「fabrication processes」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide improved back side contact solar cell structures and fabrication processes.例文帳に追加

裏面電極型太陽電池の構造及び製造プロセスを改善する。 - 特許庁

To prevent an electrode open defect by reducing fabrication unit costs by simplifying fabrication processes of an array substrate.例文帳に追加

アレイ基板の製造工程を単純化して製造単価を節減して、画素電極オープン不良を防止する。 - 特許庁

To provide cost-effective semiconductor device packaging fabrication processes that overcome one or more disadvantages associated with current POL processes.例文帳に追加

現在のＰＯＬプロセスと関連する１つまたは複数の欠点を克服するコスト効率の良い半導体デバイスパッケージング製作プロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a contactless record carrier which does not require fabrication of a barcode and a tag by separate processes.例文帳に追加

バーコードとタグを個別の工程で作製する必要がない非接触型の記録担体を提供する。 - 特許庁

Data collected via the PDVs can be used to tune or optimize subsequent PV cell fabrication, i.e., used as feedback for the fabrication processes.例文帳に追加

ＰＤＶを経て収集されたデータは、その後のＰＶセル製造を同調又は最適化するように使用でき、即ち製造プロセスに対するフィードバックとして使用できる。 - 特許庁

To provide a packaging substrate and the fabrication method thereof that avoid waste of resources and simplify processes, and to provide the base material thereof.例文帳に追加

資源の無駄を省き、プロセスを簡略化できるパッケージ基板及びその製造方法、並びにその基材を提供する。 - 特許庁

Further, additional processes and a novel poling setup for improving and implementing the patterning and fabrication method are also disclosed.例文帳に追加

更に、本パターン化−製造方法を改良し実施するための追加のプロセス及び新規なポーリングセットアップを開示する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which has improved yield by suppressing the number of fabrication processes small while limiting incident light from a side surface.例文帳に追加

側面からの入射光を制限しつつ製造工程数を抑えその収率を向上させ得る半導体装置を提供する。 - 特許庁

The system may be formed in a small package using, by way of example, CMOS or other semiconductor fabrication and packaging processes.例文帳に追加

このシステムは、たとえば、ＣＭＯＳまたは他の半導体組み立ておよびパッケージングプロセスを用いて、小型パッケージとして形成可能である。 - 特許庁

To provide a fabrication method of a thin film transistor for use in a flat panel display device the processes of which can be simplified by decreasing number of masks.例文帳に追加

本発明は、マスク数を減らして工程を単純化し得るフラットパネルディスプレイに使用される薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve use efficiency of one semiconductor substrate without lowering efficiency of other fabrication processes, or to achieve cost reduction by effective use of a semiconductor substrate whose thickness is reduced due to repeated use in a process of manufacturing an SOI substrate.例文帳に追加

他のプロセスの効率を低下させることなく、１枚の半導体基板の使用効率を高めることを課題の一としている。 - 特許庁

The evaluation information may be used to evaluate how one or more processes including the particular fabrication process indicated by the performance parameter value has been performed.例文帳に追加

評価情報は、性能パラメータ値が示した特定の製造プロセスを含む１つ以上のプロセスが実施された方法を評価するために使用することができる。 - 特許庁

To provide a pipe joint which dispenses with fabrication of a lot of expensive molding dies to be advantageous in cost, and is easily assembled in simple processes.例文帳に追加

高価な成形型を多数作製する必要がなく、コスト面で有利であり、且つ簡便な工程で容易に組み立てることができる管継手を提供する。 - 特許庁

To provide branched braided stent or graft devices and processes for fabrication of the devices, capable of having coverage for uniform properties with no gap.例文帳に追加

間隙のない均一な被覆を可能にする分枝付き編組ステント装置又は分枝付き編組人工血管装置とその製造方法を開示する。 - 特許庁

Following the outsourcing of service sectors traditionally internalized by manufacturers, the manufacturing industry is now beginning to outsource even its assembly and fabrication processes.例文帳に追加

従来製造業において内製化されていたサービス部門のアウトソーシングが進む一方で、製造業における組立・加工工程をアウトソーシングするケースも見られる。 - 経済産業省

Herewith, fabrication of the silicon mask 11M to the glass substrate 12 is facilitated, fabrication processes can be simplified because bonding work after forming the mask is dispensable and thereby workability can be improved.例文帳に追加

これにより、ガラス基板１２に対するシリコンマスク１１Ｍの作製を容易に行うことができるとともに、マスク形成後の接合作業を廃止できるので加工プロセスを簡素化でき、作業性の向上を図ることが可能となる。 - 特許庁

Herewith, fabrication of the silicon mask 11M to the glass substrate 12 is facilitated, fabrication processes can be simplified because bonding work after forming the mask is dispensable and thereby workability can be improved.例文帳に追加

これにより、ガラス基板１２に対するシリコンマスク１１Ｍの作製を容易に行うことができるとともに、マスク形成後の接合作業を廃止できるので加工プロセスを簡素化でき、作業性の向上を図ることが可能となる。 - 特許庁

To achieve a space-saving of an accommodation case for a concrete specimen fabrication form, a facilitation in preparation and post-form handling works, and a simplification of laitance elimination and capping processes.例文帳に追加

コンクリート供試体製造用型枠の収納スペースの省スペース化、準備作業及び成形後の処理作業の簡易化、レイタンス除去処理とキャッピング処理の簡易化 - 特許庁

Evaluation information 107 can be used to evaluate how one or more processes including the particular fabrication process indicated by the performance parameter value 106 have been performed.例文帳に追加

評価情報１０７は、性能パラメータ値１０６が示した特定の製造プロセスを含む１つ以上のプロセスが実施された方法を評価するために使用することができる。 - 特許庁

To provide process testers and testing methodology for thin-film PV devices, which can provide information directly relating to fabrication processes through electrical testing.例文帳に追加

電気的テスティングを通して製造プロセスに直接関連した情報を与えることのできるような、薄膜ＰＶ装置のためのプロセステスタ及びテスティング技法を提供する。 - 特許庁

Various embodiments described include optical fiber designs and fabrication processes for ultra high numerical aperture optical fibers (UHNAF) having a numerical aperture (NA) of about 1.例文帳に追加

記載された様々な実施形態は、約１の開口数（ＮＡ）を有する超高開口数光ファイバ（ＵＨＮＡＦ）のための光ファイバ設計および製造プロセスを含む。 - 特許庁

To prevent defects at respective fabrication processes, to increase production efficiency, to compactify and to decrease the manufacturing costs, facility costs and secondary battery volume.例文帳に追加

各加工工程における不良品の発生防止、生産効率の向上、コンパクト化を図ると共に製造コストおよび装置コストならびに二次電池容積の減少を可能にすることである。 - 特許庁

To provide a method of inexpensively fabricating a grayscale reticle for use in microlens fabrication processes, the reticle capable of accurately controlling exposure of a photoresist having a near 100% fill factor.例文帳に追加

フォトレジスト露光の正確な制御が可能であり、フィルファクターが１００％に近い、マイクロレンズ製造プロセスで用いられるグレースケールレチクルを低コストで製造する方法を実現する。 - 特許庁

To provide a resin sealed semiconductor device in which variation in the characteristics of an IC chip due to a stress from a filler can be suppressed without lowering the package performance or without increasing the fabrication processes of a chip.例文帳に追加

パッケージ性能が低下したり、チップの製造工程を増加させることなく、フィラーからの応力によるＩＣチップの特性変動を抑制できる樹脂封止型半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor and a method for fabricating the same in which the fabrication costs are reduced by reducing the number of photolithographic processes, and yield is improved by obviating an alignment problem between color filter layers and microlenses.例文帳に追加

カラーフィルター層とマイクロレンズの間の整列問題を解決して、収率を向上させると同時に、フォト工程を短縮して原価を減らすようにしたＣＭＯＳイメージセンサ、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

During fabrication of the bolt, the degree of threading is adjusted to deal with members having varying thicknesses of the tightened parts, thereby eliminating the need for extra members and processes.例文帳に追加

またボルトの製作時において、ねじ切り時にねじ山の螺刻の度合いを調節することで種々の締結部の厚さを有する部材に対応可能であることから、余分な部材や工程を必要とすることがない。 - 特許庁

To provide a multi-domain liquid crystal display device having high contrast and excellent in a visual angle characteristic, without increasing complex processes such as micro-fabrication process of a common electrode, and requiring a high degree of sticking technology.例文帳に追加

共通電極の微細加工工程等の煩雑な工程を増加させたり、高度な貼り合わせ技術を要求することなく、高コントラストで、視角特性の優れたマルチドメイン液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a master mold useful for forming a fine structure without the need of complicated fabrication processes or skill in manufacturing, capable of shortening manufacturing processes, and capable of easily forming a complicated fine structure pattern of a projection part or the like of a material excellent in durability.例文帳に追加

微細構造体の成形型を製造するのに有用で、製造に煩雑な加工工程や熟練が必要とされることがなく、製造工程を短縮することができ、しかも凸部等の複雑な微細構造パターンを耐久性にすぐれた材料から容易に製造することができる母型を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern for stably forming an accurate fine pattern to be used in semiconductor manufacturing process such as IC or the like, manufacturing of a circuit board for a liquid crystal, thermal head or the like, and other photo fabrication processes.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

By using a single layer (22) as the charge trapping gate dielectric, a simple and inexpensive solution is presented that permits device scaling to very small dimensions, together with the ease of device fabrication processes.例文帳に追加

電荷トラッピングゲート電極として単層（２２）を用いることにより、本発明は、装置の容易な製造プロセスを提供するとともに、装置が極小寸法にスケーリングすることを可能にする単純で安価な解決策を提供する。 - 特許庁

To develop a waste gas treatment tower of a waste gas treatment apparatus capable of not only thermally decomposing CF_4 but also reliably thermally decomposing any semiconductor waste gas generated in semiconductor fabrication processes and a waste gas treatment apparatus comprising the waste gas treatment tower.例文帳に追加

ＣＦ_4の熱分解は勿論、半導体プロセスで発生するあらゆる半導体排ガスを確実に熱分解することができる排ガス処理装置の排ガス処理塔および該排ガス処理塔を装備した排ガス処理装置を開発するにある。 - 特許庁

Alternatively, the data collected via the PDVs can be fed forward in the fabrication processes, so that later process steps performed on a PV cell substrate can be modified to compensate for issues detected on the PV cell substrate via the PDVs.例文帳に追加

或いは又、ＰＤＶを経て収集されたデータは、製造プロセスにおいてフィードフォワードされ、ＰＶセル基板上でその後に遂行されるプロセスステップを、ＰＤＶを経てＰＶセル基板上で検出された問題を補償するように、変更することができる。 - 特許庁

The system is produced and operated which allows users to freely design apparel accessories on personal computers by using two-dimensional development views and three-dimensional models and automatically generates order documents to fabrication sites and riches and refines a database in these processes by a learning function.例文帳に追加

衣料装飾品をパーソナルコンピューター上で２次元の展開図および３次元モデルを用いて自由にデザインし、製作現場へ発注書類を自動生成し、その過程で学習機能によりデータベースをより充実・洗練させるシステムを制作・運営する。 - 特許庁

To supply power to a driving means necessary for driving it while using low voltage as a power source to a control means for making it meet low current consumption and lowering of the breakdown voltage accompanying micro fabrication of semiconductor manufacturing processes.例文帳に追加

制御手段を低消費電流および半導体製造プロセスの微細化に伴う耐圧の低下に対応させるために該制御手段に対しては電源として低い電圧を用いながらも、駆動手段に対してはその駆動に必要な電源を供給する。 - 特許庁

To obtain a fabrication method of Bi-CMOS semiconductor device in which ion implantation conditions can be set independently for the emitter region of a vertical PNP bipolar transistor and the source-drain region of a PMOS transistor without requiring additional photoresist processes.例文帳に追加

Ｂｉ−ＣＭＯＳ半導体装置の製造方法において、フォトレジスト工程を追加することなく、縦型ＰＮＰ型バイポーラトランジスタのエミッタ領域とＰＭＯＳトランジスタのソース／ドレイン領域とのイオン注入条件をそれぞれ独立に設定することができるようにする。 - 特許庁

As a result, radio frequency devices, such as radios, cellular telephones and transceivers such as Bluetooth transceivers, logic devices and Flash and SRAM memory devices may all be formed in the same integrated circuit die using CMOS fabrication processes.例文帳に追加

結果として、ラジオなどの無線周波数のデバイスと、ブルートゥース規格のトランシーバなどの携帯電話及びトランシーバと、論理デバイスと、フラッシュメモリ素子及びＳＲＡＭメモリ素子とを、ＣＭＯＳ製造プロセスを用いて、同じ集積回路のダイの中に全て形成することができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used for fabrication processes of semiconductors such as ICs, for manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and other photofabrication processes, the composition being excellent in the dependency on a pattern density, line edge roughness and a pattern profile and improved in the sensitivity in exposure to EUV light and a dissolution contrast; and to provide a pattern forming method using the photosensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide positive resist composition and a pattern forming method using it capable of preferably using super-micro lithographic processes or the other photo-fabrication process, such as manufacturing a VLSI or a micro chip of large capacity etc., with a wide latitude for exposure, and excellent in uniformity of line width.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent occurrence of arcing during crystallization, to efficiently conduct heat to perform crystallization, to simplify processes and to improve yield by bringing a metal film into direct contact with a semiconductor layer, in fabrication of a thin film transistor and an organic electroluminescent display including the same.例文帳に追加

薄膜トランジスタ及びそれを含む有機電界発光表示装置の製造において、金属膜を半導体層に直接接触させて結晶化時にアーク発生を防止し、熱伝導を効率的に行い結晶化させるとともに、工程を単純化させて収率を高くする。 - 特許庁

Depth of accumulation of technology refers to the specialization of enterprises in manufacturing and fabrication processes, enabling enterprises to respond flexibly to the times, such as by diversifying their products and moving upmarket, and the accumulation of human resources with specialist skills inside and outside the company, providing easier access to skilled labor.例文帳に追加

技術蓄積の深さとは、製造工程・制作工程において、各企業が専業化・特化することにより、製品の多様化・高級化など、時代に即した柔軟な対応が可能となることや、専門的技術を有する人材が社内外に蓄積され、優秀な労働力の確保が容易になることである。 - 経済産業省

A sensor STJ device 1 and a superconducting coil 8 used for applying an external magnetic field necessary for restraining Josephson current to the sensor STJ device 1 or a spiral shape superconducting inductance wire or a superconducting ground plate and a STJ device circuit that processes the measurement output of the sensor STJ device are integrated and formed on the same chip through a micro-fabrication technique.例文帳に追加

センサ用STJ素子と、センサ用STJ素子にジョセフソン電流抑制に必要な外部磁場を印加するための超伝導コイル若しくはスパイラル形状の超伝導インダクタンス線若しくは超伝導グランドプレート及びセンサ用STJ素子の計測出力を処理するSTJ素子回路をマイクロファブリケーション技術を用いて同一チップ上に集積、作製する。 - 特許庁

To provide a sensitive composition by which roughness is reduced and outgas is suppressed, a compound used for the sensitive composition, and a pattern forming method using the composition, while the sensitive composition is used for a semiconductor manufacturing process of an IC or the like, manufacture of a liquid crystal, a thermal head or the like, and other fabrication processes, and a pattern forming method using the sensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラフネスが低減し、アウトガスが抑制された感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁