Plasma oscillationとは 意味・読み方・使い方

Active species are generated in the remote plasma discharge chamber by prescribed high-frequency oscillation output energy, the piping 14 is formed of anticorrosive material high in resistance to active species, a high-frequency oscillation output of 400 kHz is used, so that the remote plasma discharge chamber can be formed of anodized Al alloy.例文帳に追加

遠隔プラズマ放電室で所定周波数の高周波発振出力エネルギーにより活性種が生成され、配管は活性種に対し耐食性材料から作製され、４００ｋＨｚの高周波発振出力を使用したので、遠隔プラズマ放電室は陽極酸化されたＡｌ合金で製造できた。 - 特許庁

An oscillation frequency in conformity with the resonance frequency of the cavity resonator when the plasma 18 is ignited by installing a high frequency power supply 2, and a tuner 7 is configured to obtain consistency of the high frequency power supply 2 with the chamber 5 in which the plasma 18 is ignited at the oscillation frequency of the high frequency power supply 2.例文帳に追加

高周波電源２を設けてプラズマ１８が着火した際の空洞共振器の共振周波数に一致した発振周波数を供給し、チューナー７は高周波電源２の発振周波数において高周波電源２とプラズマ１８が着火したチャンバー５との整合をとるように設定する。 - 特許庁

To provide a plasma generation device in which a frequency of a resonance frequency of a hollow resonator and a frequency of high-frequency oscillation source are made to be coincided with, utilization efficiency of high frequency electric power is improved, low electric power consumption of the high-frequency oscillation source is realized, and reduction of running cost and improvement of safety is realized.例文帳に追加

空洞共振器の共振周波数と高周波発振源の周波数を一致させ、高周波電力の利用効率が向上し、高周波発振源の低電力化が図られ、ランニングコストの削減、安全性の向上が図れるプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

It is possible to reduce only a film growing speed and an etching speed for making a film by using a pulsed plasma CVD method with a duty ratio of 20-70% compared to a conventional CVD method with continuous oscillation.例文帳に追加

本発明ではデューティー比２０〜７０％でパルスプラズマＣＶＤ法による成膜を行うことで、通常の連続発振の場合に比べて成膜速度、エッチング速度のみを遅くすることができる。 - 特許庁

To provide a vapor laser apparatus which can start the laser oscillation in a short time, does not require such a high voltage as several tens of kV for the plasma power supply, and has a high output and excellent stability.例文帳に追加

短時間でレーザ発振を開始することができ、またプラズマ電源に数十ｋＶというような高電圧を要せず、しかも高出力で安定性に優れた蒸気レーザ装置を提供する。 - 特許庁

The frequency of the pulse is the one equal to or below the oscillation frequency of the ions in the plasma P, the pulse cycle T, pulse width (t) and pulse height (h) are controlled at a control part 62 in such a manner that the incidence of the ions is made optimum.例文帳に追加

パルスの周波数はプラズマＰ中のイオンの振動周波数以下であり、パルス周期Ｔ、パルス幅ｔ、パルス高さｈはイオン入射が最適化されるよう制御部６２で制御される。 - 特許庁

A method and apparatus for grounding a semiconductor substrate pedestal during a portion of a high-voltage power bias oscillation cycle to reduce or eliminate the detrimental effects of the feature charging during the operation of a plasma reactor.例文帳に追加

半導体基板のペデスタルを高電圧パワーバイアス振動サイクルの一部において接地し、それにより、プラズマリアクタ動作中のフィーチャー帯電の有害な作用を低減または排除するための方法および装置。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel equipped with a baking process capable of well baking a panel structural body by alleviating oscillation and shock exerted on the panel structural body during conveyance, in the backing process of the plasma display panel of baking a substrate equipped with the panel structural body while conveying it.例文帳に追加

パネル構造物を設けた基板を搬送しながら焼成するプラズマディスプレイパネルの焼成方法において、搬送中にパネル構造物に対して発生する振動や衝撃を軽減することで、パネル構造物を良好に焼成できる焼成工程を備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現することを目的とする。 - 特許庁