Rmpとは 意味・読み方・使い方

To provide a technology capable of avoiding the occurrence of a blackout even while a device key and a work key are updated (acquired) in a new RMP system.例文帳に追加

新ＲＭＰ方式において、デバイス鍵及びワーク鍵を更新（取得）している間であってもブラックアウトの発生を回避することができる技術を提供する。 - 特許庁

The change racket display means RMP selects a changeable and the displayed usable racket based on the racket exchange command from the input means, and sets it as a racket to be used for the game.例文帳に追加

交換ラケット表示手段ＲＭＰは、入力手段からのラケット交換指令に基づいて、上記表示された交換使用可能なラケットを選択し、試合に使用するラケットとして設定する。 - 特許庁

A contents user side can decode and utilize contents, regardless of their PMP systems, on the same contents receiver only by preparing a plurality of functions corresponding to the respective RMP systems.例文帳に追加

コンテンツ利用者側では、各々のＲＭＰ方式に対応した機能を複数用意しておくだけで、どのようなＲＭＰ方式に基づくコンテンツであっても、同じコンテンツ受信機上で復号化して利用に供することができる。 - 特許庁

A PC 100 receives profit data from a server 200, expense data from a server 300, and hospital management index data from a server 400, respectively, and calculates cost per personnel cost on the basis of the profit data and the expense data, to obtain an RMP and RIP.例文帳に追加

ＰＣ１００は、サーバ２００から収益データ、サーバ３００から経費データ、及びサーバ４００から病院経営指標データをそれぞれ受信し、収益データ及び経費データに基づいて人件費当たりの原価計算を行い、ＲＭＰ及びＲＩＰを算出する。 - 特許庁

Especially, the rubber kneading method is preferably used in the rough kneading of a raw material rubber, the compounding amount of a peptizer is controlled on the basis of a viscosity value obtained by measuring Mooney viscosity prescribed in JIS K6300 under a condition that a temperature is 60°C and the (L-type) number of rotations of a rotor is 6 rmp before rough kneading.例文帳に追加

特に、原料ゴムの素練りにおいて、該素練り前にＪＩＳ Ｋ６３００に規定するムーニー粘度を温度６０℃、ローター（Ｌ型）回転数６ｒｐｍの条件で実測した粘度値に基づき、上記嚼解剤（ペプタイザー）の配合量を制御するゴムの混練方法に好適に適用される。 - 特許庁

When the products are treated for removal, the chuck 58 is rotated at a rotational speed of 100 to 3,000 rmp, the first nozzle 41 supplies a liquid at 50 ml/min or higher, to the surface of the substrate W held at the chuck 58 and is then rotated.例文帳に追加

反応生成物の除去処理時には、スピンチャック５８は毎分１００回転以上３０００回転以下の回転数で回転し、第１ノズル４１はスピンチャック５８に保持されて回転する基板Ｗの表面に毎分５０ミリリットル以上の除去液を供給する。 - 特許庁