「ion track」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Both side faces of the 2nd pole part 220 are then subjected to ion milling to obtain a track width W21 smaller than the track width W20 by photolithography.例文帳に追加

次に、第２のポール部２２０の両側面に対し、イオンミリングを施して、フォトリソグラフィによるトラック幅Ｗ２０から更に縮小されたトラック幅Ｗ２１を得る。 - 特許庁

To provide an ion analyzer, different from a conventional ion analyzer that uses a solid track detecting element, eliminating the need for preprocesings, and that enables high-speed reading.例文帳に追加

従来の固体飛跡検出素子を使用するイオン分析装置と異なりその前処理が不要で、しかも高速読み取りができるイオン分析装置を提供することにある。 - 特許庁

Thereby, the target ion alone is left on the track with a high mass resolution, and a higher performance is realized with a function virtually equal to ion trapping.例文帳に追加

それによって高い質量分解能で以て目的イオンのみを軌道Ｐ上に残し、実質的にイオントラップと同様の機能で且つより一層高い性能を実現する。 - 特許庁

A detector 5 of an ion-nondestructive type is set on a go-around track A of ion, times of flight are measured for each round until the ion as an object for analysis goes around for N times, and time-of-flight spectra are made where a peak at each going around shows itself.例文帳に追加

イオンの周回軌道Ａ上にイオン非破壊型の検出器５を設け、分析対象のイオンがＮ回周回するまでの周回毎に飛行時間を測定し、周回毎のピークが現れる飛行時間スペクトルを作成する。 - 特許庁

The spin torque generator having a self-matching structure may be formed using the same ion milling process for demarcating the track width.例文帳に追加

トラック幅を画定する同じイオンミリング工程を用いて、自己整合構造を有するスピントルク発振器を形成してもよい。 - 特許庁

Between the electric fields E_3 and E_4, deflection electric fields E_i and E_i' for shifting the ion track in parallel with the axial direction of the cylindrical electric fields are disposed.例文帳に追加

電場Ｅ３とＥ４の間には、イオン軌道を円筒電場の軸方向に平行にずらすための偏向電場Ｅｉ，Ｅｉ’が配置されている。 - 特許庁

A boundary condition is set on the basis of data of an ion track or the like (step S11), and a model expression is used to calculate voltage pulse width of an error signal (step S12).例文帳に追加

イオンの飛跡等のデータに基づいて、境界条件を設定し（ステップＳ１１）、モデル式を使用してエラー信号の電圧パルス幅を計算する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

To solve the problems of both the correction of track disturbance of circulating ion beam in an accelerator and the improvement in cooling of an electron beam cooling device.例文帳に追加

加速器における周回イオンビームの軌道擾乱の補正と、電子ビーム冷却装置の冷却性能向上の両方の課題を解決することが要望されている。 - 特許庁

Then, the frame is removed and, further, the unnecessary part of the substrate film 21 other than a part present blow the track width defining layer 12a is removed by using dry etching such as ion milling.例文帳に追加

次に、フレームを除去し、更に、下地膜２１のうち、トラック幅規定層１２ａの下に存在する部分以外の不要な部分をイオンミリング等のドライエッチングを用いて除去する。 - 特許庁

Thereby, when an unnecessary ion beam 11B is collided to a vertical wall surface 30 of a constitution particle of a wall surface generated accompanying with this is deposited on a surface of the protection plate 27 without flying toward the track of an ion beam 11A selected.例文帳に追加

これにより、不要なイオンビーム１１Ｂが突出壁部２８の垂直壁面３０に衝突したとき、これに伴って発生する壁面の構成粒子などの不純物３２が、選択したイオンビーム１１Ａの軌道に向かって飛来することなく保護板２７の表面に堆積する。 - 特許庁

A recess part 9 is formed by a focused ion beam working to decide the lengths of both layers 6 and 8 to be set in the track width direction on a surface opposite to a magnetic recording medium.例文帳に追加

また、磁気記録媒体対向面における第一の磁極層６及び第二の磁極層８のトラック幅方向の長さを決める凹部９が、集束イオンビーム加工により形成されている。 - 特許庁

The cyclotron comprises a spiral inflector 21 which passes a beam made incident from an ion source to introduce the beam into an acceleration track T, and the spiral inflector 21 has a positive electrode 23 and a negative electrode 27 whose gap is made irregular in a cross section orthogonal to a passing track S of the beam as beam converging means of converting a passing beam B.例文帳に追加

本発明のサイクロトロンは、イオン源から入射されるビームを通過させ加速軌道Ｔに導入するスパイラルインフレクタ２１を備え、スパイラルインフレクタ２１は、通過するビームＢを収束させるビーム収束手段として、ビームの通過軌道Ｓに直交する断面においてギャップを不均一とした正電極２３及び負電極２７を有する。 - 特許庁

The target ion of high purity thus stored is turned aside from the track P, led to a second flight space 6 after being cleaved at a cleaving region 4, and is folded back with a reflector 7 at a position corresponding to the number of mass to be detected with a detector 8.例文帳に追加

こうして蓄積した純度の高い目的イオンを軌道Ｐから離脱させ、開裂領域４で開裂させた後に第２飛行空間６に導入し、反射器７により質量数に応じた位置で折り返して検出器８で検出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing patterned media such as discrete track media to be used for a high-density hard disk (HDD) in an ion injection method, which eliminates deterioration of surface flatness due to a resist residue which remains after removing a resist mask layer.例文帳に追加

高記録密度ハードディスク（ＨＤＤ）等に用いられるディスクリートトラックメディア等のパターンドメディアをイオン注入法において製造する方法において、レジストマスク層除去後に残存するレジスト残りによる表面平坦度の悪化を根絶する。 - 特許庁

Coatings 17a and 17b on excess plane parts are removed by ion milling, and the coating 18 is adjusted in prescribed track width, and then the yoke part of the upper magnetic film is formed so as to be integrated with an upper pole part 20 on the conductive coil and the insulating films by electric plating.例文帳に追加

イオンミリングにより余分な平面部分の被膜１７ａ、ｂを除去し、かつ被膜１８を所定のトラック幅に調整した後、導体コイル及び絶縁層の上に上部磁性膜のヨーク部分を電気めっきにより、上ポール部分２０と一体に形成する。 - 特許庁

To prevent the deterioration of a fuel cell system in advance by knowing a metal ion concentration in a fuel existing in a cartridge before use or immediately after use, and to track factors of the deterioration of system performance by collecting and storing a solution in the cartridge in the cartridge or in a unit even in the case it has been deteriorated.例文帳に追加

カートリッジ内に存在する燃料中の金属イオン濃度を使用前または使用直後に知ることで燃料電池システムの劣化を未然に防ぎ、劣化した場合でも、カートリッジ内の溶液をカートリッジ内部もしくはユニット内に採取・保管しておくことでシステム性能劣化の原因の追及を可能とする。 - 特許庁

The insulation material layers 30 and 30 are provided on a lower electrode layer 22, so that, when the multilayer T1 is subject to grinding formation by ion milling, re- adhesion of material in each layer comprising the multilayer to the side end surfaces T1s and T1s in the widthwise direction of track of the multilayer T1 can be suppressed.例文帳に追加

絶縁材料層３０，３０が下部電極層２２上に設けられることにより、多層膜Ｔ１をイオンミリングなどで削り出し形成するときに、多層膜Ｔ１のトラック幅方向の側端面Ｔ１ｓ，Ｔ１ｓへの、多層膜を構成する各層の材料の再付着を低減することができる。 - 特許庁

After forming the lower pole 1 and the upper pole 2, focused ion beam etching is applied to trim them from the sliding surface to back the depth zero line except their tips 1A, 2A made to fit the recording track in width, to manufacture this head.例文帳に追加

また、下部磁極１及び上部磁極２を形成した後に、下部磁極１及び上部磁極２のうち所定の記録トラック幅となる部分１Ａ，２Ａを除いた部分に対して、収束イオンビームエッチングによりヘッド摺動面から磁気ギャップのデプスゼロラインよりも奥まで後退するようにトリミング処理する工程を行って、上記薄膜磁気ヘッド１０を製造する。 - 特許庁