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AI2の意味・使い方・読み方 | Weblio英和辞書
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AI2とは 意味・読み方・使い方

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遺伝子名称シソーラスでの「AI2」の意味

AI2

yeast遺伝子名AI2
同義語(エイリアス)Putative COX1/OXI3 intron 2 protein; aI2; maturase aI2; Q0055; intron-specific reverse transcriptase activity
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P03876
EntrezGeneのIDEntrezGene:854594
その他のDBのIDSGD:S000007262

本文中に表示されているデータベースの説明

SWISS-PROT
スイスバイオインフォマティクス研究所欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発運営されているタンパク質アミノ酸配列データベース
EntrezGene
NCBIによって運営されている遺伝子データベース染色体上の位置配列発現構造機能、ホモロジーデータなどが含まれている
SGD
スタンフォード大学医学部運営されている出芽酵母の一種Saccharomyces cerevisiae生態遺伝子情報に関するデータベース

「AI2」を含む例文一覧

該当件数 : 6



例文

A coding address generator 71 for writing generates an address AI2 that changes successively according to a supplied clock CKI for writing and supplies AI2 to a memory core 1.例文帳に追加

書込み用コード化アドレス発生器71は、供給される書込み用クロックCKIに従って順次変化するアドレスAI2を発生し、このAI2をメモリコア1に供給する。 - 特許庁

A proper memory cell is accessed according to the AI2 by an address decoder 31 for writing in the memory core 1.例文帳に追加

メモリコア1内の書込み用アドレスデコーダ31により、AI2に従って適切なメモリセルがアクセスされる。 - 特許庁

Thereafter, the substrate W is made to pass through the flow area AI2 of IPA vapor and the flow area AN2 of nitrogen gas in this sequence so as to be dried out as the substrate W is pulled up in one direction.例文帳に追加

その後基板Wを、IPA蒸気の気流域AI2、窒素ガスの気流域AN2の順で通過させつつ、一方向に引き揚げ、乾燥させる。 - 特許庁

It is determined whether an exhaust valve closing angle Ae exceeds a second intake valve opening angle Ai2 by a middle lift cam 22b or not, and a low lift cam 22a is selected in a step S4 when the determination is No.例文帳に追加

排気閉弁角Aeが中リフトカム22bによる第2吸気開弁角Ai2を超えているか否かを判定し、この判定がNoであれば、ステップS4で低リフトカム22aを選択する。 - 特許庁

In this case, a coded one is generated as the address AI2 by using the Gray code or the like so that the number of bits changing between adjacent addresses becomes smaller than an address due to a simple ascending order or the like.例文帳に追加

この際に、アドレスAI2として、隣接するアドレス間で変化するビット数が単純な昇順等によるアドレスよりも少なくなるように,例えばグレイコードを使用してコード化されたものを発生させるようにする。 - 特許庁

例文

IPA vapor and nitrogen gas start to be supplied from a first supply nozzle 240 and a second supply nozzle 250 respectively while the substrate W is cleaned in the other equipment, and a flow area AI2 of IPA vapor and a flow area AN2 of nitrogen gas are formed.例文帳に追加

他装置における基板Wの洗浄処理中に第1供給ノズル240および第2供給ノズル250から、それぞれIPA蒸気および窒素ガスの供給を開始し、IPA蒸気の気流域AI2および窒素ガスの気流域AN2を形成する。 - 特許庁

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