「Plasma oscillation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a frequency adjustment apparatus for measuring a resonance frequency of a crystal resonator while generating a plasma on the surface of the crystal resonator, the apparatus that can effectively suppress intrusion of a spike noise in excess of a withstanding voltage of an electronic member used in oscillation circuit caused by the produced plasma into the oscillation circuit.例文帳に追加

水晶振動子表面上にプラズマ発生させながらその共振周波数を測定する周波数調整装置において、プラズマ発生に起因する耐圧を超えるスパイクノイズが発振回路に入り込むのを効果的に抑制する。 - 特許庁

To stably supply high-frequency power to a plasma electrode from a plurality of parts in the form of a pulse even when an individual difference is present in an unstable oscillation condition at the rise of a pulse of a crystal oscillation element.例文帳に追加

水晶発振素子のパルスの立ち上がり時の不安定な発振状態に固体差がある場合においても、プラズマ電極への高周波の給電を複数個所から安定してパルス的に行うこと。 - 特許庁

Active species are generated in the remote plasma discharge chamber by prescribed high-frequency oscillation output energy, the piping 14 is formed of anticorrosive material high in resistance to active species, a high-frequency oscillation output of 400 kHz is used, so that the remote plasma discharge chamber can be formed of anodized Al alloy.例文帳に追加

遠隔プラズマ放電室で所定周波数の高周波発振出力エネルギーにより活性種が生成され、配管は活性種に対し耐食性材料から作製され、４００ｋＨｚの高周波発振出力を使用したので、遠隔プラズマ放電室は陽極酸化されたＡｌ合金で製造できた。 - 特許庁

An oscillation frequency in conformity with the resonance frequency of the cavity resonator when the plasma 18 is ignited by installing a high frequency power supply 2, and a tuner 7 is configured to obtain consistency of the high frequency power supply 2 with the chamber 5 in which the plasma 18 is ignited at the oscillation frequency of the high frequency power supply 2.例文帳に追加

高周波電源２を設けてプラズマ１８が着火した際の空洞共振器の共振周波数に一致した発振周波数を供給し、チューナー７は高周波電源２の発振周波数において高周波電源２とプラズマ１８が着火したチャンバー５との整合をとるように設定する。 - 特許庁

To provide a plasma generation device in which a frequency of a resonance frequency of a hollow resonator and a frequency of high-frequency oscillation source are made to be coincided with, utilization efficiency of high frequency electric power is improved, low electric power consumption of the high-frequency oscillation source is realized, and reduction of running cost and improvement of safety is realized.例文帳に追加

空洞共振器の共振周波数と高周波発振源の周波数を一致させ、高周波電力の利用効率が向上し、高周波発振源の低電力化が図られ、ランニングコストの削減、安全性の向上が図れるプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

It is possible to reduce only a film growing speed and an etching speed for making a film by using a pulsed plasma CVD method with a duty ratio of 20-70% compared to a conventional CVD method with continuous oscillation.例文帳に追加

本発明ではデューティー比２０〜７０％でパルスプラズマＣＶＤ法による成膜を行うことで、通常の連続発振の場合に比べて成膜速度、エッチング速度のみを遅くすることができる。 - 特許庁

To provide a vapor laser apparatus which can start the laser oscillation in a short time, does not require such a high voltage as several tens of kV for the plasma power supply, and has a high output and excellent stability.例文帳に追加

短時間でレーザ発振を開始することができ、またプラズマ電源に数十ｋＶというような高電圧を要せず、しかも高出力で安定性に優れた蒸気レーザ装置を提供する。 - 特許庁

The frequency of the pulse is the one equal to or below the oscillation frequency of the ions in the plasma P, the pulse cycle T, pulse width (t) and pulse height (h) are controlled at a control part 62 in such a manner that the incidence of the ions is made optimum.例文帳に追加

パルスの周波数はプラズマＰ中のイオンの振動周波数以下であり、パルス周期Ｔ、パルス幅ｔ、パルス高さｈはイオン入射が最適化されるよう制御部６２で制御される。 - 特許庁

A method and apparatus for grounding a semiconductor substrate pedestal during a portion of a high-voltage power bias oscillation cycle to reduce or eliminate the detrimental effects of the feature charging during the operation of a plasma reactor.例文帳に追加

半導体基板のペデスタルを高電圧パワーバイアス振動サイクルの一部において接地し、それにより、プラズマリアクタ動作中のフィーチャー帯電の有害な作用を低減または排除するための方法および装置。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel equipped with a baking process capable of well baking a panel structural body by alleviating oscillation and shock exerted on the panel structural body during conveyance, in the backing process of the plasma display panel of baking a substrate equipped with the panel structural body while conveying it.例文帳に追加

パネル構造物を設けた基板を搬送しながら焼成するプラズマディスプレイパネルの焼成方法において、搬送中にパネル構造物に対して発生する振動や衝撃を軽減することで、パネル構造物を良好に焼成できる焼成工程を備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現することを目的とする。 - 特許庁

This element analyzer for analyzing an element concentration included in a sample 16 has a laser light oscillation device 1 for generating pulse laser light 3 generating plasma light 21 when being irradiated to the sample 16, and an analysis head 51.例文帳に追加

試料１６に含有される元素濃度を分析する元素分析装置は、試料１６に照射するとプラズマ光２１が発生するパルスレーザ光３を生成するレーザ光発振装置１および分析ヘッド５１を有する。 - 特許庁

Further, the oscillation frequency of a high-frequency oscillation machine 12 for supplying a sinusoidal high-frequency voltage to the counter electrodes 2 is made to follow up the resonance frequency of a load side resonance circuit by a PLL (Phase Locked Loop) circuit 15 to prevent the distortion of the supply voltage and to suppress the generation of the microarcs by a steep noise component, thereby continuously forming the stable plasma.例文帳に追加

さらに、対向電極２に正弦波高周波電圧を供給する高周波発振機１２の発振周波数を、ＰＬＬ回路１５によって負荷側共振回路の共振周波数に追従させ、供給電圧の歪を防止し、急峻なノイズ成分によるマイクロアークの発生を抑止し、安定したプラズマを継続的に生成する。 - 特許庁

To supply electric power from an electric power source with high transfer efficiency by adjusting the oscillation frequency of a high-frequency power source following to fluctuation of load impedance in a high-frequency resonator such as plasma processing equipment.例文帳に追加

プラズマ処理装置などの高周波共振装置の負荷インピーダンスの変動に追従して高周波電源の発振周波数を整合させることにより、高い転送効率で電源から電力を供給させ得る周波数整合器を提供する。 - 特許庁

In an arithmetic processing circuit of a frequency matching unit, relationship data between supply power and a plasma resonance frequency and relationship data between the electric property of a vacuum chamber and an oscillation frequency on a power supply side are previously stored by utilizing a storage part.例文帳に追加

周波数整合器の演算処理回路には、記憶部を利用し、供給電力とプラズマの共振周波数の関係データ、および、真空チャンバーの電気的特性と電源側の発振周波数の関係データが予め記憶される。 - 特許庁

This gas concentration measuring device comprises at least a plurality of gas sensor elements formed respectively by coating a plasma polymer coating on the surface of a piezoelectric element, oscillation circuits including each gas sensor element respectively, a programmable compound logic element for measuring a reference frequency of each oscillation circuit, an integration circuit element for peripheral apparatus connection control for receiving an output signal outputted based on the reference frequency from the programmable compound logic element.例文帳に追加

本発明のガス濃度測定装置は、圧電素子の表面にプラズマ重合体被膜が被覆された、複数のガスセンサー素子と、該ガスセンサー素子の各々を含む発振回路と、該各々の発振回路の基準周波数を測定するプログラム可能な複合論理素子と、該プログラム可能な複合論理素子が基準周波数を基にして出力する出力信号を受け取る周辺機器接続制御用集積回路素子とから少なくともなる。 - 特許庁

An apparatus for detecting the termination of the process includes a detecting means for detecting the frequency of the high-frequency power supplied to the plasma treatment apparatus 1, and an operation processing means for analyzing detected frequency data and judging the termination of the process on the basis of the rate of change of the oscillation frequency.例文帳に追加

また、プロセス終了検出装置は、プラズマ処理装置（１）に供給される高周波電力の発振周波数を検出する周波数検出手段と、検出された周波数データを解析し且つ発振周波数の変化率に基づいてプロセスの終了を判別する演算処理手段とを備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing the piezoelectric oscillator comprises, after a step of forming an electronic circuit that includes an oscillation circuit, and packaging the semiconductor device with no protecting resin film formed thereon by flip chip bonding method in a second recessed part, a step of washing the area charging an under-fill with plasma, and a step of then charging the under-fill with an under-fill resin material.例文帳に追加

圧電発振器の製造方法において、第二の凹部に、発振回路を含む電子回路を形成し且つ裏面に保護樹脂膜が形成されていない半導体素子をフリップチップボンディング法により搭載する工程の後に、プラズマによりアンダーフィルを充填する領域を洗浄する工程を具備し、その後アンダーフィル樹脂材を充填する工程を具備することを特徴とする圧電発振器の製造方法。 - 特許庁