「irradiation correction」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A height measurement position is shifted from a primary electron irradiation position, and a height correction mechanism is installed to correct height shift due to differences of horizontal position of the height measurement position, the primary electron irradiation position, and time.例文帳に追加

高さ計測位置を一次電子照射位置からずらし，高さ計測位置と一次電子照射位置との水平位置，および時間的な違いによる高さのずれを補正するための高さ補正機構を設ける。 - 特許庁

In the laser machining apparatus, a temperature control means consisting of a heater 5, a temperature measurement unit 6 and a temperature control device 7 is provided on a laser beam irradiation head holding member 1, and the positional correction of a laser beam irradiation head is unnecessary by keeping the temperature of the laser beam irradiation head holding member 1 constant.例文帳に追加

レーザ照射ヘッド保持部材１にヒーター５と温度測定装置６と温度制御装置７からなる温度制御手段を有し、レーザ照射ヘッド保持部材１の温度を一定に保つことにより、レーザ照射ヘッドの位置補正を不要としたレーザ加工装置。 - 特許庁

This switching is performed by predicting a correction quantity with every picture element of respective frames and a correction quantity of the next frame from an image signal of this frame when irradiating the X-ray, and predicting the correction quantity of the next frame from the image signal of this frame when stopping the irradiation of the X-ray.例文帳に追加

この切り替えは、X線照射中の場合は、各フレームの画素毎の補正量と当フレームの画像信号から次フレームの補正量を予測し、X線の照射停止の場合は、当フレームの画像信号から次フレームの補正量を予測することで行う。 - 特許庁

A light irradiation control is performed by a sensor control part 10 and a discharge timing correction is performed by a discharge timing correction part 11 from the detected position of the mark 12 formed on the substrate 3 by a substrate sensor 9.例文帳に追加

基板３に形成されたマーク１２の基板センサ９による検出位置に基づいて、センサ制御部１０による光照射制御と吐出タイミング補正部１１による吐出タイミング補正とを行う。 - 特許庁

Thus correction of positional deviations in the scanning direction, which considerably exceed the distance corresponding to one pixel is easily achieved in the plurality of irradiation regions.例文帳に追加

これにより、複数の照射領域において１画素に相当する距離を大幅に超える走査方向の位置ずれの補正が容易に実現される。 - 特許庁

By changing the reference vehicle height value according to the load state of the vehicle in the initialization processing, the control error of an irradiation light axis correction is reduced.例文帳に追加

初期化処理における車両の荷重状態に応じて基準車高値を変更することで、照射光軸補正に係る制御誤差を低減する。 - 特許庁

To provide a laser light radiation unit of laser light exposure apparatus capable of precisely disposing and fixing an aperture member of a laser light irradiation unit and various correction lenses.例文帳に追加

レーザ光照射ユニットのアパーチャ部材、各種補正レンズを高精度に配置、固定できるレーザ光露光装置のレーザ光照射ユニットを提供すること。 - 特許庁

In the correction power operation part 120, an amount of correction of irradiation power of a recording pulse is calculated by calculating an influence upon the depth β of the record exerted by formation of a mark and a space caused by correction of the recording pulse waveform, and adding the influence to the measured depth β of the record.例文帳に追加

補正パワー演算部１２０は、記録パルス波形の補正によるマークおよびスペースの形成が記録の深さβに及ぼす影響を算出し、測定された記録の深さβにこの影響を加算することにより、記録パルスの照射パワーの補正量を算出する。 - 特許庁

A metal optical molding processing machine (1) comprises a powder layer forming section (2), an irradiating section (3) for irradiation with a light beam (L), a correction target (4) to which a correction mark becoming the reference for correcting the light beam irradiating position is put, and an imaging camera (5) for imaging the position of the correction mark.例文帳に追加

金属光造形加工機１は、粉末層形成部２と、光ビームＬを照射する照射部３と、光ビーム照射位置の補正の基準となる補正用マークが付与される補正用ターゲット４と、補正用マークの位置を撮像する撮像カメラ５と、を備えている。 - 特許庁

To expose a pattern on an object to be exposed by controlling the irradiation light of charged corpuscular beams on the basis of suitably selected correction exposure information and calibration information for correcting the dispersion of irradiation light mutually between charged corpuscular beams.例文帳に追加

適切に選択された補正露光情報と、荷電粒子線相互間で照射光のばらつきを補正するためのキャリブレーション情報とに基づき、荷電粒子線の照射光を制御して被露光体にパターンを露光する。 - 特許庁

The radiation irradiation apparatus can be more stably driven because the quantity of manipulation 101 after correction does not become too large if the positional deviation 100 is large, and further, the radiation irradiation apparatus can be more easily produced by remodeling the control apparatus for controlling the driving device based on the quantity of manipulation 124 before correction.例文帳に追加

位置偏差１００が大きいときに補正後操作量１０１が大きくなり過ぎないために、放射線照射装置をより安定して駆動することができ、さらに、補正前操作量１２４に基づいて駆動装置を制御する制御装置を改造することにより、より容易に生産することができる。 - 特許庁

Furthermore, when the rotational angle of the movable mirror of the scanner 5 is changed to correct the strain of a liquid level at the irradiation of light, correction data, which for an upper stage are different from ones for a lower stages, are employed.例文帳に追加

なお、光照射時における液面の歪みを補正するためにスキャナ５の可動ミラーの回転角を変更する場合は、上下段で異なる補正データを用いる。 - 特許庁

The reflectivity measuring instrument 1 is constituted so that the light from a light source device 3 is guided to a main body part 2 to be passed through a correction filter 5 and condensed to a lens W to be inspected to perform irradiation.例文帳に追加

反射率測定機１は、光源装置３からの光を本体部２に導き、補正フィルタ５を通した後に、被検レンズＷに集光して照射する。 - 特許庁

An optical control unit 1 applies correction processing to projection light data in order to project, from the projector 2, the projection light so as to cover the object to be irradiated with the first irradiation light.例文帳に追加

光制御ユニット１は、第１照射光で被照射物体を覆うような投影光をプロジェクタ２から投影させるため、投影光データに補正処理を行う。 - 特許庁

The brightness correction coefficient is decreased according as the chromaticity of the irradiation light on the CIE1931 chromaticity coordinates is away from the coordinate position of a white color w as a reference.例文帳に追加

輝度補正係数は、照射光の色度がＣＩＥ１９３１色度座標において基準となる白色ｗの座標位置から離れるに連れて小さい値にする。 - 特許庁

Measuring the static posture after the irradiation and correcting the displacement vector, high precision posture correction is made by forming another vector group which constitutes the shortest path.例文帳に追加

単位照射後の静的姿勢を実測し、変位ベクトルを修正して、新たな最短経路を構成するベクトル群を形成して、精度の高い姿勢修正を行う。 - 特許庁

The control part 14 controls the ion irradiation part and the board support part so that ions are irradiated on each of the plurality of regions under a plurality of correction treatment conditions.例文帳に追加

制御部１４は、複数の補正処理条件の下で複数の領域のそれぞれに対してイオンが照射されるようにイオン照射部および基板保持部を制御する。 - 特許庁

The driving device is controlled so that the radiation irradiation apparatus for emitting therapeutic radiation is disposed at the target position based on the quantity of manipulation 101 after correction.例文帳に追加

駆動装置は、補正後操作量１０１に基づいて、治療用放射線を出射する放射線照射装置が目標位置に配置されるように、制御される。 - 特許庁

One deflection angle α as seen from an irradiation center of electron beams and another deflection angle β are to be deflected at different angles, and at the same time, and an image at sample slanting is to be corrected into an image with a sample in a horizontal line without distortion, by combining keystone correction, curved distortion correction, and slanted focus correction.例文帳に追加

電子線の照射中心から見た一方の偏向角度αともう一方の偏向角度βを異なる角度で偏向できるようにするとともに、台形補正、湾曲歪補正、傾斜焦点補正と組合せることにより、試料傾斜時の像を試料水平時の像に歪み無く補正する。 - 特許庁

The corrected exposure data D200 includes the information which regulates the position of an exposure shut-off pattern to shut off irradiation and the position of a density correction pattern to correct the pattern density.例文帳に追加

前記補正された露光データＤ２００は照射を遮断する露光遮断パターンの位置とパターン密度を補正する密度補正パターンの位置を規定する情報とを含むように用意する。 - 特許庁

Especially, the image forming apparatus includes a correcting means for correcting the correction amount according to the delay of follow-up ability to the target rotating speed of a driving motor in the rotating irradiation means.例文帳に追加

とりわけ、本装置は、回転照射手段における駆動モータの目標回転速度に対する追従性の遅れに応じて補正量を修正する修正手段を含む。 - 特許庁

Further, the susceptor 3 is lowered from the light irradiation position to a carry-out position for the wafer and then the correction pin 13 gradually moves in toward the mounting surface 3a as the susceptor 3 is lowered.例文帳に追加

また、サセプタ３を光の照射位置からウェハＷの搬出位置まで下降させると、その下降に伴って補正ピン１３が載置面３ａに徐々に進入してくる。 - 特許庁

To provide drift correction method and apparatus in FIB (Focused Ion Beam) automatic processing, which can make accurate correction for rotation even if the rotation happens in an irradiation position of a test piece.例文帳に追加

本発明はＦＩＢ自動加工時のドリフト補正方法及び装置に関し、試料照射位置に回転が生じた場合でもこの回転の補正を正確に行なうことができるＦＩＢ自動加工時のドリフト補正方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To accurately perform various corrections for electronic beam to be carried out in relation to an irradiation position of electron beam such as tilt correction by a sub-deflector by conforming a scanning means side coordinate system of an irradiation position on a mask of electron beam in an electron beam proximity aligner to a mask coordinate system thereof.例文帳に追加

電子ビーム近接露光装置における電子ビームのマスク上照射位置の走査手段側座標系とマスク座標系とを一致させることにより、前記副偏向器による傾き補正等の、電子ビームの照射位置に関して行う電子ビームの各種補正を正確に行う。 - 特許庁

A synchronization correction processing section 106 obtains differences among the timings at which the irradiation of light is detected by the light irradiation detecting section 105 between each of the partial regions, and corrects the temporal axes of the pieces of sampled data within the element data memory 108, based on the obtained timing differences between the partial regions.例文帳に追加

同期補正処理部１０６は、光照射検出部１０５が光が照射されたことを検出したタイミングの差を部分領域間で求め、求めたタイミング差に基づいて、素子データメモリ１０８におけるサンプリングデータの時間軸を部分領域間で補正する。 - 特許庁

In the X-ray diagnostic equipment, the correction factor of sensitivity is calculated on the basis of the sensitivity characteristics of each pixel or offset characteristics when the temporary lowering of sensitivity is generated or the temporary rising of offset is generated by the irradiation with a large quantity of X-rays, and the correction of data is performed.例文帳に追加

多いＸ線量にてＸ線照射が行われ、一時的な感度の低下、あるいは一時的なオフセットの上昇が生じた場合に、各画素の感度特性、或いはオフセット特性に基づいて感度補正係数を算出し、データ補正を行うＸ線診断装置である。 - 特許庁

The method comprises: a rectangle approximation step S30 of approximating a planned pattern by rectangles to generate a rectangle approximation pattern; steps S40, S50 of generating a first correction pattern based on the rectangle approximation pattern; and a step S60 of generating an irradiation pattern by enlarging the first correction pattern by a process bias Δ.例文帳に追加

計画パターンを、矩形により近似して矩形近似パターンを生成する矩形近似工程Ｓ３０と、矩形近似パターンに基いて第１補正パターンを生成する工程Ｓ４０，Ｓ５０と、第１補正パターンを、プロセスバイアスΔだけ拡大させて、照射パターンを生成する工程Ｓ６０と、を具備する。 - 特許庁

Next, from the continuous value obtained by fitting the discrete value of the dimension and the amount of irradiation, the relation of a proximity effect correction coefficient and the dimension is found for every plural patterns with different area densities, the proximity effect correction coefficient in which the dimensional difference between the patterns becomes the minimum is found from this relation.例文帳に追加

次に、寸法と照射量の離散値をフィッティングして得られる連続的な値から、面積密度の異なる複数のパターン毎に近接効果補正係数と寸法との関係を求め、この関係からパターン間における寸法の差が最小となる近接効果補正係数を求める。 - 特許庁

In this X-ray diagnostic system, when a temporary reduction in sensitivity or a temporary rise in offset value occurs after a large volume of X-ray irradiation is given, the data correction is made by acquiring a sensitivity correction factor from the sensitivity characteristics or offset characteristics of each pixel.例文帳に追加

多いＸ線量にてＸ線照射が行われ、一時的な感度の低下、あるいは一時的なオフセットの上昇が生じた場合に、各画素の感度特性、或いはオフセット特性に基づいて感度補正係数を算出し、データ補正を行うＸ線診断装置である。 - 特許庁

In this repair method, irradiation of charged particle beam is selectively performed at least two times to a black defect part 13 generated on the transfer pattern, and correction of the transfer pattern is performed.例文帳に追加

このリペア方法は、該転写パターンに生じた黒欠陥部１３に少なくとも２回の荷電粒子線の照射を選択的に行うことにより該転写パターンの修正を行うものである。 - 特許庁

To provide an electrically charged particle beam drawing method and an electrically charged particle beam drawing device that draw a desired pattern by performing correction processing with an amount of irradiation corresponding to a film thickness of a resist film.例文帳に追加

レジスト膜の膜厚に応じた照射量の補正処理を行い、所望のパターンを描画することのできる荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To prevent a film formation from fine particles produced in a laser CVD as a CVD nucleus and the film edge from swelling outside the laser irradiation pattern in a conventional correction method of fine clear defect.例文帳に追加

従来び白欠陥の修正方法では、レーザＣＶＤ時に生成した微粒子がＣＶＤの核となり膜が形成され、レーザ光の照射形状の外側に膜のエッジが膨らんでしまう。 - 特許庁

To shorten the time required for an exposure stage by controlling exposure position correction and timing of irradiation with exposure light without forming a two-dimensional image based upon a linear image.例文帳に追加

一次元画像に基づいて二次元画像を作成することなく露光位置補正の制御及び露光光の照射のタイミングの制御をすることによって、露光工程の時間短縮を可能とする。 - 特許庁

In writing a field F5, not only electron beam irradiation data to the field F5, but also electron beam irradiation data to eight fields (F1-F4 and F6-F9) adjoining the field F5 are supplied from a control CPU to a data transfer circuit for proximity effect correction and stored in a data memory incorporated in the transfer circuit.例文帳に追加

フィールドＦ５の描画を行う場合には、制御ＣＰＵから近接効果補正用データ転送回路には、フィールドＦ５への電子ビーム照射データのみならず、フィールドＦ５に隣接する８つのフィールド（Ｆ１〜Ｆ４，Ｆ６〜Ｆ９）の電子ビーム照射データが供給され、内部のデータメモリ内に格納される。 - 特許庁

The patterning step for applying an electron beam is provided with a correction step for changing a way of irradiation (irradiation quantity and position) of the electron beam in the respective areas where the structural body of a first wiring layer 1 forming a lower wiring structure exists, in consideration of the structural body on alignment in advance.例文帳に追加

電子線を照射するパターニング工程は、下層配線構造を形成する第一配線層１等の構造体の各々が露光に与える影響を予め考慮し、上記構造体の各々の存在領域それぞれについて、上記電子線の照射の仕方（照射量や照射位置等）を変える補正ステップを有する。 - 特許庁

Ring-shaped magnets 25 are arranged at the treatment chamber 20, and a correction magnetic field MF for introducing the flow of the ECR plasma (plasma flow P) introduced into the treatment chamber from the irradiation magnetic field into the surface α of the target 21 is generated.例文帳に追加

処理室２０には、リング状磁石２５を配設し、発散磁場により処理室に導入されたＥＣＲプラズマの流れ（プラズマ流Ｐ）をターゲット２１の表面αへ導くための補正磁場ＭＦを生成する。 - 特許庁

Excessive correction or the like is prevented by changing the irradiation direction of the lamp unit 2 or the lighting state including light extinction or dimming according to a part with occurrence of an abnormality or the like and a part without occurrence of any abnormality or the like.例文帳に追加

そして、異常等が起きている部位及び異常等が起きていない部位に応じてランプユニット２の照射方向又は消灯若しくは減光を含む点灯状態を変化させ、過剰補正等を防止する。 - 特許庁

In the video signal correction circuit of this image display device, corresponding to the information of an irradiation electric charge total amount inputted from an irradiated electric charge total amount value generator 65 and luminance uniformizing information for each luminance uniformizing section inputted from a memory 55, the relation of the light emission luminance of a beam spot to the irradiation time of an electron beam can be changed freely.例文帳に追加

画像表示装置の映像信号補正回路において、照射電荷総量値発生器６５から入力される照射電荷総量の情報及びメモリ５５から入力される輝度均一化区画ごとの輝度均一化情報に応じて、ビームスポットの発光輝度と電子ビームの照射時間の関係を自由に変更できる。 - 特許庁

Nitrogen introduced in the electron defect correction device by a gas introducing system 1 is ionized by α-rays generated by an α-ray source 2 such as polonium, and the ionized nitrogen is irradiated on a portion 4 charged up by the irradiation of electron beams, and destaticizes it.例文帳に追加

ガス導入系１で電子ビーム欠陥修正装置内に導入した窒素をポロニウムのようなα線源２から出るα線で電離し、電離した窒素を、電子ビームの照射でチャージアップした部分４に照射し除電する。 - 特許庁

Otherwise, nitrogen or water vapor introduced in the electron beam defect correction device by the gas introducing system 1 is ionized by soft X-rays and the ionized nitrogen or vapor is irradiated on the portion charged up by the irradiation of the electron beams, and destaticizes it.例文帳に追加

またはガス導入系１で電子ビーム欠陥修正装置内に導入した窒素または水蒸気を軟X線で電離し、電離した窒素または水蒸気を、電子ビームの照射でチャージアップした部分４に照射し除電する。 - 特許庁

A radioactive substance 41 in the radiation source 21 for the reduction correction contains a radioactive isotope such as gadolinium 153 (^153Ga) for emitting an irradiation gamma ray having energy of energy in a Compton end 52 or less concerned in the annihilation gamma ray.例文帳に追加

減弱補正用線源２１内の放射性物質４１は、消滅ガンマ線に係るコンプトン端５２のエネルギー以下のエネルギーを有する照射ガンマ線を放射する、ガドリニウム１５３（^１５３Ｇｄ）などの放射性同位元素を含有する。 - 特許庁

An error diffusion processing part to which gradation data at every pixel is supplied and generates image forming data on the irradiation of a beam by an error diffusion method, and an image forming data correction part correcting the image forming data in accordance with information on dots of the peripheral pixels are installed.例文帳に追加

本発明は、電子写真の画像処理装置に誤差拡散方式を使用し、誤差拡散方式により生成された画像形成データを、不必要な近接ドットどうしの合体を抑えるように補正を加える。 - 特許庁

This photoelectric transducer includes a photoelectric transducing circuit consisting of a 1st photodiode which performs the photoelectric transduction of irradiated light to generate a detection signal, a reference circuit which generates a detection signal of the photoelectric transducing circuit in a non- irradiation mode and a correction circuit which performs dark correction of the detection signal of the photoelectric transducing circuit in accordance with the detection signal of the reference circuit.例文帳に追加

照射光を光電変換し検出信号を生成する第１のフォトダイオードからなる光電変換回路と、非照射時における光電変換回路の検出信号を生成する参照回路と、参照回路の検出信号に基づき光電変換回路の検出信号の暗補正を行う補正回路とを備える。 - 特許庁

The image forming apparatus includes a variation detection means for detecting the periodical variation of the rotating speed in the subscanning direction of the rotating holding means, and a correction amount decision means for deciding the correction amount of the rotating speed of the rotating irradiation means so as to reduce the elongation and contraction of the image on the recording material caused by the periodical variation of the rotating speed.例文帳に追加

本装置は、回転保持手段の副走査方向における周期的な回転速度の変動を検出する変動検出手段と、周期的な回転速度の変動に起因する記録材上での画像の伸縮を軽減するよう回転照射手段における回転速度の補正量を決定する補正量決定手段とを含む。 - 特許庁

To provide a black defect correction technique which can cleanly correct black defect in fine patterns in black defect correction of a mask without causing the riverbed in black defect correction of the mask, does not exert damage by ion irradiation to the mask surface, is relatively simple in the device to be used without enlarging and enables the relatively simple conduction of the work, and to provide the device capable of executing such technique.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、マスクの黒欠陥修正においてリバーベッドができず、微細なパターンにおける黒欠陥でもきれいに修正が可能で、マスク表面にイオン照射によるダメージを与えることもなく、しかも用いる装置が比較的シンプルで大型化せず、作業も比較的単純に行うことができる黒欠陥修正手法を提示すると共に、そのような手法を実行できる装置を提供することにある。 - 特許庁