮像装置およびその製造方法、並びにカメラを提供する。 - 特許庁

To provide process testers and testing methodology for thin-film PV devices, which can provide information directly relating to fabrication processes through electrical testing.例文帳に追加

電気的テスティングを通して製造プロセスに直接関連した情報を与えることのできるような、薄膜ＰＶ装置のためのプロセステスタ及びテスティング技法を提供する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device having a capacitor which can be formed through a process shared with an interconnection while reducing the area of memory cell, and a method of fabrication.例文帳に追加

メモリセル面積の縮小が可能であり、配線と共有化されたプロセスで形成できるキャパシタを有する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of semiconductor laser element which can reduce the manufacturing dispersion in the emission angle in the horizontal direction, while restraining occurrence of stage-cut.例文帳に追加

段切れの発生を抑制しながら、水平方向の光放射角の製造ばらつきを減少させることが可能な半導体レーザ素子の形成方法を提供する。 - 特許庁

A tuning fork crystal oscillator provided with an excitation electrode 3 and a metal film 4 for regulating frequency is then fabricated in accordance with conventional fabrication process.例文帳に追加

その後、従来どおりの製造工程に従って、励振電極３と周波数調整用金属膜４が設けられた音叉型水晶振動子を製造する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory which can ensure high yield while suppressing electric resistance between a capacitor and a capacity contact plug, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

キャパシタ−容量コンタクトプラグ間の電気抵抗を小さく抑えることができ、高い歩留まりが得られる半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce production cost and stabilize quality by simplifying fabrication process in a keyboard device of a keyboard instrument with keys using a wood keyboard material.例文帳に追加

木製の鍵盤材を用いた鍵を備える鍵盤楽器の鍵盤装置において、加工工程の簡略化による製造コストの低減および品質の安定化を図ること。 - 特許庁

To provide a process for the production of a modified polycarbonate resin composition suitable as a material for optical film having excellent transparency, photo-elastic characteristics and fabrication quality.例文帳に追加

透明性、光弾性特性、二次加工性に優れた光学用フィルム材料として好適な改質ポリカーボネート系樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for the production of a modified polycarbonate resin composition suitable as a material for optical film having excellent transparency, photo-elastic characteristics and fabrication quality.例文帳に追加

透明性、光弾性特性および二次加工性に優れた光学用フィルム材料として好適な改質ポリカーボネート系樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the contact resistance is not increased even upon occurrence of misalignment between a cell contact and an active region, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

セルコンタクトのアクティブ領域に対する位置合わせにずれが生じた場合でも、コンタクト抵抗を増大させない半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic component comprising a heating resistor element operating well even with low energy in which high thermal insulation is attained without requiring an intricate fabrication process.例文帳に追加

複雑な製造工程を必要とすることもなく、高い断熱性が得られ、低エネルギでも良好に動作する発熱抵抗素子から成る電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide an image sensor in which the interface between the active region and the field region of the image sensor is not damaged by ion implantation, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

イメージセンサのアクティブ領域とフィールド領域との境界面がイオン注入によって損傷することないイメージセンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Since formation of the dummy gate electrode 13 can be executed, in combination with ordinary formation of the gate electrode of a transistor, and no fabrication process needs to be added newly.例文帳に追加

また、ダミーゲート電極１３の形成は、通常のトランジスタのゲート電極の形成と併せて実行可能なので、新規の製造工程を追加する必要はない。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer in which a plurality of alignment marks or inspection marks can be arranged more densely than before, and to provide a semiconductor device and its fabrication process.例文帳に追加

複数のアライメントマーク又は検査マークを従来よりも密に配列することができる導体ウエハ、半導体装置、及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce damage on a semiconductor layer due to irradiation with an electron beam for forming a low resistance p-type layer in the fabrication process of a III nitride based compound semiconductor element.例文帳に追加

III族窒化物系化合物半導体素子の製造過程において低抵抗p型化する際の電子線照射によって半導体層が受けるダメージを低減する。 - 特許庁

The Minister shall determine the time limit within which such fabrication must be achieved, whereby such application shall make full use of any process claimed in the patent. 例文帳に追加

大臣は，当該ライセンス請求が特許で請求されている方法を十分に使用するようにするため，当該生産を達成すべき期間を定めるものとする。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which formation of a recess in the periphery of the surface of an isolation film buried in a semiconductor substrate is controlled.例文帳に追加

半導体基板に埋め込まれた素子分離膜の表面周辺部に、窪みが形成されることを抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the fabrication process, the RIE stopper layers 36 and 42 function as a stopper when a layer formed on the RIE stopper layers 36 and 42 is removed by RIE.例文帳に追加

ＲＩＥストッパ層３６，４２は製造過程において、ＲＩＥストッパ層３６，４２上に形成されていた層を、ＲＩＥにて除去するときのストッパとして機能している。 - 特許庁

To provide a versatile semiconductor device of low-cost along with its process for fabrication, as well as, a semiconductor device of improved yield and method for manufacturing thereof.例文帳に追加

低コスト且つ汎用性の高い半導体装置及びその作製方法、及び、歩留まりを向上した半導体装置及びその作製方法、を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a storage element arranged to read/write information easily and stably, and to be fabricated easily by a relatively simple fabrication process.例文帳に追加

情報の記録及び読み出しを容易に安定して行うことができ、比較的簡単な製造方法で容易に製造することができる構成の記憶素子を提供する。 - 特許庁

The bit line layer comprises the plurality of the bit lines that can be formed using a high-level process technology, thereby making the fabrication of the device efficient and cost effective.例文帳に追加

ビット線層は、高度なプロセス技術を使用して形成することができる複数のビット線を含み、装置の製造を効率的かつ費用効率の高いものとしている。 - 特許庁

To provide a light emitting device exhibiting excellent heat dissipation effect and high reliability as a product while simplifying the fabrication process and reducing the cost.例文帳に追加

本発明は放熱効果に優れ、製品としての信頼度も高く、同時に製造工程が簡潔でコストを低く抑える発光装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a fabrication method for growing a large amount of metallic nanowires on a substrate without carrying out a lithography process.例文帳に追加

本発明は、金属ナノ線を、リソグラフィー工程を行うことなく、工程中に基板上に多量に成長させ得る金属ナノ線の製造方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

The L-Ox film 203 has a stabilized film thickness and film characteristics because it has a ladder hydrogenated siloxane structure, and the film quality does not change during the fabrication process.例文帳に追加

Ｌ−Ｏｘ膜２０３は梯子型水素化シロキサン構造を有するため膜厚や膜特性が安定であり、製造プロセス中に膜質が変化することが少ない。 - 特許庁

To provide a novel method for forming a bipolar charge transport layer, and to provide an organic semiconductor structure having a charge transport layer and its fabrication process.例文帳に追加

両極性を有する電荷輸送層の新たな形成方法並びに電荷輸送層を備えた有機半導体構造物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Another embodiment is a method and a system for generating a simulation data store using a signal off a test grating that models the effect of the IC design and/or the fabrication process.例文帳に追加

別の実施例は、ＩＣデザイン及び／または製作プロセスの影響をモデル化するテスト格子を離れた信号を使用した、シミュレーションデータストアの生成法とシステムである。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of avoiding deterioration in interface characteristics while sustaining the dielectric constant of a gate insulating film, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

本発明は、ゲート絶縁膜の誘電率を維持しつつ、界面特性の劣化を回避することができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁