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fabrication processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 777件
To provide a method for nano-patterning by incorporating one or more block copolymers and one or more nano-imprinting steps in a fabrication process.例文帳に追加
1つ以上のブロック共重合体および1つ以上のナノインプリントステップを製造プロセスに組込むことによってナノパターン化するための方法を提供する。 - 特許庁
The method for forming an object (201) by solid freeform fabrication includes a process of making two immiscible fluids attach to a composing material of the object.例文帳に追加
立体自由造形によって物体(201)を形成する方法は、物体の構成材料に2つの混和しない流体を付着させる工程を含む。 - 特許庁
To provide a fabrication process of a fluorescent lamp, by which even curved surface and uniform thickness distribution can be achieved at the seated ends to improve strength.例文帳に追加
閉塞端面の肉厚において、一層均一な曲面と均一な肉厚分布を得て、強度を向上することのできる蛍光ランプの製造方法を得る。 - 特許庁
To provide an electrostatic surge protection circuit, a DC-DC converter control circuit, and a DC-DC converter which can be mixedly loaded in a micro-fabrication process of a CMOS at high breakdown strength.例文帳に追加
CMOSの微細プロセスに混載可能な高耐圧の静電サージ保護回路、DC−DCコンバータ制御回路及びDC−DCコンバータを提供する。 - 特許庁
To provide an optical element comprising a surface emission semiconductor laser having a plurality of desired number of insulation layers and a photodetector element, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
所望の複数の絶縁層を有する、面発光型半導体レーザと光検出素子とを含む光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To enhance reliability for environmental variation such as humidity, temperature, or the like, with regard to an optical element and its fabrication process.例文帳に追加
本発明の目的の1つは、光素子及びその製造方法に関して、湿度及び温度等の環境変化等に対する信頼性の向上を図ることにある。 - 特許庁
To provide a solid state image sensor in which multi-pixel and a large screen can be realized by reducing propagation delay, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
伝播遅延を低減することにより、多画素化や大画面化を図ることができる固体撮像素子及び固体撮像素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electronic device, and its manufacturing method, in which a cap body for sustaining vacuum is provided for each cell utilizing an existing fabrication process of electronic device.例文帳に追加
既存の電子デバイスの製造プロセスを利用して、真空保持用キャップ体をセルごとに設けた電子デバイス,その製造方法などを提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor light-emitting element which can achieve excellent emission efficiency by controlling thermal damage to an active layer, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
活性層の熱ダメージを抑制することにより、優れた発光効率を実現することができる半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which transistor characteristics can be enhanced by suppressing generation of junction leakage current, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
本発明は、接合リーク電流の発生を抑制し、トランジスタ特性を向上させることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a solid state imaging device in which photoelectric conversion efficiency of a unit pixel is enhanced while improving the characteristics of flake, and the like, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
単位画素の光電変換効率を向上させ、かつ白点等の特性改善を可能にした固体撮像装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The evaluation information may be used to evaluate how one or more processes including the particular fabrication process indicated by the performance parameter value has been performed.例文帳に追加
評価情報は、性能パラメータ値が示した特定の製造プロセスを含む1つ以上のプロセスが実施された方法を評価するために使用することができる。 - 特許庁
To provide an ink for forming a hole injection transport layer with which a device having a long lifetime can be achieved using a simple fabrication process.例文帳に追加
製造プロセスが容易でありながら、長寿命を達成可能なデバイスを提供可能な、正孔注入輸送層形成用インクを提供する。 - 特許庁
Hydrofluoric acid obtained from the gaseous hydrogen fluoride can be reutilized as the one for cleaning, e.g. in a semiconductor fabrication process as the source of producing a waste liquid.例文帳に追加
フッ化水素ガスから得られるフッ化水素酸を前記、排液発生源の半導体製造工程等の洗浄用としての再利用を可能とする。 - 特許庁
The fabrication process for the charge trapping high-k gate dielectric of the present invention is also applicable to a bulk device, a TFT device or an SOI device.例文帳に追加
本発明の電荷トラッピングhigh−kゲート誘電体にかかる製造プロセスは、バルク装置、TFT装置またはSOI装置にも適用され得る。 - 特許庁
To provide a method for forming a semiconductor thin film independently with high throughput while simplifying the fabrication process.例文帳に追加
製造工程の簡略化が図られ高いスループットで独立した半導体薄膜を形成することが可能な半導体薄膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁
The smoothing process may comprise a post-deposition atomic smoothing step (e.g., an assist smoothing step) in a multilayer fabrication procedure.例文帳に追加
平滑化プロセスには、多層体形成法における堆積後の原子スケールでの平滑化工程(例えば平滑化支援工程)も含まれるようにしてもよい。 - 特許庁
The metal patterns 54a-n becoming micro spring inner wiring and the sensor 53 are integrated on the substrate using a compatible fabrication process.例文帳に追加
このようにマイクロスプリング内部配線となるメタルパターン54a〜nとセンサ53とが両立性を有する製造プロセスを用いて基板上に集積される。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which a single crystal thin film composed of a GaN based compound having high crystal quality can be formed, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
結晶品質の高いGaN系化合物からなる単結晶薄膜を形成することができる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
Consequently, thermal activation can be utilized in place of high cost laser annealing for impurity implantation and activation in the fabrication process of a polysilicon type thin film transistor.例文帳に追加
従って、ポリシリコン型薄膜トランジスタの製造工程で不純物注入活性化に高コストのレーザーアニーリングの代わりに熱活性化を利用できる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device capable of protecting the sidewall of an opening in a low dielectric constant film after etching, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
エッチング後の低誘電率膜の開口の側壁を保護することができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
Furthermore, fabrication process can be reduced by simultaneous calcination of the pastes for the transparent dielectric layer, the black stripe layer, and the color filter layer.例文帳に追加
さらに、透明誘電体層用ペースト、ブラックストライプ層用ペースト及びカラーフィルタ層用ペーストを同時に焼成することにより、工程を削減できる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an inexpensive and reliable substrate with a penetration electrode for ink jet heads which can manufacture the substrate without an advanced fabrication process.例文帳に追加
高度な製造プロセスを使用することなく製造でき、安価で信頼性が高いインクジェットヘッド用貫通電極付き基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a magnetic detection element which can reduce variation in distance between shields as compared with prior art, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
特に、従来に比べて、シールド間距離のばらつきを小さくすることが可能な磁気検出素子及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a laminate type ceramic electronic component in which the conductive paste used to form side electrodes is not easily peeled off during a fabrication process.例文帳に追加
側面電極を形成するための導電性ペーストが加工中に剥離しにくい積層型セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a fabrication method of a microstructured element which is small in comparison with a process precision limit of lithography technique, and which enables production of beam maintaining high crystallinity.例文帳に追加
リソグラフィー技術の加工精度限界に比べて小さく、かつ、高い結晶性を維持した梁を作製できる、微細構造素子の作製方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical element comprising a surface emission semiconductor laser and a photodetector element which can be machined with high precision, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
高い精度で加工することが可能な、面発光型半導体レーザと光検出素子とを含む光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electrical circuit substrate which comes to form a conducting area easily without changing the front surface of the electrical circuit substrate, and to provide its process for fabrication.例文帳に追加
電気回路基板の表面を変形させることなく、容易に導通領域を形成してなる電気回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To simplify a fabrication process of a spectroscope, to reduce noise accompanying rotation of a color wheel and to improve spectroscopic performance and a utilization factor of illumination of the device.例文帳に追加
分光装置の加工工程の簡素化、カラーホイールの回転時の騒音低下、装置の分光性能及び照明利用率の向上を図ること。 - 特許庁
To improve various properties such as strength, specific gravity, surface roughness and the like for a product by the fabricating process of a solid freeform and to improve a fabrication time, man-hours and the like.例文帳に追加
自由形状立体製作プロセスを経て得られる製品の強度、比重、表面の粗さ等の諸特性、製作に要する時間、工数等を改善する。 - 特許庁
To obtain such a reference layer as withstanding a fabrication process and exhibiting high coercivity and heat resistance with thin film thickness in a magnetic memory element using vertical magnetization.例文帳に追加
垂直磁化を用いた磁気メモリ素子において、作製プロセスに耐え、薄い膜厚で大きな保磁力と高い耐熱性を有する参照層を実現する。 - 特許庁
To provide a piezoelectric vibrator in which blockage factors of vibration can be removed by suppressing increase in CI value as a quartz vibrator, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
水晶振動子としてのCI値の上昇を抑え、振動の阻害要因を除去することのできる圧電振動子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device capable of reducing a thermal load on an epitaxial crystal layer in a fabrication process, and a method of fabricating the semiconductor device.例文帳に追加
製造工程におけるエピタキシャル結晶層への熱的負荷を低減することのできる半導体装置、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
EXPOSURE METHOD FOR CORRECTING LINE WIDTH VARIATION OCCURRING DURING DEVELOPMENT PROCESS IN FABRICATION OF PHOTOMASK, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM RECORDED WITH PROGRAM THEREFOR例文帳に追加
フォトマスク製造時に現像段階で生じる線幅変化を補正して露光する方法及びそのためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁
To provide a process for fabrication of a solid electrolytic capacitor element of good leakage current characteristics, good tanδ and ESR characteristics, and high electrostatic capacitance.例文帳に追加
漏れ電流特性が良く、tanδ・ESR特性の良い、高い静電容量を有する固体電解コンデンサ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a vertical structure III nitride light emitting element having improved external photon efficiency and operational voltage characteristics, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
改善された外部光子効率と動作電圧特性を有する垂直構造3族窒化物発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a fabrication process of a semiconductor device in which removal of a cap layer on an electrode layer and planarization of an interlayer film can be carried out simultaneously.例文帳に追加
電極層上のキャップ層の除去と、層間膜の平坦化を同時に行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a fabrication technology of a semiconductor device in which a semiconductor device having a channel length of submicron order can be fabricated by a simple process at low cost.例文帳に追加
低コストかつ簡易な工程でサブミクロンオーダのチャネル長を有する半導体装置を製造することができる半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁
Device fabrication steps are compatible with standard CMOS flow and process modules can be added or removed from baseline CMOS technology.例文帳に追加
デバイス製造工程は、標準CMOSフローと互換性を持ち、基本的なCMOS技術からプロセスモジュールを加えるかあるいは除くことができる。 - 特許庁
To obtain a semiconductor device in which heat resistance is enhanced by suppressing nickel silicide aggregation reaction in a nickel silicide (NiSi) region, and to obtain its fabrication process.例文帳に追加
ニッケルシリサイド(NiSi)領域でのニッケルシリサイド凝集反応を抑制し、耐熱性を向上させた半導体装置及びその製造方法を実現する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which a transistor of trench gate structure and Schottky barrier diode can be mounted mixedly, inexpensively, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
トレンチゲート構造のトランジスタと、ショットキーバリアダイオードとを、低コストで混載させることのできる半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To protect a semiconductor element under fabrication against impact of auto-doping from a scribe line portion in the process for fabricating a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造方法において、スクライブライン部分からのオートドーピングの影響が形成中の半導体素子に及び難いようにすることを課題とする。 - 特許庁
COMPOSITE SENSOR ASSEMBLY FOR USED WITH POLYMER BIOPROCESS VESSEL, COMPOSITE ASSEMBLY FOR USED WITH POLYMERIC BIOPROCESS VESSEL, AND PROCESS FOR FABRICATION OF SENSOR OR COMPOSITE ASSEMBLY例文帳に追加
ポリマーバイオプロセス容器とともに用いる複合センサアセンブリ、ポリマーバイオプロセス容器とともに用いる複合アセンブリ、およびセンサまたは複合アセンブリの製造プロセス - 特許庁
A stress occurring in the fabrication process or at the time of bonding is dispersed by the irregularities on the surface at the pad part 17 and the stress being applied to an active element is relaxed.例文帳に追加
パット部17の表面凹凸により製造工程やボンディング時に生じる応力が分散され、能動素子への応力が緩和する構造にした。 - 特許庁
To provide a tunable capacitor using an electrowetting phenomenon, which facilitates a fabrication process, provides good reliability and durability, and has no limitation on a tuning range.例文帳に追加
製造工程が容易になり、また、信頼性及び耐久性に優れ、チューニング範囲に制限のない電気湿潤現象を用いた可変キャパシタを提供する。 - 特許庁
To provide a process management system capable of identifying each component and tracing a process until completion of predetermined products in a work process where workers intervene in fabrication of the products consisting of a plurality of components or various products.例文帳に追加
複数の部品からなる製品や多品種の製品を作業者が介在して組み立てる作業工程において、各部品を判別し、所定の製品として完成するまでの過程をトレースできるような工程管理システムを提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a three-dimensional photo-fabrication device, in which a laser torch for photo fabrication and a cutting main axis for cutting and shaping are installed in one working head, and which makes an aimed product in one process, with a low cost and short working hours.例文帳に追加
1個の加工ヘッドに光造形用のレ−ザ−ト−チと切削整形用の切削主軸を設置し、所要の造形物を1工程で完成させるコスト低下及び作業時間の短縮する3次元光造形装置を提供する。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a CMOS image sensor capable of attaining an implantation profile ensuring good characteristics in an intrinsic NMOS transistor while reducing the cost by simplifying a fabrication process of photodiode.例文帳に追加
フォトダイオード形成工程を単純化してコスト低減させ、固有NMOSトランジスタにおいて良好な特性を確保し得る注入プロファイルを得ることができるCMOSイメージセンサの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To simplify the fabrication process of a constriction type LED by decreasing the number of times of epitaxial growth process, and to prevent overetching of an underlying layer at the time of removing the constriction layer partially by etching.例文帳に追加
狭窄型LEDにおいて、エピタキシャル成長工程の回数を減らして製造プロセスを簡単化するとともに、狭窄層を部分的にエッチング除去する際に、その下層に対するオーバーエッチングを有効に防止する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device capable of reducing the number of masks to simplify fabrication process and, at the same time, capable of increasing capacitance of a storage capacitor without adding a mask process, and to provide a method for fabricating the liquid crystal display device.例文帳に追加
マスク数を減少させて製造工程を単純化すると共に、マスク工程を追加することなくストレージキャパシタの容量を増加させた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
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